平整度调节机构制造技术

本发明专利技术提供了一种平整度调节机构，包括壳体、调整件、旋转机构，调整件活动穿设在壳体内，调整件伸出壳体的距离可调节设置，旋转机构具有斜面，斜面沿旋转机构周向延伸，并具有轴向的高度差，调整件与斜面抵接，旋转机构转动时斜面带动调整件运动以改变伸出壳体的距离。本发明专利技术解决了现有技术中的平整度调节效果差的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及平整度调节领域，具体而言，涉及一种平整度调节机构。

技术介绍

1、传统的平整度调节方法往往采用螺纹结构调节，通过旋转实现螺纹的升降完成高度的调节，由于螺纹结构固有的缺陷，使得螺纹的升降不总是与旋转角度成固定比例。这种非线性特征的存在，使得通过旋转角度计算升降高度来精准实现平整度调节难以实现，因此平整度调节效果一般。

技术实现思路

1、本专利技术的主要目的在于提供一种平整度调节机构，以解决现有技术中的平整度调节效果差的问题。

2、为了实现上述目的，本专利技术提供了一种平整度调节机构，包括壳体、调整件、旋转机构，调整件活动穿设在壳体内，调整件伸出壳体的距离可调节设置，旋转机构具有斜面，斜面沿旋转机构周向延伸，并具有轴向的高度差，调整件与斜面抵接，旋转机构转动时斜面带动调整件运动以改变伸出壳体的距离。

3、进一步地，旋转机构的圆周侧面具有周向展开面，斜面在周向展开面上为倾斜的直线。

4、进一步地，调整件和斜面中的一者具有凸起，调整件和斜面中的另一者具有凹槽，且位于斜本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种平整度调节机构，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的平整度调节机构，其特征在于，所述旋转机构(30)的圆周侧面具有周向展开面，所述斜面(321)在所述周向展开面上为倾斜的直线。

3.根据权利要求1所述的平整度调节机构，其特征在于，所述调整件(20)和所述斜面(321)中的一者具有凸起(21)，所述调整件(20)和所述斜面(321)中的另一者具有凹槽(322)，且位于所述斜面(321)上的凸起(21)或者凹槽(322)沿所述斜面(321)的延伸方向延伸，所述凸起(21)位于所述凹槽(322)内。

4.根据权利要求1所述的平整度调节机构，其...

【技术特征摘要】

1.一种平整度调节机构，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的平整度调节机构，其特征在于，所述旋转机构(30)的圆周侧面具有周向展开面，所述斜面(321)在所述周向展开面上为倾斜的直线。

3.根据权利要求1所述的平整度调节机构，其特征在于，所述调整件(20)和所述斜面(321)中的一者具有凸起(21)，所述调整件(20)和所述斜面(321)中的另一者具有凹槽(322)，且位于所述斜面(321)上的凸起(21)或者凹槽(322)沿所述斜面(321)的延伸方向延伸，所述凸起(21)位于所述凹槽(322)内。

4.根据权利要求1所述的平整度调节机构，其特征在于，所述旋转机构(30)包括主体部(31)和环形部(32)，所述环形部(32)与所述主体部(31)的端面连接，所述环形部(32)远离所述主体部(31)的一端端面具有所述斜面(321)。

5.根据权利要求4所述的平整度调节机构，其特征在于，所述旋转机构(30)还包括定位部(33)，所述定位部(33)与所述主体部(31)连接并位于所述环形部(32)内侧，所述定位部(33)沿所述旋转机构(30)的轴向延伸并伸入至所述壳体(10)内。

6.根据权利要求4所述的平整度调节机构，其特征在于，所述平整度调节机构还包括滚动件(40)，所述滚动件(40)位于所述主体部(31)的端面边缘处与所述壳体(10)之间。

7.根据权利要求1所述的平整度调节机构，其特征在于，所述旋转机构(30)具有限位结构(311)，所述平整度调节机构还包括限位...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴守政，何永新，赖育辉，贾振宇，符鞠建，丁渊，余丰，
申请(专利权)人：上海天马微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：