本发明专利技术提供一种阵列基板、显示面板及显示装置，包括显示区，显示区包括开口区和非开口区，非开口区围绕开口区，包括透光控制区；衬底；衬垫组，位于衬底的一侧，位于开口区，包括同层且成对设置的第一衬垫和第二衬垫；电润湿限制层，位于衬底的一侧，形成有腔室，腔室位于透光控制区；电润湿材料，填充于腔室内；第一电润湿电极和第二电润湿电极，垂直于衬底所在平面的方向，第一电润湿电极位于电润湿限制层与衬底之间，第二电润湿电极与第一电润湿电极相对，位于电润湿限制层远离衬底一侧，用于根据施加的电压，控制电润湿材料在平行于衬底所在平面上的展开面积。在屏幕亮度较低时，可以降低透光控制区的透过率，以提高显示对比度。以提高显示对比度。以提高显示对比度。
【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板、显示面板及显示装置
[0001]本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板、显示面板及显示装置。
技术介绍
[0002]在屏幕亮度较低时，显示面板存在对比度不足的情况，导致用户无法看清其显示的图像。
技术实现思路
[0003]本专利技术提供一种阵列基板、显示面板及显示装置，在屏幕亮度较低时，可以降低透光控制区的透过率，以提高显示对比度。
[0004]第一方面，本专利技术实施例提供一种阵列基板，包括显示区，所述显示区包括开口区和非开口区，多个所述开口区阵列排布，所述非开口区围绕所述开口区，包括透光控制区；
[0005]衬底；
[0006]衬垫组，位于所述衬底的一侧，位于所述开口区，包括同层且成对设置的第一衬垫和第二衬垫；
[0007]电润湿限制层，位于所述衬底的一侧，形成有腔室，所述腔室位于所述透光控制区；
[0008]电润湿材料，填充于所述腔室内；
[0009]第一电润湿电极和第二电润湿电极，垂直于所述衬底所在平面的方向，所述第一电润湿电极位于所述电润湿限制层与所述衬底之间，所述第二电润湿电极与所述第一电润湿电极相对，位于所述电润湿限制层远离所述衬底一侧，用于根据施加的电压，控制所述电润湿材料在平行于所述衬底所在平面上的展开面积。
[0010]第二方面，本专利技术实施例提供一种显示面板，包括第一方面所述的阵列基板和多个发光二极管，所述发光二极管包括阳极和阴极，所述阳极与第一衬垫电连接，所述阴极与第二衬垫电连接。
[0011]第三方面，本专利技术实施例提供一种显示装置，包括第二方面所述的显示面板。
[0012]本专利技术提供一种阵列基板，在非开口区中设置透光控制区。在透光控制区中设置电润湿限制层、电润湿材料、第一电润湿电极和第二电润湿电极。通过控制为第一电润湿电极和第二电润湿电极施加的电压，控制控制电润湿材料在平行于衬底所在平面上的展开面积，从而控制透光控制区的透过率。在为第一电润湿电极和第二电润湿电极分别施加不同的电压时，透光控制区的透过率较高。不为第一电润湿电极和第二电润湿电极施加电压，或者，为第一电润湿电极和第二电润湿电极施加相同的电压时，透光控制区的透过率较低。由此，在屏幕亮度较低时，可以降低透光控制区的透过率，以提高显示对比度。
附图说明
[0013]图1为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的俯视结构示意图；
[0014]图2为沿图1中AA
’
方向的剖面结构示意图；
[0015]图3为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；
[0016]图4为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；
[0017]图5为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；
[0018]图6为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；
[0019]图7为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；
[0020]图8为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；
[0021]图9为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；
[0022]图10为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；
[0023]图11为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；
[0024]图12为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；
[0025]图13为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；
[0026]图14为本专利技术实施例提供的一种第一电润湿电极和第二电润湿电极的连接关系示意图；
[0027]图15为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；
[0028]图16为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；
[0029]图17为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；
[0030]图18为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；
[0031]图19为本专利技术实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；
[0032]图20为本专利技术实施例提供的一种显示装置的示意图。
具体实施方式
[0033]下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本专利技术，而非对本专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本专利技术相关的部分而非全部结构。
[0034]图1为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的俯视结构示意图，图2为沿图1中AA
’
方向的剖面结构示意图，参考图1和图2，阵列基板包括显示区01。在一实施方式中，阵列基板可以仅包括显示区01而不包括非显示区，从而采用该阵列基板形成的显示面板可以实现全面屏。在另一实施方式中，阵列基板还可以包括非显示区，非显示区位于显示区01的外围。
[0035]显示区01包括开口区011和非开口区012。多个开口区011阵列排布，非开口区012围绕开口区011。开口区011为显示区01中的发光区域。显示区01中除开口区011外的区域为非开口区012。非开口区012为显示区01中的非发光区域。非开口区012包括透光控制区013。
[0036]阵列基板包括衬底11、衬垫组12、电润湿限制层21、电润湿材料23、第一电润湿电极241和第二电润湿电极242。衬垫组12位于衬底11的一侧，衬垫组12位于开口区011，衬垫组12包括同层且成对设置的第一衬垫121和第二衬垫122。电润湿限制层21位于衬底11的一侧，电润湿限制层21形成有腔室22。腔室22位于透光控制区013。电润湿限制层21可以包括一个或者多个膜层。电润湿材料23填充于腔室22内。垂直于衬底11所在平面的方向，第一电润湿电极241位于电润湿限制层21与衬底11之间，第二电润湿电极242与第一电润湿电极241相对，第二电润湿电极242位于电润湿限制层21远离衬底11一侧。第一电润湿电极241和
第二电润湿电极242分别位于电润湿限制层21的相对两侧。第一电润湿电极241和第二电润湿电极242用于根据施加的电压，控制电润湿材料23在平行于衬底11所在平面上的展开面积。
[0037]在一实施方式中，电润湿材料23包括吸光材料，光线无法穿过电润湿材料23。为第一电润湿电极241和第二电润湿电极242分别施加不同的电压，第一电润湿电极241和第二电润湿电极242之间产生的电场，将电润湿材料23收缩在第一电润湿电极241和第二电润湿电极242之间。电润湿材料23的展开面积比较小，光线可以透过腔室22继续传播。不为第一电润湿电极241和第二电润湿电极242施加电压，或者，为第一电润湿电极241和第二电润湿电极242施加相同的电压时，第一电润湿电极241和第二电润湿电极242之间不产生电场，电润湿材料23扩散流动，并占据腔室22，电润湿材料23的展开面积比较大，光线无法透过腔室22继续传播。
[0038]本专利技术提供一种本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括显示区，所述显示区包括开口区和非开口区，多个所述开口区阵列排布，所述非开口区围绕所述开口区，包括透光控制区；衬底；衬垫组，位于所述衬底的一侧，位于所述开口区，包括同层且成对设置的第一衬垫和第二衬垫；电润湿限制层，位于所述衬底的一侧，形成有腔室，所述腔室位于所述透光控制区；电润湿材料，填充于所述腔室内；第一电润湿电极和第二电润湿电极，垂直于所述衬底所在平面的方向，所述第一电润湿电极位于所述电润湿限制层与所述衬底之间，所述第二电润湿电极与所述第一电润湿电极相对，位于所述电润湿限制层远离所述衬底一侧，用于根据施加的电压，控制所述电润湿材料在平行于所述衬底所在平面上的展开面积。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括像素限定层，所述像素限定层位于所述衬底的一侧，设置有多个像素限定层开口，所述衬垫组位于所述像素限定层开口中；所述电润湿限制层的至少部分膜层与所述像素限定层同层设置。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括平坦化层，垂直于所述衬底所在平面的方向，所述平坦化层位于所述衬垫组与所述衬底之间；所述电润湿限制层的至少部分膜层与所述平坦化层同层设置。4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一电润湿电极与所述衬垫组同层设置。5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第二电润湿电极与所述衬垫组同层设置。6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，还包括像素驱动电路，垂直于所述衬底所在平面的方向，所述像素驱动电路位于所述衬底与所述衬垫组之间，包括多个金属膜层；所述第一电润湿电极与所述金属膜层同层设置。7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述金属膜层包括沿远离所述衬底方向依次设置的第一金属层、第二金属层和第三金属层；所述像素驱动电路包括薄膜晶体管和换线层，所述薄膜晶体管包括栅极、半导体层、源极和漏极，所述换线层的一端与所述源极或者所述漏极电连接，所述换线层的另一端与所述第一衬垫电连接；所述栅极位于所述第一金属层，所述源极和所述漏极位于所述第二金属层，所述换线层位于所述第三金属层。8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括像素驱动电路，垂直于所述衬底所在平面的方向，所述像素驱动电路位于所述衬底与所述衬垫组之间，包括多个金属膜层；垂直于所述衬底所在平面的方向，所述电润湿限制层位于所述衬底与所述像素驱动电路之间。9.根据权利要求8所...
【专利技术属性】
技术研发人员：龚华，霍思涛，刘操，
申请(专利权)人：上海天马微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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