本实用新型专利技术公开了一种比色皿测量用真空低温装置，包括样品仓、底板、真空制冷仓和上法兰组件，样品仓上下两端分别密封连接真空制冷仓和底板，样品仓内设置放置比色皿的样品台，样品仓在样品台的前后两侧对称开设有石英窗口；真空制冷仓的顶部开口密封连接上法兰组件，上法兰组件包括法兰密封基板和设置在法兰密封基板上的真空抽口、液氮接头和放气阀，液氮接头外端连接液氮供应单元内端连接有制冷内仓，制冷内仓底部设置有制冷头，制冷头底部通过导热铜带连接样品台。本实用新型专利技术比色皿测量用真空低温装置，能够为测试样品提供真空低温环境，为获得样品的低温环境下物性变化规律提供了条件。提供了条件。提供了条件。
【技术实现步骤摘要】
一种比色皿测量用真空低温装置
[0001]本技术涉及比色皿测量
，尤其涉及一种比色皿测量用真空低温装置。
技术介绍
[0002]比色皿是一种用于光谱分析的装备仪器。其主要是由石英粉烧制的石英比色皿，也有微量、半微量、荧光等比色皿出现。在对一些特定的样品进行光谱分析时，需要将比色皿放置到真空低温环境下进行打光测试，以观察低温环境下样品物性的变化规律。
[0003]因此，需要针对上述需求开发一种比色皿测量用真空低温装置。
技术实现思路
[0004]本技术的目的是提供一种比色皿测量用真空低温装置，能够为测试样品提供真空低温环境，为获得样品的低温环境下物性变化规律提供了条件。
[0005]为解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案：
[0006]本技术一种比色皿测量用真空低温装置，包括样品仓、底板、真空制冷仓和上法兰组件，所述样品仓上下两端分别密封连接所述真空制冷仓和底板，所述样品仓内设置放置比色皿的样品台，所述样品仓在所述样品台的前后两侧对称开设有石英窗口；所述真空制冷仓的顶部开口密封连接所述上法兰组件，所述上法兰组件包括法兰密封基板和设置在所述法兰密封基板上的真空抽口、液氮接头和放气阀，所述液氮接头外端连接液氮供应单元内端连接有制冷内仓，所述制冷内仓底部设置有制冷头，所述制冷头底部通过导热铜带连接所述样品台。
[0007]进一步的，所述样品台的中部连板上设置有透光孔，所述透光孔位置对应着所述比色皿测试光面且对应着所述石英窗口，所述样品台顶端开设有用于连接所述导热铜带的铜带插槽。
[0008]进一步的，所述样品台中部连板上还开设有让位槽，所述让位槽位置放置所述比色皿的装卡头部；所述中部连板上还设置有第一传感器孔，所述样品台顶部开设有第一加热棒孔，所述第一传感器孔中安装温度传感器，所述第一加热棒孔内安装加热棒；所述温度传感器和加热棒通过导线连接到第二航空插座，所述第二航空插座设置在所述法兰密封基板上。
[0009]进一步的，所述制冷头上开设有第二加热棒孔和第二传感器孔，所述第二加热棒孔内设置加热棒，所述第二传感器孔内设置温度传感器，所述温度传感器和加热棒通过导线连接到所述第二航空插座。
[0010]进一步的，还包括设备仓和移动平台，所述设备仓密封设置在所述样品仓和底板之间，所述移动平台设置在所述设备仓内，所述移动平台顶部设置能够平移的隔热支架，所述样品台底板固定连接在所述隔热支架顶板上。
[0011]进一步的，所述移动平台在横向和纵向两个水平方向驱动所述隔热支架。
[0012]进一步的，所述隔热支架采用聚四氟乙烯板材搭建成型。
[0013]进一步的，所述样品仓在与所述石英窗口相邻的两个侧壁上设置有通过螺栓连接的侧盖。
[0014]与现有技术相比，本技术的有益技术效果：
[0015]本技术一种比色皿测量用真空低温装置，通过在密闭的样品仓上连接真空制冷仓和上法兰组件，真空制冷仓内液氮气化降低温度，真空抽口抽取腔体内空气达到要求真空度，能够给样品仓内样品台提供真空低温环境；通过导热铜带传递冷量，传导效率高，降温速度快。本技术比色皿测量用真空低温装置，能够为测试样品提供真空低温环境，为获得样品的低温环境下物性变化规律提供了条件。
[0016]此外，通过在样品台的中部连板上设置透光孔，便于穿过光谱仪的测试光线，同时便于装卡比色皿。通过在样品台和制冷头上安装加热棒和温度传感器，温度低的情况下加热棒能够升温，能够调整温度到测试范围内，满足测量设定条件。通过移动平台的设置，能够移动隔热支架，带动样品台发生位置变化，进而能够对比色皿不同部位进行打光测量。通过聚四氟乙烯板材搭建的隔热支架设置，聚四氟乙烯材质耐低温性能和隔热性能好，能够降低样品台冷量向下传递，降低了冷量损失。通过可拆卸侧盖的设置，便于放置、取出比色皿，同时能够对样品台进行取出维护。
附图说明
[0017]下面结合附图说明对本技术作进一步说明。
[0018]图1为本技术比色皿测量用真空低温装置立体结构示意图；
[0019]图2为本技术比色皿测量用真空低温装置主视结构示意图；
[0020]图3为本技术比色皿测量用真空低温装置右视结构示意图；
[0021]图4为图2中A
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A部位剖视结构示意图；
[0022]图5为图3中B
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B部位剖视结构示意图；
[0023]图6为本技术的样品台立体结构示意图。
[0024]附图标记说明：1、样品仓；101、侧盖；102、石英窗口；103、压板框；2、设备仓；201、第一航空插座；3、底板；4、真空制冷仓；5、上法兰组件；501、真空抽口；502、液氮接头；503、放气阀；504、第二航空插座；6、移动平台；601、隔热支架；7、样品台；701、透光孔；702、第一加热棒孔；703、让位槽；704、第一传感器孔；705、铜带插槽；8、比色皿；9、导热铜带；10、制冷头；1001、第二加热棒孔；1002、第二传感器孔；11、制冷内仓。
具体实施方式
[0025]本技术的核心是提供一种比色皿测量用真空低温装置，能够为测试样品提供真空低温环境，为获得样品的低温环境下物性变化规律提供了条件。
[0026]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0027]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、
“
顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0028]参考附图，图1为本技术比色皿测量用真空低温装置立体结构示意图；
[0029]图2为本技术比色皿测量用真空低温装置主视结构示意图；图3为本技术比色皿测量用真空低温装置右视结构示意图；图4为图2中A
‑
A部位剖视结构示意图；图5为图3中B
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B部位剖视结构示意图；图6为本技术的样品台立体结构示意图。
[0030]在一具体实施方式中，如图1～5所示，一种比色皿测量用真空低温装置，包括样品仓1、底板3、真空制冷仓4和上法兰组件5，样品仓1上下两端分别密封连接真空制冷仓4和底板3。样品仓1内设置放置比色皿8的样品台7，样品仓1在样品台7的前后两侧对称开设有石英窗口102，石英窗口102作为光谱仪的光线穿入窗口。真空制冷仓4的顶部开口密封连接上法兰组件5，上法兰组件5包括法兰本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种比色皿测量用真空低温装置，其特征在于：包括样品仓(1)、底板(3)、真空制冷仓(4)和上法兰组件(5)，所述样品仓(1)上下两端分别密封连接所述真空制冷仓(4)和底板(3)，所述样品仓(1)内设置放置比色皿(8)的样品台(7)，所述样品仓(1)在所述样品台(7)的前后两侧对称开设有石英窗口(102)；所述真空制冷仓(4)的顶部开口密封连接所述上法兰组件(5)，所述上法兰组件(5)包括法兰密封基板和设置在所述法兰密封基板上的真空抽口(501)、液氮接头(502)和放气阀(503)，所述液氮接头(502)外端连接液氮供应单元内端连接有制冷内仓(11)，所述制冷内仓(11)底部设置有制冷头(10)，所述制冷头(10)底部通过导热铜带(9)连接所述样品台(7)。2.根据权利要求1所述的比色皿测量用真空低温装置，其特征在于：所述样品台(7)的中部连板上设置有透光孔(701)，所述透光孔(701)位置对应着所述比色皿(8)测试光面且对应着所述石英窗口(102)，所述样品台(7)顶端开设有用于连接所述导热铜带(9)的铜带插槽(705)。3.根据权利要求2所述的比色皿测量用真空低温装置，其特征在于：所述样品台(7)中部连板上还开设有让位槽(703)，所述让位槽(703)位置放置所述比色皿(8)的装卡头部；所述中部连板上还设置有第一传感器孔(704)，所述样品台(7)顶部开设有第一加热棒孔(702)，所述第一传...
【专利技术属性】
技术研发人员：古帆，
申请(专利权)人：锦正茂实验仪器河北有限公司，
类型：新型
国别省市：
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