一种超声波雾化等离子体处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及雾化设备领域，尤其涉及一种超声波雾化等离子体处理装置，包括外壳以及固定在外壳中心位置的雾化组件和供气组件，外壳内部具有涡流道，涡流道的两个轴向面设置有对位的电极板，供气组件用于供气至电极板之间，电极板之间具有绝缘介质，所述雾化组件的径向面设置多组连通涡流道的雾化出口，本发明专利技术采用涡流道气体和雾化后的材料液，涡流道内具有全面的电离空间，使气体形成等离子体，涡卷式的传导给雾化液和等离子体足够的接触长度，环绕式的冲击使雾化液和等离子体充分混合，充分利用等离子体对雾化液滴优化处理，提高材料液成型颗粒的均匀性，混流口和导流壳的设置使涡流道内传导的雾化粒子和等离子体增加轴向混合幅度。度。度。

【技术实现步骤摘要】
一种超声波雾化等离子体处理装置


[0001]本专利技术涉及雾化设备领域，尤其涉及一种超声波雾化等离子体处理装置。

技术介绍

[0002]材料的粉末化处理是现代材料加工的重要课题，材料粉末化处理被广泛应用于工件压塑加工的原料获取以及材料表面涂层改性等领域，颗粒均匀的粉末材料具有优于传统材料的特性。
[0003]采用等离子体处理雾化材料是一种新型的材料颗粒成型方法，等离子体具有高温、高焓、高的化学反应活性对粉末颗粒制备以及颗粒球化具有明显的优点，现有专利CN 103794462 B公开了一种超声波雾化等离子体处理装置，其采用超声设备喷射材料液以及带有等离子体的气流，材料液与等离子流同向直线汇集，相对于独立的超声雾化处理具有一定的雾化均匀效果的提高，但直流喷射的方式导致等离子体与雾化液的接触很难充分混合，依靠等离子体与雾化液在直流方向上自身扩散达到混合，混合效率较低，对于等离子体的利用率也比较低。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是解决现有技术存在的以下问题：直流喷射的方式导致等离子体与雾化液的接触很难充分混合，依靠本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超声波雾化等离子体处理装置，包括外壳(1)以及固定在外壳(1)中心位置的雾化组件和供气组件，其特征在于，外壳(1)内部具有涡流道(10)，涡流道(10)的两个轴向面设置有对位的电极板(6)，供气组件用于供气至电极板(6)之间，电极板(6)之间具有绝缘介质(5)，所述雾化组件的径向面设置多组连通涡流道(10)的雾化出口。2.根据权利要求1所述的超声波雾化等离子体处理装置，其特征在于，所述供气组件包括芯壳(2)，芯壳(2)的中心位置开设有轴向一端贯通外部的气仓(8)，气仓(8)内设置有离心扇叶(12)，芯壳(2)外部安装有电机(4)，电机(4)的轴端连接离心扇叶(12)，气仓(8)通过通道(11)贯通涡流道(10)。3.根据权利要求2所述的超声波雾化等离子体处理装置，其特征在于，所述气仓(8)通过通道(11)切向贯通所述涡流道(10)的内端。4.根据权利要求2所述的超声波雾化等离子体处理装置，其特征在于，所述气仓(8)的外围开设有液仓(7)，液仓(7)通过雾化出口贯通涡流道(10)，所述雾化出口部位设置有陶瓷微孔雾化片(9)，液仓(7)通过进液组件(3)连通所述芯壳(2)外部。5.根据权利要求4所述的超声波雾化等离子体处理装置，其特征在于，所述陶瓷微孔雾化片(9)围绕所述芯壳(2)外壁等角度分布。6.根据权利要求5所述的超声波雾化等...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪嵘，
申请(专利权)人：安徽中科大禹科技有限公司，
类型：发明
国别省市：