一种用于沉淀二氧化硅的合成反应釜制造技术

本实用新型专利技术涉及反应釜技术领域，且公开了一种用于沉淀二氧化硅的合成反应釜，包括固定座，所述固定座的顶部固定连接有反应釜，所述反应釜的外侧固定连接有液压伸缩杆，所述液压伸缩杆的顶部固定连接有电机，所述电机的输出端插接有转轴，所述转轴的外侧固定连接有负重块，所述负重块的外侧固定连接有限位块，所述负重块的外侧固定连接有防护壳。该用于沉淀二氧化硅的合成反应釜通过电机带动转轴转动，转轴带动轴套一和搅拌叶一转动，再通过步进电机带动长轴运动，长轴带动锥形齿轮二运动，再通过插轴和倒刺搅拌头的配合使用，从而达到改变搅拌方向使原料通过不同方向进行混合搅拌，避免了搅拌的单一性使效果更加充分。免了搅拌的单一性使效果更加充分。免了搅拌的单一性使效果更加充分。

【技术实现步骤摘要】
一种用于沉淀二氧化硅的合成反应釜


[0001]本技术属于反应釜
，具体为一种用于沉淀二氧化硅的合成反应釜。

技术介绍

[0002]白炭黑按生产方法大体分为沉淀法白炭黑和气相法白炭黑，国内大部分企业采用传统沉淀法制备，以硅酸钠和硫酸为原料，在一定的温度下，调节 PH值，得到二氧化硅沉淀，经过滤洗涤除去杂质，最后进行喷雾、干燥得到二氧化硅产品。
[0003]现有的制备方法多是采用反应釜，来对相关的物质进行反应混合来得到相对的物质，然而在反应釜中，通过需要对相关原料进行搅拌，来实现反应的生产，然而目前的搅拌很容易造成搅拌不充分以及流动方向大单一，不能很好的使原料得到混合，造成局部酸化严重，出现不分散的凝胶从而影响产品质量。

技术实现思路

[0004]针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本技术提供一种用于沉淀二氧化硅的合成反应釜，具备操作简单能够多方位搅拌混合使原料分布更加均匀提高产品质量，有效的解决了传统设备搅拌不均匀和功能单一不能使原料充分混合影响质量的问题。
[0005]为实现上述操作简单能够多方位搅拌混合使原料分布更加均匀提高产品质量的目的，本技术提供如下技术方案：一种用于沉淀二氧化硅的合成反应釜，包括固定座，所述固定座的顶部固定连接有反应釜，所述反应釜的外侧固定连接有液压伸缩杆，所述液压伸缩杆的顶部固定连接有电机，所述电机的输出端插接有转轴，所述转轴的外侧固定连接有负重块，所述负重块的外侧固定连接有限位块，所述负重块的外侧固定连接有防护壳，所述负重块的外侧固定连接有防护块，所述转轴的外侧固定连接有轴套一，所述轴套一的外侧固定连接有搅拌叶一，所述轴套一的外侧固定连接有搅拌叶二；
[0006]所述负重块的外侧固定连接有伸缩块，所述伸缩块外侧固定连接有套筒，所述套筒中部内壁固定连接有电磁体，所述套筒中部内壁固定连接有复位弹簧，所述复位弹簧外侧固定连接有磁杆，所述磁杆外侧固定连接有调流板，所述防护壳的中部开设有活动槽，所述活动槽内底壁固定连接有轴套，所述轴套中部内壁活动连接有长轴，所述长轴顶部固定连接有步进电机，所述长轴外侧固定连接有锥形齿轮二，所述防护壳中部内壁活动连接有插轴，所述插轴外侧固定连接有锥形齿轮一，所述插轴外侧固定连接有转盘，所述转盘外侧固定连接有倒刺搅拌头。
[0007]优选的，所述液压伸缩杆的数量为两个且对称分布于反应釜的外侧，液压伸缩杆的顶部固定连接有与电机适配的机座，其中液压伸缩杆的最大伸缩距离小于反应釜的高度，通过液压伸缩杆带动转轴进行上下距离移动，从而来实现调节搅拌距离。
[0008]优选的，所述限位块的数量为三个且均匀分布于防护块的外侧其中反应釜的内壁开设有与限位块适配活动限位槽，当转轴在进行上下伸缩运动的时候，此时限位块主要起到一定的限位作用以及来保证转轴的稳定性。
[0009]优选的，所述搅拌叶一的尺寸小于反应釜的尺寸且搅拌叶一的数量与轴套一的数量相同，且搅拌叶一和轴套一呈中心原点对称分布，其中搅拌叶一外侧开设有弧槽，当转轴带动搅拌叶一转动的时候，此时搅拌叶一和轴套一对反应釜内部的沉淀物进行搅拌并形成一定的流动形态来使其加速流动来使搅拌更加均匀。
[0010]优选的，所述磁杆的尺寸小于套筒的尺寸且磁杆的内侧的磁极与电磁体外侧的磁极相对，其中相对磁极的极性相同，并且套筒内部开设有伸缩槽，当电磁体通电产生磁场此时磁杆受到排斥力作用，带动调流板向外运动，从而来增大搅拌半径调节液体的流动性使混合物混合更充分。
[0011]优选的，所述复位弹簧的长度小于磁杆的尺寸且复位弹簧的内侧与套筒内壁固定连接，其中复位弹簧主要起到复位磁杆和调流板的作用。
[0012]优选的，所述锥形齿轮一的尺寸小于活动槽的尺寸且锥形齿轮一外侧的齿牙与锥形齿轮二外侧的齿槽啮合，防护壳外侧开设有与插轴适配的通孔且通孔与活动槽连通。
[0013]优选的，所述倒刺搅拌头的数量为三个且呈三角分布于转盘的外侧其中倒刺搅拌头的外侧开设有倒刺锥头，其中在插轴的带动下转动与搅拌叶一和轴套一搅拌沉淀物流动方向处于垂直状态，使得混合物搅拌均匀。
[0014]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0015]1、该用于沉淀二氧化硅的合成反应釜通过电磁体带动磁杆运动，磁杆带动调流板运动，再通过调流板和复位弹簧以及负重块和转轴的配合使用，从而达到调节搅拌半径使搅拌更加充分避免原料停滞造成堆积，提高混合效果。
[0016]2、该用于沉淀二氧化硅的合成反应釜通过电机带动转轴转动，转轴带动轴套一和搅拌叶一转动，再通过步进电机带动长轴运动，长轴带动锥形齿轮二运动，再通过插轴和倒刺搅拌头的配合使用，从而达到改变搅拌方向使原料通过不同方向进行混合搅拌，避免了搅拌的单一性使效果更加充分。
附图说明
[0017]附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。在附图中：
[0018]图1为本技术一种用于沉淀二氧化硅的合成反应釜示意图；
[0019]图2为本技术反应釜剖面示意图；
[0020]图3为本技术搅拌叶一结构示意图；
[0021]图4为本技术转轴剖面示意图；
[0022]图5为本技术伸缩块剖面示意图；
[0023]图6为本技术防护壳剖面示意图；
[0024]图7为本技术图6中A部局部结构放大示意图。
[0025]图中：1、固定座；2、反应釜；3、液压伸缩杆；4、转轴；5、电机；6、限位块；7、防护壳；8、负重块；9、防护块；10、轴套一；11、搅拌叶一； 12、搅拌叶二；13、转盘；14、伸缩块；15、套筒；16、磁杆；17、调流板； 18、复位弹簧；19、电磁体；20、轴套二；21、倒刺搅拌头；22、插轴；23、活动槽；24、锥形齿轮一；25、锥形齿轮二；26、长轴；27、步进电机。
具体实施方式
[0026]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例；基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0027]由图1
‑
7给出，一种用于沉淀二氧化硅的合成反应釜，包括固定座1，固定座1的顶部固定连接有反应釜2，反应釜2的外侧固定连接有液压伸缩杆3，液压伸缩杆3的数量为两个且对称分布于反应釜2的外侧，液压伸缩杆3的顶部固定连接有与电机5适配的机座，其中液压伸缩杆3的最大伸缩距离小于反应釜2的高度，通过液压伸缩杆3带动转轴4进行上下距离移动，从而来实现调节搅拌距离，液压伸缩杆3的顶部固定连接有电机5，电机5的输出端插接有转轴4，转轴4的外侧固定连接有负重块8，负重块8的外侧固定连接有限位块6，限位块6的数量为三个且均匀分布于防护块9的外侧本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于沉淀二氧化硅的合成反应釜，包括固定座(1)，其特征在于：所述固定座(1)的顶部固定连接有反应釜(2)，所述反应釜(2)的外侧固定连接有液压伸缩杆(3)，所述液压伸缩杆(3)的顶部固定连接有电机(5)，所述电机(5)的输出端插接有转轴(4)，所述转轴(4)的外侧固定连接有负重块(8)，所述负重块(8)的外侧固定连接有限位块(6)，所述负重块(8)的外侧固定连接有防护壳(7)，所述负重块(8)的外侧固定连接有防护块(9)，所述转轴(4)的外侧固定连接有轴套一(10)，所述轴套一(10)的外侧固定连接有搅拌叶一(11)，所述轴套一(10)的外侧固定连接有搅拌叶二(12)；所述负重块(8)的外侧固定连接有伸缩块(14)，所述伸缩块(14)外侧固定连接有套筒(15)，所述套筒(15)中部内壁固定连接有电磁体(19)，所述套筒(15)中部内壁固定连接有复位弹簧(18)，所述复位弹簧(18)外侧固定连接有磁杆(16)，所述磁杆(16)外侧固定连接有调流板(17)，所述防护壳(7)的中部开设有活动槽(23)，所述活动槽(23)内底壁固定连接有轴套(20)，所述轴套(20)中部内壁活动连接有长轴(26)，所述长轴(26)顶部固定连接有步进电机(27)，所述长轴(26)外侧固定连接有锥形齿轮二(25)，所述防护壳(7)中部内壁活动连接有插轴(22)，所述插轴(22)外侧固定连接有锥形齿轮一(24)，所述插轴(22)外侧固定连接有转盘(13)，所述转盘(13)外侧固定连接有倒刺搅拌头(21)。2.根据权利要求1所述的一种用于沉淀二氧化硅的合成反应...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈南飞，王明贺，卢爱平，陈辰，陈家树，史彤，
申请(专利权)人：无锡恒诚硅业有限公司，
类型：新型
国别省市：