本实用新型专利技术涉及一种反应器稳定上料装置，包括上料主体和底座，所述上料主体安装在底座上，所述底座的两端均转动安装有两根转轴，所述转轴的两端安装有移动轮，所述底座中安装有驱动机构用以带动位于底座任一端的转轴旋转，所述转轴上安装有同步齿轮，所述底座上滑动安装有能够与同步齿轮相啮合的齿条，所述底座上设置有调节机构用以带动齿条移动从而与同步齿轮啮合或者脱离接触。本实用新型专利技术通过齿轮齿条之间啮合来锁定移动轮，无需转轴移动，整体结构更为稳定，同时，通过调整气缸带动调整顶块顶着调整滑块进行滑动，从而改变齿条的位置，不会对转轴结构造成损伤，实用更安全，寿命更久。更久。更久。
【技术实现步骤摘要】
一种反应器稳定上料装置
[0001]本技术属于化工设备
，尤其是一种反应器稳定上料装置。
技术介绍
[0002]反应器是一种实现反应过程的设备，广泛应用于化工、炼油、冶金等领域，反应器用于实现液相单相反应过程和液液、气液、液固、气液固等多相反应过程。近代工业中的反应器形式多样,例如:冶金工业中的高炉和转炉；生物工程中的发酵罐以及各种燃烧器，都是不同形式的反应器。
[0003]在公开号为：CN215327799U的一篇专利文件中公开了一种反应器的上料装置，通过双周电机和丝杠的传动结构，带动固定框推动转动杆运动，从而改变滚轮位置，使得上料装置整体能够依靠支持座设置在地面上，避免发生滑动，但是该技术方案在实际工作中存在如下不足：
[0004]1.由于传动杆是活动的，因此设置了转轴和转动板，但是转轴、转动板和传动杆需要承受整体压力，容易发生变形甚至断裂；
[0005]2.通过固定框推动传动杆移动，这种方式对结构的压力很大，长期使用必然造成结构受损。
技术实现思路
[0006]本技术解决其技术问题是采取以下技术方案实现的：
[0007]一种反应器稳定上料装置，包括上料主体和底座，所述上料主体安装在底座上，所述底座的两端均转动安装有两根转轴，所述转轴的两端安装有移动轮，所述底座中安装有驱动机构用以带动位于底座任一端的转轴旋转，所述转轴上安装有同步齿轮，所述底座上滑动安装有能够与同步齿轮相啮合的齿条，所述底座上设置有调节机构用以带动齿条移动从而与同步齿轮啮合或者脱离接触。
[0008]所述底座的两端均固定有两个支撑架，所述转轴转动安装在两个支撑架中。
[0009]所述底座的两端均固定有支座，所述支座上开设有导向槽，所述导向槽上滑动安装有滑座，所述齿条固定安装在滑座上，所述底座与滑座之间通过弹簧相接。
[0010]所述调节机构包括调节气缸、调节顶块和调节滑块，所述调节滑块固定连接在滑座上，所述调节气缸的缸体固定在底座上，所述调节顶块固定接设在调节气缸的伸缩杆上。
[0011]所述调节顶块与调节滑块相接触的面为斜面。
[0012]所述驱动机构包括驱动电机、传动轴、主动带轮和从动带轮，所述从动带轮安装在转转轴上，所述传动轴转动安装在底座中，所述驱动电机固定安装在底座中且其输出轴与传动轴相接，所述主动带轮安装在传动轴上，所述主动带轮和从动带轮通过传动带相接。
[0013]所述底座中固定安装有两个固定架，所述驱动电机固定在其中一个固定架上，所述传动轴的一端与驱动电机连接且另一端转动插接在另一个固定架上，所述底座的底面上开设有带孔以使传动带能够与从动带轮相接。
[0014]本技术的有益效果是：通过齿轮齿条之间啮合来锁定移动轮，无需转轴移动，整体结构更为稳定，同时，通过调整气缸带动调整顶块顶着调整滑块进行滑动，从而改变齿条的位置，不会对转轴结构造成损伤，实用更安全，寿命更久。
附图说明
[0015]图1是整体结构示意图；
[0016]图2是定量桶结构示意图；
[0017]图3是附图1中圆圈A处结构放大图。
[0018]其中，1、上料主体；2、底座；3、转轴；4、移动轮；5、同步齿轮；6、齿条；7、支撑架；8、支座；9、导向槽；10、滑座；11、弹簧；12、调节气缸；13、调节顶块；14、调节滑块；15、驱动电机；16、传动轴；17、主动带轮；18、从动带轮；19、传动带；20、固定架；21、带孔。
具体实施方式
[0019]以下结合附图对本技术做进一步详述：
[0020]如图1、图2、图3所示，本技术提出了一种反应器稳定上料装置，包括上料主体1和底座2，上料主体1安装在底座2上能够跟随底座2一起运动，底座2的两端均固定有两个支撑架7，位于底座2同一端的两个支撑架7上转动安装有一根转轴3，转轴3的两端安装有移动轮4，底座2中安装有驱动机构用以带动位于底座2任一端的转轴3旋转，从而带动转轴3上的移动轮4转动，实现底座2的移动，同时，转轴2上安装有同步齿轮5，同步齿轮5与转轴3同步运动，底座2上则滑动安装有能够有同步齿轮5相啮合的齿条6，并且，底座2上还设置有调节机构用以带动齿条6移动从而与同步齿轮5啮合或者脱离接触，当齿条6与同步齿轮5相啮合的时候，由于齿条6只能相对于底座2进行滑动而不能转动，此时同步齿轮5也就不能旋转，以此来限制转轴3的转动，当齿条6与同步齿轮5脱离接触后，转轴3便能进行旋转。
[0021]具体的，本技术中，底座2的两端均固定有支座8，支座8上开设有导向槽9，导向槽9上滑动安装有滑座10，齿条6固定安装在滑座10上，底座2与滑座10之间通过弹簧11相接，调节机构包括调节气缸12、调节顶块13和调节滑块14，调节滑块14固定连接在滑座10上，调节气缸12的缸体固定在底座2上，调节顶块13固定接设在调节气缸12的伸缩杆上，调节顶块13与调节滑块14相接触的面为斜面。
[0022]当需要移动时，调节气缸12的伸缩杆伸长，推动调节顶块13移动，通过斜面配合顶着调节滑块14相对于底座2进行升降，进而带动滑座10沿着支座8上的导向槽9进行滑动，最终带动齿条6远离同步齿轮5，当调节气缸12缩回时，在弹簧11的作用下，滑座10向着同步齿轮5移动，使得齿条6继续与同步齿轮5相啮合，进而限制转轴3的旋转。
[0023]驱动机构包括驱动电机15、传动轴16、主动带轮17和从动带轮18，从动带轮18安装在转轴3上，底座2中固定安装有两个固定架20，驱动电机16固定在其中一个固定架20上，传动轴16的一端与驱动电机15连接且另一端转动插接在另一个固定架20上，主动带轮17安装在传动轴16上，主动带轮17和从动带轮18通过传动带19相接，底座2的底面上开设有带孔21以使传动带19能够与从动带轮18相接。
[0024]驱动电机15启动后能够直接带动传动轴16旋转，主动带轮17安装在传动轴16上，因此也会跟随传动轴16旋转，而从动带轮18安装在转轴3上且通过传动带19与主动带轮17
相接，主动带轮17旋转的同时能够带动从动带轮18转动，进而带动转轴3旋转，以此带动底座2和上料主体1移动。
[0025]需要强调的是，本技术所述的实施例是说明性的，而不是限定性的，因此本技术包括并不限于具体实施方式中所述的实施例，凡是由本领域技术人员根据本技术的技术方案得出的其他实施方式，同样属于本技术保护的范围。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种反应器稳定上料装置，其特征在于：包括上料主体和底座，所述上料主体安装在底座上，所述底座的两端均转动安装有两根转轴，所述转轴的两端安装有移动轮，所述底座中安装有驱动机构用以带动位于底座任一端的转轴旋转，所述转轴上安装有同步齿轮，所述底座上滑动安装有能够与同步齿轮相啮合的齿条，所述底座上设置有调节机构用以带动齿条移动从而与同步齿轮啮合或者脱离接触。2.根据权利要求1所述的一种反应器稳定上料装置，其特征在于：所述底座的两端均固定有两个支撑架，所述转轴转动安装在两个支撑架中。3.根据权利要求1所述的一种反应器稳定上料装置，其特征在于：所述底座的两端均固定有支座，所述支座上开设有导向槽，所述导向槽上滑动安装有滑座，所述齿条固定安装在滑座上，所述底座与滑座之间通过弹簧相接。4.根据权利要求1所述的一种反应器稳定上料装置，其特征在于：所述调节机构包括调节气缸、调节...
【专利技术属性】
技术研发人员：韩艳霞，白岩，邵宏伟，
申请(专利权)人：天津市天地创智科技发展有限公司，
类型：新型
国别省市：
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