一种可均匀喷洒的青椒育苗用灌溉装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于青椒育苗技术领域，公开了一种可均匀喷洒的青椒育苗用灌溉装置，该装置包括装置主体和保护外壳，所述装置主体的内部设置有过滤网，且过滤的上方连接有固定块，并且固定块的上方连接有培育盆，所述培育盆的中心开设有种植口，且种植口的下方设置有限位块，并且限位块的四周开设有第一出水口，所述装置主体的四周开设有第二出水口，所述保护外壳的内部设置有驱动丝杆。该可均匀喷洒的青椒育苗用灌溉装置，通过驱动电机带动移动块进行均速移动，从而对进行均匀喷水灌溉，且在储水管的一侧设置有管塞，可以通过管塞口连接不同长度的储水管，对不同大小的培育装置进行灌溉，提高灌溉装置的使用便捷性。提高灌溉装置的使用便捷性。提高灌溉装置的使用便捷性。

【技术实现步骤摘要】
一种可均匀喷洒的青椒育苗用灌溉装置


[0001]本技术涉及青椒育苗
，具体为一种可均匀喷洒的青椒育苗用灌溉装置。

技术介绍

[0002]现有市场上，为了保证市民的蔬菜需求，大多数的蔬菜都会进行集中培育，例如青椒就是集中培育的一种，青椒在幼苗时期会通过培育装置进行集中培育，成长到一定的时间后移植出培育装置进行种植，青椒幼苗在进行培育的过程中，需要使用到灌溉装置对青椒幼苗进行灌溉，但是目前市场上的灌溉装置还是存在以下问题：
[0003]1、目前市场上的灌溉装置在进行灌溉时多为工作人员进行手动喷洒灌溉，从而导致灌溉不均匀，使得有些区域灌溉过多，有的区域又没有完全进行灌溉，影响幼苗的培育工作进行；
[0004]2、培育装置在进行灌溉的过程中，灌溉的水堆积在培育装置表面，从而造成水流浸湿土壤，从而土壤长期处于潮湿状态下会腐烂青椒的幼苗，影响幼苗的正常成长。
[0005]针对上述问题，在原有的灌溉装置的基础上进行创新设计。

技术实现思路

[0006]本技术的目的在于提供一种可均匀喷洒的青椒育苗用灌溉装置，以解决上述
技术介绍
中提出的目前市场上的灌溉装置在进行灌溉时多为工作人员进行手动喷洒灌溉，从而导致灌溉不均匀，使得有些区域灌溉过多，有的区域又没有完全进行灌溉，影响幼苗的培育工作进行，培育装置在进行灌溉的过程中，灌溉的水堆积在培育装置表面，从而造成水流浸湿土壤，从而土壤长期处于潮湿状态下回腐烂青椒的幼苗，影响幼苗的正常成长的问题。
[0007]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种可均匀喷洒的青椒育苗用灌溉装置，包括装置主体和保护外壳，所述装置主体的内部设置有过滤网，且过滤的上方连接有固定块，并且固定块的上方连接有培育盆，所述培育盆的中心开设有种植口，且种植口的下方设置有限位块，并且限位块的四周开设有第一出水口，所述装置主体的四周开设有第二出水口，所述保护外壳的内部设置有驱动丝杆，且驱动丝杆的一侧连接有移动块，并且移动块的两侧连接有储水管，所述储水管的下方设置有喷水口，且储水管的一侧连接有管塞。
[0008]优选的，所述装置主体的两侧对称分布有第二出水口，且第二出水口的水位线高于第一出水口的水位线，并且第一出水口均匀等距分布在限位块的四周。
[0009]优选的，所述驱动丝杆的一侧键连接有驱动电机，且驱动丝杆与移动块的连接方式为螺纹连接，并且移动块呈长方形，所述移动块与保护外壳的连接方式为滑动连接。
[0010]优选的，所述培育盆呈圆形，且培育盆与固定块呈一体化安装，并且固定块均匀等距分布在过滤网的上方，并且培育盆由种植口贯穿与过滤网接触。
[0011]优选的，所述限位块的大小形状与培育盆一致，且限位块紧密贴合过滤网，并且限位块的数量与培育盆的数量一致。
[0012]优选的，所述储水管的下方均匀等距分布有喷水口，且储水管与管塞相互卡合，并且储水管的上方连接有外接水管，所述储水管与移动块呈一体化移动。
[0013]与现有技术相比，本技术的有益效果是：该可均匀喷洒的青椒育苗用灌溉装置，
[0014]1、通过驱动电机带动移动块进行均速移动，从而对进行均匀喷水灌溉，且在储水管的一侧设置有管塞，可以通过管塞口连接不同长度的储水管，对不同大小的培育装置进行灌溉，提高灌溉装置的使用便捷性；
[0015]2、通过在装置主体的内部设置有过滤网，从而培育土壤在过滤网的上方，而灌溉的水通过第一出水口进入到不同的限位块内部，从而保证每个培育盆底部都处于有水的状态，多余的水通过第二出水口排出装置主体内部，有利于保证青椒幼苗正常成长，便于避免水流堆积在土壤内部。
附图说明
[0016]图1为本技术整体正视结构示意图；
[0017]图2为本技术整体侧视结构示意图；
[0018]图3为本技术固定块俯视结构示意图；
[0019]图4为本技术限位块俯视结构示意图；
[0020]图5为本技术培育盆立体结构示意图；
[0021]图6为本技术保护外壳立体结构示意图。
[0022]图中：1、装置主体；2、驱动电机；3、移动块；4、保护外壳；5、驱动丝杆；6、种植口；7、培育盆；8、固定块；9、限位块；10、过滤网；11、第一出水口；12、第二出水口；13、喷水口；14、管塞；15、外接水管；16、储水管。
具体实施方式
[0023]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0024]请参阅图1
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6，一种可均匀喷洒的青椒育苗用灌溉装置，包括装置主体1和保护外壳4，为了对装置主体1内部进行均匀灌溉，可使得保护外壳4的内部设置有驱动丝杆5，且驱动丝杆5的一侧连接有移动块3，并且移动块3的两侧连接有储水管16，储水管16的下方设置有喷水口13，且储水管16的一侧连接有管塞14，驱动丝杆5的一侧键连接有驱动电机2，且驱动丝杆5与移动块3的连接方式为螺纹连接，并且移动块3呈长方形，移动块3与保护外壳4的连接方式为滑动连接，储水管16的下方均匀等距分布有喷水口13，且储水管16与管塞14相互卡合，并且储水管16的上方连接有外接水管15，储水管16与移动块3呈一体化移动，通过驱动电机2带动储水管16进行均速移动，从而保证均匀灌溉，使得装置可以自动化进行灌溉，且利用管塞14延长储水管16的长度，适配不同长度的培育装置，提高灌溉装置的使用效
率。
[0025]请参阅图1
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5，为了保护青椒，防止水土对其造成影响，可使得装置主体1的内部设置有过滤网10，且过滤网10的上方连接有固定块8，并且固定块8的上方连接有培育盆7，培育盆7的中心开设有种植口6，且种植口6的下方设置有限位块9，并且限位块9的四周开设有第一出水口11，装置主体1的四周开设有第二出水口12，装置主体1的两侧对称分布有第二出水口12，且第二出水口12的水位线高于第一出水口11的水位线，并且第一出水口11均匀等距分布在限位块9的四周，培育盆7呈圆形，且培育盆7与固定块8呈一体化安装，并且固定块8均匀等距分布在过滤网10的上方，并且培育盆7由种植口6贯穿与过滤网10接触，限位块9的大小形状与培育盆7一致，且限位块9紧密贴合过滤网10，并且限位块9的数量与培育盆7的数量一致，通过过滤网10隔开土壤与装置主体1的底部，且通过第一出水口11保证所有的培育盆7底部都含有灌溉的水流，多余的水流通过第二出水口12排出，有利于防止水流堆积在土壤内部，便于保护青椒幼苗的根底。
[0026]工作原理：根据图1
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6，首先，需要进行灌溉的时候，抓取保护外壳4，将保护外壳4置于装置主体1的中心点，后打开驱动电机2，驱动电机本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种可均匀喷洒的青椒育苗用灌溉装置，包括装置主体（1）和保护外壳（4），其特征在于：所述装置主体（1）的内部设置有过滤网（10），且过滤网（10）的上方连接有固定块（8），并且固定块（8）的上方连接有培育盆（7），所述培育盆（7）的中心开设有种植口（6），且种植口（6）的下方设置有限位块（9），并且限位块（9）的四周开设有第一出水口（11），所述装置主体（1）的四周开设有第二出水口（12），所述保护外壳（4）的内部设置有驱动丝杆（5），且驱动丝杆（5）的一侧连接有移动块（3），并且移动块（3）的两侧连接有储水管（16），所述储水管（16）的下方设置有喷水口（13），且储水管（16）的一侧连接有管塞（14）。2.根据权利要求1所述的一种可均匀喷洒的青椒育苗用灌溉装置，其特征在于：所述装置主体（1）的两侧对称分布有第二出水口（12），且第二出水口（12）的水位线高于第一出水口（11）的水位线，并且第一出水口（11）均匀等距分布在限位块（9）的四周。3.根据权利要求1所述的一种可均匀喷洒的青椒育苗用灌溉装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐新生，
申请(专利权)人：山东泽农润青农业科技有限公司，
类型：新型
国别省市：