一种稀土金属钪溅射靶材的制备设备制造技术

本发明专利技术公开了一种稀土金属钪溅射靶材的制备设备，其结构包括抛光器、设备箱、载靶台、驱动器，抛光器末端与驱动器内部嵌啮合连接，驱动器整体与设备箱上端内部嵌套连接，设备箱表面与载靶台整体嵌固连接，载靶台表面与抛光器整体嵌套连接，抛光器包括覆抛罩、动力轴、配重块，动力轴末端与驱动器内部啮合连接，动力轴顶端与覆抛罩表面螺旋连接，本发明专利技术通过抛光片对稀土金属钪溅射靶材表面进行抛光，过程中同一驱动的吸风扇在转动后将抛光产生的粉末向上吸起，导入导粉槽内部，在槽本体内部的排末槽的配合下排出覆抛罩内部，有效解决了粉末都堆积在靶材表面，容易使抛光深度增加，造成稀土金属钪溅射靶材抛光损耗提高的问题发生。稀土金属钪溅射靶材抛光损耗提高的问题发生。稀土金属钪溅射靶材抛光损耗提高的问题发生。

【技术实现步骤摘要】
一种稀土金属钪溅射靶材的制备设备


[0001]本专利技术涉及稀土金属精深产品制备
，具体是一种稀土金属钪溅射靶材的制备设备。

技术介绍

[0002]溅射靶材的要求较传统材料行业高，稀土金属钪溅射靶材则是在溅射靶材的制备基础上加入稀土金属钪，使其稀土金属钪合成在溅射靶材内，这类产品的生产较高要求包含有，表面粗糙度、超高密度、超细晶粒等等，所以相比之下传统材料行业达不到生产要求；
[0003]但是现有技术中存在以下不足：当前一种稀土金属钪溅射靶材的制备设备，指的是对表面平整度抛光的高精抛光机，由于抛光的过程中，将靶材整体笼罩进行平整度抛光，使得抛光产生的粉末都堆积在靶材表面，从而导致受粉末影响容易使抛光深度增加，进而造成稀土金属钪溅射靶材抛光损耗提高。

技术实现思路

[0004]针对现有技术存在的不足，本专利技术目的是提供一种稀土金属钪溅射靶材的制备设备，以解决现有技术当前一种稀土金属钪溅射靶材的制备设备，指的是对表面平整度抛光的高精抛光机，由于抛光的过程中，将靶材整体笼罩进行平整度抛光，使得抛光产生的粉尘都堆积在靶材表面，从而导致受粉尘影响容易使抛光深度增加，进而造成稀土金属钪溅射靶材抛光损耗提高的问题。
[0005]为了实现上述目的，本专利技术是通过如下的技术方案来实现：一种稀土金属钪溅射靶材的制备设备，其结构包括抛光器、设备箱、载靶台、驱动器，所述抛光器末端与驱动器内部嵌啮合连接，所述驱动器整体与设备箱上端内部嵌套连接，所述设备箱表面与载靶台整体嵌固连接，所述载靶台表面与抛光器整体嵌套连接，所述抛光器包括覆抛罩、动力轴、配重块，所述动力轴末端与驱动器内部啮合连接，所述动力轴顶端与覆抛罩表面螺旋连接，所述覆抛罩上端与配重块整体间隙配合，所述配重块中心与动力轴表面嵌套连接。
[0006]对本专利技术进一步地改进，所述覆抛罩包括缓压架、滑轮挡板、抛光片、吸风扇，所述抛光片顶端与动力轴顶端螺旋连接，所述动力轴表面与吸风扇整体嵌套连接，所述吸风扇下端与抛光片表面间隙配合，所述抛光片两侧与滑轮挡板整体间隙配合，所述滑轮挡板顶端与缓压架底部焊接连接，所述缓压架内侧与吸风扇整体活动配合，所述吸风扇整体分布在缓压架内侧，抛光片上端，和其缓压架内表面间隙配合，与抛光片共用同一驱动轴。
[0007]对本专利技术进一步地改进，所述缓压架包括导粉槽、支撑柱、缓冲块、辅压杆，所述缓冲块表面与抛光片上表面卡合连接，所述缓冲块中心与辅压杆顶端螺栓固定，所述辅压杆末端与支撑柱内壁焊接连接，所述支撑柱顶端与导粉槽整体嵌固连接，所述缓冲块分布在辅压杆顶端底部，中心与其辅压杆顶端进行螺栓固定，表面焊接有六根短小弹簧。
[0008]对本专利技术进一步地改进，所述导粉槽包括排末槽、摆动板、滑盖、槽本体，所述排末槽整体与支撑柱外壁嵌固连接，所述排末槽表面与槽本体左端嵌固连接，所述槽本体内部
与摆动板两端铰接连接，所述摆动板上端与滑盖整体间隙配合，所述滑盖两端与槽本体表面滑动配合，所述滑盖采用塑料材质制造而成，可以进行折叠与滑动，将其槽本体内部进行覆盖，与槽本体内部的摆动板间隙配合。
[0009]对本专利技术进一步地改进，所述载靶台包括辅转器、靶座、台本体、隔断凹槽，所述靶座整体与抛光器整体嵌套配合，所述辅转器表面与靶座表面滑动配合，所述靶座底部与台本体表面嵌固连接，所述台本体表面与隔断凹槽整体嵌固连接，所述隔断凹槽内侧与靶座整体间隙配合，所述辅转器设有四个，平均分布在靶座四周，表面与靶座进行活动配合，底部和台本体表面螺栓固定。
[0010]对本专利技术进一步地改进，所述辅转器包括限位转板、稳固座、滑槽，所述稳固座底部与台本体表面螺栓固定，所述稳固座内壁与滑槽两端螺栓固定，所述滑槽表面与限位转板末端滑动配合，所述限位转板整体与稳固座整体间隙配合，所述限位转板分布在稳固座表面，通过与稳固座表面螺栓固定的滑槽进行滑动配合，实现上下调节。
[0011]对本专利技术进一步地改进，所述限位转板包括降压块、滑动块、转轮板，所述滑动块整体与滑槽内部滑动配合，所述降压块顶端与转轮板内壁嵌固连接，所述转轮板内侧与滑动块整体间隙配合，所述滑动块整体与降压块右上端嵌固连接，所述降压块分布在转轮板后端，顶端与转轮板内部嵌固连接，左上端和滑动块整体嵌固连接。
[0012]对本专利技术进一步地改进，所述降压块包括弹力柱、嵌固块、衔接槽、块支板体，所述衔接槽表面与滑动块整体嵌固连接，所述弹力柱顶端与转轮板内壁嵌固连接，所述弹力柱末端与嵌固块内部嵌固连接，所述嵌固块整体与块支板体表面焊接连接，所述块支板体右壁与衔接槽整体焊接连接，所述弹力柱设有三根，末端与嵌固块内部嵌固连接，整体和块支板体形成间隙配合。
[0013]有益效果
[0014]与现有技术相比，本专利技术具有如下有益效果；
[0015]1.本专利技术通过抛光片对稀土金属钪溅射靶材表面进行抛光，过程中同一驱动的吸风扇在转动后将抛光产生的粉末向上吸起，导入导粉槽内部，在槽本体内部的排末槽的配合下排出覆抛罩内部，有效解决了粉末都堆积在靶材表面，容易使抛光深度增加，造成稀土金属钪溅射靶材抛光损耗提高的问题发生。
[0016]2.本专利技术通过辅转器内部限位转板将其稀土金属钪溅射靶材位置限制在靶座中心，当稀土金属钪溅射靶材发生偏移时，转轮板受到压力，对降压块内的弹力柱进行挤压，使得弹力柱缓冲后立马将其转轮板方位复原，有效的使其稀土金属钪溅射靶材保持在设备中心，避免抛光过程中出现偏移的问题发生。
附图说明
[0017]图1为本专利技术一种稀土金属钪溅射靶材的制备设备的结构示意图。
[0018]图2为本专利技术抛光器的内部结构示意图。
[0019]图3为本专利技术覆抛罩的内部结构示意图。
[0020]图4为本专利技术缓压架的内部结构示意图。
[0021]图5为本专利技术导粉槽的俯视结构示意图。
[0022]图6为本专利技术载靶台的俯视结构示意图。
[0023]图7为本专利技术辅转器的侧视结构示意图。
[0024]图8为本专利技术限位转板的俯视结构示意图。
[0025]图9为本专利技术降压块的内部结构示意图。
[0026]图中：抛光器
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1、设备箱
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2、载靶台
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3、驱动器
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4、覆抛罩
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11、动力轴
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12、配重块
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13、缓压架
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111、滑轮挡板
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112、抛光片
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113、吸风扇
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114、导粉槽
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a1、支撑柱
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a2、缓冲块
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a3、辅压杆
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a4、排末槽
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a11、摆动板
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a12、滑盖
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a13、槽本体
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a14、辅转器
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31、靶座
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32、台本体
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种稀土金属钪溅射靶材的制备设备，其结构包括抛光器(1)、设备箱(2)、载靶台(3)、驱动器(4)，所述抛光器(1)末端与驱动器(4)内部嵌啮合连接，所述驱动器(4)整体与设备箱(2)上端内部嵌套连接，所述设备箱(2)表面与载靶台(3)整体嵌固连接，所述载靶台(3)表面与抛光器(1)整体嵌套连接，其特征在于：所述抛光器(1)包括覆抛罩(11)、动力轴(12)、配重块(13)，所述动力轴(12)末端与驱动器(4)内部啮合连接，所述动力轴(12)顶端与覆抛罩(11)表面螺旋连接，所述覆抛罩(11)上端与配重块(13)整体间隙配合，所述配重块(13)中心与动力轴(12)表面嵌套连接。2.根据权利要求1所述的一种稀土金属钪溅射靶材的制备设备，其特征在于：所述覆抛罩(11)包括缓压架(111)、滑轮挡板(112)、抛光片(113)、吸风扇(114)，所述抛光片(113)顶端与动力轴(12)顶端螺旋连接，所述动力轴(12)表面与吸风扇(114)整体嵌套连接，所述吸风扇(114)下端与抛光片(113)表面间隙配合，所述抛光片(113)两侧与滑轮挡板(112)整体间隙配合，所述滑轮挡板(112)顶端与缓压架(111)底部焊接连接，所述缓压架(111)内侧与吸风扇(114)整体活动配合。3.根据权利要求2所述的一种稀土金属钪溅射靶材的制备设备，其特征在于：所述缓压架(111)包括导粉槽(a1)、支撑柱(a2)、缓冲块(a3)、辅压杆(a4)，所述缓冲块(a3)表面与抛光片(113)上表面卡合连接，所述缓冲块(a3)中心与辅压杆(a4)顶端螺栓固定，所述辅压杆(a4)末端与支撑柱(a2)内壁焊接连接，所述支撑柱(a2)顶端与导粉槽(a1)整体嵌固连接。4.根据权利要求3所述的一种稀土金属钪溅射靶材的制备设备，其特征在于：所述导粉槽(a1)包括排末槽(a11)、摆动板(a12)、滑盖(a13)、槽本体(a14)，所述排末槽(a11)整体与支撑柱(a2)外壁嵌固连接，所述排末槽(a11)表面与槽本体(a14)左端嵌固连接，所述槽本体(a14...

【专利技术属性】
技术研发人员：林庆银，
申请(专利权)人：林庆银，
类型：发明
国别省市：