一种高比表面积钡化合物制备装置制造方法及图纸

技术编号:35007870 阅读:15 留言:0更新日期:2022-09-21 14:59
本发明专利技术公开了一种高比表面积钡化合物制备装置,包括:机架、驱动装置、传动装置、反应釜、原料输送装置,所述机架承载工作设备;所述驱动装置固定在机架上;所述传动装置设置在驱动装置顶部,固定在机架上,与驱动装置固定连接;所述反应釜固定在传动装置上方;所述原料输送装置与反应釜可转动连接。与现有技术相比,本发明专利技术中根据制备化合物所需原料的多种物理状态,进行制备工作,对原料进行充分分散混合,进行小范围反应,得到比表面积相对高的钡化合物。化合物。化合物。

【技术实现步骤摘要】
一种高比表面积钡化合物制备装置


[0001]本专利技术涉及钡化合物制备
,更具体地说,涉及一种高比表面积钡化合物制备装置。

技术介绍

[0002]钡化合物在工业上有着广泛的应用,在钡化合物的实际应用中,比表面积越高的钡化合物,所产生的效果更佳,钡化合物的比表面积越大,说明细度越细,在现有的制备装置中,根据钡化合物的种类不同,需要多种制备装置,难以应对多种钡化合物的制备工作,在常规的制备装置中,原料的反应不充分、聚集反应等,均会对所得钡化合物的比表面积产生影响。因此,有必要提供一种高比表面积钡化合物制备装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。

技术实现思路

[0003]为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种高比表面积钡化合物制备装置,包括:
[0004]机架,承载工作设备;
[0005]驱动装置,固定在机架上,为制备装置运行提供动力;
[0006]传动装置,设置在驱动装置顶部,固定在机架上,与驱动装置固定连接;
[0007]反应釜,固定在传动装置上方;
[0008]原料输送装置,与反应釜可转动连接。
[0009]进一步的,作为优选,所述电机,固定在机架上,为制备装置提供动力来源;
[0010]传动轴,竖直设置,与电机固定连接,与传动装置固定连接,与反应釜可转动连接,在电机的带动下,进行转动,进而带动传动装置进行转动;
[0011]延长轴,设置在传动轴上方,跟随传动轴进行转动。
[0012]进一步的,作为优选,所述传动装置包括:
[0013]中心齿轮,固定在传动轴底部,与反应釜底部可转动连接,在传动轴的带动下进行转动;
[0014]环绕齿轮,环形分布设置有多个,与中心齿轮相啮合,可转动固定在反应釜底部,在中心齿轮的带动下进行转动;
[0015]齿圈,与环形齿轮相啮合,在中心齿轮带动下,向与中心齿轮相反的转动反向转动;
[0016]固定连杆,连接各环绕齿轮中心,与环绕齿轮可转动连接,与反应釜底部固定连接,且所述固定连杆固定在机架上,对各环绕齿轮进行限位,同时对反应釜进行支撑。
[0017]进一步的,作为优选,所述外筒,底部与传动装置的齿圈固定连接,顶部与原料输送装置可转动连接,在传动装置的带动下,外筒跟随齿圈进行转动;
[0018]圆底,与外筒下方内壁可转动连接,与固定连杆固定连接,圆底始终处于固定状
态。
[0019]进一步的,作为优选,所述外筒中部内壁上设有环形分布的搅拌页,当外筒在传动装置带动下进行转动时,同时带动搅拌页进行转动,进而带动反应釜内经过分散的原料进行转动混合,且下部分设有单向排气口,在反应中产生气体时,及时排出,避免反应釜内部气压过大,所述圆底上设有排料口,原料经过充分反应后,逐渐落下到圆底上,经排料口排出,经过过滤烘干后,得到高比表面积的钡化合物。
[0020]进一步的,作为优选,所述原料输送装置包括:
[0021]固态输送组件,可转动固定在外筒的顶部,且固定在机架上,对固态原料进行进一步的分散研磨,使原材料更加精细;
[0022]液态输送组件,与固态输送组件固定连接,对液态原料进行分散工作,使原料分散为相对较小的水珠,并甩出;
[0023]气态输送组件,穿过固态输送组件顶部,部分设置在外筒内部,进行气体输送。
[0024]进一步的,作为优选,所述固态输送组件包括:
[0025]圆环斜面,底部可转动固定在外筒顶部,外侧固定在机架上,固态原料经圆环斜面进入固态输送组件内部;
[0026]内环,顶部固定在圆环斜面的内圈上,原料经圆环斜面进入到内环内;
[0027]磨碎扇,设置在内环内,与延长轴固定连接,且所述磨碎扇底部与内环底部处于同一水平面,在延长轴的带动下,磨碎扇进行转动,对原料进行分散磨碎工作;
[0028]磨碎装置,可转动设置在磨碎扇底部,在磨碎扇进行分散磨碎的同时,原料持续落入磨碎装置中。
[0029]进一步的,作为优选,所述磨碎装置设有上磨片和下磨片,所述上磨片与延长轴可转动连接,与内环底部固定连接,即上磨片和内环处于固定状态,延长轴带动磨碎扇在内环内转动,且上磨片上设有环形分布多个漏口,在磨碎扇的转动下,原料在上磨片顶部进行分散磨碎,同时符合规格的原料经漏口进入到磨碎装置中,所述下磨片与延长轴固定连接,在延长轴带动下进行转动,在上磨片的配合下,对原料进行进一步研磨,并甩出。
[0030]进一步的,作为优选,所述液态输送组件包括:
[0031]加压舱,固定在圆环斜面上,对液态原料进行储存,并加压输送;
[0032]输送管,固定在加压舱底部,穿过延伸轴与传动轴顶端可转动连接,对原料进行持续输送;
[0033]离心轮,由多个弧形扇叶呈环形分布构成,与搅拌页处于同一水平面,顶部中心固定在下磨片底部,与延长轴固定连接,底部中心与传动轴固定连接,在电机带动下,传动轴带动离心轮进行转动,进而带动延长轴和下磨片转动,进而带动磨碎扇进行转动。
[0034]进一步的,作为优选,所述输送管与离心轮相对应部分的两侧设有多个竖直分布的圆孔,在加压舱的作用下,原料经圆孔喷出,此时离心轮处于持续转动状态,进而对喷出原料进行收集打散,再甩出,与上方磨碎装置甩出的原料进行反应,同时在外筒内壁上搅拌页的转动作用下充分混合反应。
[0035]与现有技术相比,本专利技术的有益效果是:
[0036]本专利技术中,通过原料输送装置的设置,根据原料的物理状态进行输送,适用于多种原料的混合反应,实现多种方式制备钡化合物,提高工作效率。
[0037]本专利技术中,通过各输送组件的设置,对原料进行分散,降低原料个体体积,使原材料充分混合,进行小范围反应,避免出现混合不均匀,以及聚集反应的出现,得到钡化合物更加精细,比表面积更高。
附图说明
[0038]图1为一种高比表面积钡化合物制备装置的整体结构示意图;
[0039]图2为一种高比表面积钡化合物制备装置中原料输送装置结构示意图;
[0040]图3为一种高比表面积钡化合物制备装置中传动装置结构示意图;
[0041]图4为一种高比表面积钡化合物制备装置中输送组件俯视图;
[0042]图中:1、机架;2、驱动装置;3、传动装置;4、反应釜;5、原料输送装置;21、电机;22、传动轴;23、延长轴;31、中心齿轮;32、环绕齿轮;33、齿圈;34、固定连杆;41、外筒;42、圆底;51、固态输送组件;52、液态输送组件;53、气态输送组件;411、搅拌叶;412、单向排气口;511、圆环斜面;512、内环;513、磨碎扇;514、磨碎装置;521、加压舱;522、输送管;523、离心轮;5141、上磨片;5142、下磨片;5143、漏孔;5221、圆孔。
具体实施方式
[0043]请参阅图1~4,本专利技术实施例中,一种高比表面积钡化合物制备装置,包括:
[0044]机架1,承载本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高比表面积钡化合物制备装置,其特征在于:包括:机架(1),承载工作设备;驱动装置(2),固定在机架(1)上;传动装置(3),设置在驱动装置(2)顶部,固定在机架(1)上,与驱动装置(2)固定连接;反应釜(4),固定在传动装置(3)上方;原料输送装置(5),与反应釜(4)可转动连接。2.根据权利要求1所述的一种高比表面积钡化合物制备装置,其特征在于:所述驱动装置(2)包括:电机(21),固定在机架(1)上,为制备装置提供动力来源;传动轴(22),竖直设置,与电机(21)固定连接,与传动装置(3)固定连接,与反应釜(4)可转动连接;延长轴(23),设置在传动轴(22)上方。3.根据权利要求1所述的一种高比表面积钡化合物制备装置,其特征在于:所述传动装置(3)包括:中心齿轮(31),固定在传动轴(22)底部,与反应釜(4)底部可转动连接;环绕齿轮(32),环形分布设置有多个,与中心齿轮(31)相啮合,可转动固定在反应釜(4)底部;齿圈(33),与环形齿轮(32)相啮合;固定连杆(34),连接各环绕齿轮(32)中心,与环绕齿轮(32)可转动连接,与反应釜(4)底部固定连接,且所述固定连杆(34)固定在机架(1)上。4.根据权利要求1所述的一种高比表面积钡化合物制备装置,其特征在于:所述反应釜(4)包括:外筒(41),底部与传动装置(3)的齿圈(33)固定连接,顶部与原料输送装置(5)可转动连接;圆底(42),与外筒(41)下方内壁可转动连接,与固定连杆(34)固定连接。5.根据权利要求4所述的一种高比表面积钡化合物制备装置,其特征在于:所述外筒(41)中部内壁上设有环形分布的搅拌页(411),且下部分设有单向排气口(412),所述圆底(42)上设有排料口。6.根据权利要求1所述的一种高比表面积钡化合物制备装置,其特征在于:所述原料输送装...

【专利技术属性】
技术研发人员:申静王强胡文彬钟澄刘杰
申请(专利权)人:重庆新申新材料股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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