一种Cd合金旋转靶材的加工方法技术

本发明专利技术公开了一种Cd合金旋转靶材的加工方法，将安装好的Cd合金旋转靶材采用端距粗加工和端距精加工结合的方式，对靶材进行两端端距加工和外圆加工；选择适用的刀具及刀片，按照加工参数进行加工：端距粗加工的走刀速度为0.2

【技术实现步骤摘要】
一种Cd合金旋转靶材的加工方法


[0001]本专利技术属于靶材加工
，更具体地，涉及一种Cd合金旋转靶材的加工方法。

技术介绍

[0002]溅射镀膜通常是利用高能放电使气体电离等离子化，正离子在电场作用下高速轰击阴极溅射靶体，击出阴极溅射靶体原子或分子，飞向被镀基体表面沉积成薄膜。溅射靶材表面粗糙度、靶材内部杂质、孔洞、裂纹、晶粒大小及均匀性均会对溅射镀膜产生影响。靶材表面粗糙度、靶材端距问题、孔洞可能会在靶材溅射造成打火现象。
[0003]碲化镉基光伏太阳能组件的组成包括诸如钼靶溅射成的背接触层，碲化镉溅射成的吸收层，硫化镉缓冲层，锡酸镉及ITO、氧化镉溅射而成的透明导电氧化物薄膜窗口层。为充分利用太阳能，光伏组件尺寸一般较大，因此需要大型旋转靶材来做大面积镀膜。大型旋转靶对靶材表面粗糙度、尺寸精度有较高需求。旋转靶材内衬管一般为不锈钢材质或者钛背管，溅射过程要保持溅射组件真空，所以背管密封性要保证。
[0004]CdIn、CdSn合金旋转靶材可用于溅射透明导电氧化物薄膜，应用于光伏组件的窗口层，而Cd及其合金属于高毒性本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种Cd合金旋转靶材的加工方法，其特征在于，将安装好的Cd合金旋转靶材采用端距粗加工和端距精加工结合的方式，对靶材进行两端端距加工和外圆加工；选择适用的刀具及刀片，按照加工参数进行加工：所述的端距粗加工的走刀速度为0.2
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0.5mm/r，所述的端距粗加工的单边进刀量为2
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3mm/r；所述的端距精加工的走刀速度为0.05
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0.2mm/r，所述的端距精加工的单边进刀量为0.05
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0.3mm/r。2.根据权利要求1所述的Cd合金旋转靶材的加工方法，其特征在于，所述的Cd合金为CdIn、CdSn合金的一种。3.根据权利要求1所述的Cd合金旋转靶材的加工方法，其特征在于，所述的外圆加工采用外圆粗加工和外圆精加工结合的方式进行，所述的外圆粗加工的走刀速度为0.2
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0.5mm/r，所述的外圆粗加工的单边进刀量为...

【专利技术属性】
技术研发人员：余飞，江佩庭，黄宇彬，童培云，朱刘，
申请(专利权)人：先导薄膜材料广东有限公司，
类型：发明
国别省市：