涂布装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种即使在使用限制涂液流路这样的垫片的情况下也能调节涂布装置的主体块体的长度方向的排出流量的涂布装置。涂布装置1具备主体块体10。主体块体10具有涂液导入部40；在一个方向上延伸设置的涂液排出部41；从涂液导入部40导入的涂液所流入的、在一个方向上延伸设置的第1空间部42；使第1空间部42的涂液流向涂液排出部41并且在一个方向上延伸设置的涂液流路43；设于涂液流路43以使该涂液流路43的流路宽度部分拓宽并且在一个方向上延伸设置的第2空间部44；以及在第2空间部44中沿一个方向设置有多个的容积变更部件34，并且各个容积变更部件相对于第2空间部44前进或后退，从而能改变第2空间部44的一个方向上的各部分的容积。部分的容积。部分的容积。

【技术实现步骤摘要】
涂布装置


[0001]本专利技术涉及一种涂布装置。

技术介绍

[0002]在制造二次电池、电容器等电子元件时，存在将涂液涂布于较薄的带状的被涂布材料的工序。在这种涂布工序中，使用被称作模头涂布机(die coater)等的涂布装置。
[0003]上述涂布装置具有主体块体(block)。主体块体具备导入涂液的涂液导入部以及排出涂液的在一个方向上较长的狭缝状的涂液排出部。主体块体在其内部具备歧管以及涂液流路，从涂液导入部导入的涂液流入上述歧管，并且上述歧管在长度方向上较长，上述涂液流路从歧管通向涂液排出部。在歧管内，涂液流量以及涂液压力在长度方向上均匀，涂液通过涂液流路并从涂液排出部排出。
[0004]对于上述涂布装置，在专利文献1中提出了为了将排出量的分布调节为在整个长度方向上均匀，通过横跨涂液流路的一个方向设置进行分隔的多个分隔杆，并使分隔杆前进或后退，从而对每个分隔杆调节涂液流路的间隙量(参见专利文献1)。
[0005]在上述涂布装置中，为了调节涂液流路与涂液排出部中的间隙量，使用夹入于模头(die)主体的板状的垫片(shim)(夹具)。
[0006]为了对应于例如要涂布的位置与不涂布的位置沿被涂布材料的宽度方向交替存在的条纹样式的涂布图案，上述垫片也用于限定上述涂液流路与涂液排出部中的涂液的流路。在这种情况下，垫片构成为例如梳子形状，多个梳齿部分与不排出涂液的区域(无涂液流动的区域)对应，这些梳齿部分之间的空间对应于排出涂液的区域(涂液流动的区域)。专利文献
[0007]专利文献1：日本特开2007
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44643号

技术实现思路

[0008]然而，在使用上述限定涂液的流路的垫片来实现条纹样式的涂布图案的情况下，排列在被涂布材料的宽度方向上的多个涂布部分的膜厚度需要在指定范围内保持一致。因此，为了使多个涂布部分的膜厚度相同，需要调节涂液排出部中的长度方向的排出流量。
[0009]因此，考虑使用上述涂布装置的分隔杆，但在这种情况下，有时会发生垫片的梳齿部分与分隔杆的个数和位置不匹配而相互干扰，分隔杆无法前进或后退，从而不能发挥作用的情况。特别是在根据涂布图案而在涂布装置中使用多种垫片的情况下，必然存在垫片的梳齿部分与分隔杆的个数和位置不匹配的情况，此时，无法调节涂液排出部中的长度方向的排出流量。
[0010]本专利技术是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供一种即使在使用像限制涂液的流路这样的垫片的情况下，也能够调节涂布装置的主体块体的长度方向上的排出流量的涂布装置。
[0011]本专利技术的一个实施方式涉及的涂布装置具备主体块体，主体块体具有涂液导入
部、涂液排出部、第1空间部、涂液流路、第2空间部以及容积变更部件，上述涂液排出部在一个方向上延伸设置，从涂液导入部导入的涂液流入上述第1空间部，并且上述第1空间部在一个方向上延伸设置，上述涂液流路中使第1空间部的涂液流向涂液排出部，并且上述涂液流路在一个方向上延伸设置，上述第2空间部设置于涂液流路，以使该涂液流路的流路宽度部分地拓宽，并且上述第2空间部在一个方向上延伸设置，上述容积变更部件在第2空间部中沿一个方向设置有多个，各个容积变更部件相对于第2空间部前进或后退，从而能够改变第2空间部的一个方向上的各部分的容积。
[0012]根据上述实施方式，由于在涂液流路设置第2空间部，并在该第2空间部设置容积变更部件，因此即使在使用限制涂液的流路这样的垫片的情况下，该垫片与容积变更部件也不会相互干扰，能够调节主体块体的长度方向的排出流量。
[0013]在上述实施方式中，与容积变更部件的涂液的流动方向上的长度相比，第2空间部也可以具有更大的涂液的流动方向上的长度。
[0014]在上述实施方式中，容积变更部件也可以配置于第2空间部的下游侧的端部。
[0015]在上述实施方式中，主体块体也可以具有通至第2空间部的内表面的孔，容积变更部件也可以配置在孔中，并且在从孔至第2空间部内自由地前进或后退。
[0016]在上述实施方式中，主体块体也可以具有相互相向地配置的两个块体部，在两个块体部之间形成有第1空间部、涂液流路、第2空间部以及涂液排出部。
[0017]在上述实施方式中，也可以通过使不同块体部的相向面凹陷而形成第1空间部与第2空间部。
[0018]在上述实施方式中，也可以通过使相同块体部的相向面凹陷而形成第1空间部与第2空间部。
[0019]在上述实施方式中，第1空间部的下游部也可以与第2空间部的上游部重叠。
[0020]在上述实施方式中，第1空间部也可以与第2空间部彼此分离。
[0021]在上述实施方式中，也可以对第2空间部的内表面进行磨光(polishing)处理。
附图说明
[0022]图1为表示涂布装置的使用状态的立体图。图2为涂布装置的分解图。图3为用短边方向的垂直剖面来切断涂布装置的涂布装置的剖视图。图4为表示涂布装置的第1块体部的内表面的图。图5为放大第2空间部附近的垂直剖视图。图6为主体块体的C
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C剖视图。图7为表示配置有垫片的第1块体部的内表面的图。图8为被涂布材料的说明图。图9为表示容积变更部件的动作例的主体块体的C
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C剖视图。图10为在第1空间部与第2空间部重叠的情况下的主体块体的垂直剖视图。图11为在第1空间部第2空间部设置于不同块体部的情况下的主体块体的垂直剖视图。图12为在第1空间部与第2空间部重叠的情况下的主体块体的垂直剖视图。
图13为放大将第2空间部设为矩形的情况下的第2空间部附近的垂直剖视图。图14为放大将第2空间部设为半圆形的情况下的第2空间部附近的垂直剖视图。图15为放大使头部的前端倾斜的情况下的第2空间部附近的垂直剖视图。
具体实施方式
[0023]下面，参照附图，对本专利技术的优选的实施方式进行说明。
[0024]图1为本实施方式涉及的涂布装置1的使用状态的立体图，图2为涂布装置1的分解图。应予说明，在本实施方式中，上、下以图1所示的涂布装置1的姿势为基准。
[0025]如图1所示，涂布装置1具有在一个方向(长度方向Y)上较长的大致长方体形状的主体块体10。主体块体10的下表面具有向下突出以使短边方向X的中央形成为最低并且在长度方向Y上较长的顶部20。如图1和图2所示，主体块体10具有两个块体部(第1块体部30、第2块体部31)、侧板32、垫片33、以及多个容积变更部件34，上述两个块体部在短边方向X的中央被分割为左右两个部分，上述侧板32设置于主体块体10的长度方向Y的两侧面，上述垫片33作为位于第1块体部30与第2块体部31之间的夹具。如图1所示，第1块体部30与第2块体部31在夹着垫片33的状态下通过紧固部件(未图示)来相互固定。
[0026]图3、图4中示出了涂布装置1的内部结构。图3为用短边方向X的垂直剖面切断涂布装置1的涂布装置1的剖视图，图4为展示涂布装置1的第1块体部30的内表面的图。如本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种涂布装置，其中，所述涂布装置具备主体块体，所述主体块体具有：涂液导入部；涂液排出部，所述涂液排出部在一个方向上延伸设置；第1空间部，从所述涂液导入部导入的涂液流入所述第1空间部，并且所述第1空间部在一个方向上延伸设置；涂液流路，所述涂液流路使所述第1空间部的涂液流向所述涂液排出部，并且所述涂液流路在一个方向上延伸设置；第2空间部，所述第2空间部设置于所述涂液流路，以使该涂液流路的流路宽度部分地拓宽，并且所述第2空间部在一个方向上延伸设置；以及容积变更部件，所述容积变更部件在所述第2空间部中沿一个方向设置有多个，各个所述容积变更部件相对于所述第2空间部前进或后退，从而能够改变所述第2空间部的一个方向上的各部分的容积。2.如权利要求1所述的涂布装置，其中，与所述容积变更部件的涂液的流动方向上的长度相比，所述第2空间部具有更大的所述涂液的流动方向上的长度。3.如权利要求2所述的涂布装置，其中，所述容积变更部件配置于所述第2空间部的下游侧的端部。4....

【专利技术属性】
技术研发人员：橘田浩贵，
申请(专利权)人：株式会社泰珂洛，
类型：发明
国别省市：