一种用于泵浦探测光谱仪的样品温度调控系统技术方案

本发明专利技术提供一种用于泵浦探测光谱仪的样品温度调控系统，包括真空和气氛调节系统、温度调节系统。腔体顶部中间位置设置有三通阀孔，三通阀孔连接真空三通阀和真空表；腔体侧面设置有外循环水进出孔、气体置换孔以及腔体内部与外部的通电孔；温度调节系统依托在底部支架上，底部支架的槽里依次放有水冷头、制冷片和比色皿支架；比色皿架上安有热敏探头，用于探测样品的温度，用PID控制器控制制冷片功率输出；温度调节系统可精确调控温度范围

【技术实现步骤摘要】
一种用于泵浦探测光谱仪的样品温度调控系统


[0001]本专利技术涉及一种光谱仪器
，特别涉及一种用于泵浦探测光谱仪的样品温度调控系统。

技术介绍

[0002]目前商业化的光谱仪器，比如吸收光谱仪、荧光光谱仪等，在测量样品时经常需要控制样品的温度。比如堀场、铂金
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埃尔默、岛津等著名光谱仪器公司，在样品温度控制的
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25度到100度范围，常常使用外部循环水设备与适配的样品架来完成。然而，在实际使用时，商用普通循环水设备的设定温度与样品架的实际温度总是有差异，特别是当设定温度与室温差距较大时，由于空气环境以及样品架接触物质的热浴效应，导致样品实际温度达不到设定温度，而且当设定温度低于零度时，样品与样品架上都会出现水蒸汽结霜现象，这导致样品不透光从而不能正常测量样品信号。在更大温度范围，比如4K到常温，77K到常温，常用液氮或液氦的装置来控制样品温度，比较典型的如牛津仪器OptistatCF
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V，然而，这样的设备造价高昂，维护成本也高。
[0003]为了避免水蒸汽在样品上凝结，并且本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于泵浦探测光谱仪的样品温度调控系统，其特征在于，包括：真空和气氛调节系统、温度调调节系统；所述真空和气氛调节系统包括：真空泵(14)、气瓶(17)、上腔体(1)和下腔体(9)；所述真空腔体用于密闭隔绝空气、控制腔体内部真空度、置换气体；所述上腔体(1)的顶部设置有三通阀孔(4)，所述三通阀孔(4)与真空三通阀(3)连接；所述上腔体(1)的四个侧面相对设置有多个通光孔(6)；所述下腔体(9)设置有循环水孔(10)、电线出入孔(11)以及气体注入孔(8)，分别在下腔体前壁距边20毫米、中间和后面距底部10毫米处；所述温度调调节系统包括：水冷头(21)、制冷片(20)、比色皿支架(18)、热敏探头(19)、底座支架(22)、循环冷却水设备(15)和PID控制器设备(16)；所述温度调节系统设置在所述真空腔体的内部，底部支架用螺钉紧固于真空腔体底部，用于控制样品温度。2.根据权利要求1所述的用于泵浦探测光谱仪的样品温度调控系统，其特征在于：所述上腔体(1)和下腔体(9)通过螺钉连接，所述上腔体(1)和下腔体(9)间通过加密封垫圈进行密封，使所述真空腔体内部密闭隔绝空气。3.根据权利要求1所述的用于泵浦探测光谱仪的样品温度调控系统，其特征在于：所述真空三通阀(3)分别与所述上腔体(1)、真空泵管(13)和真空表(2)连接；所述真空泵管(13)的另一端与真空泵(14)连接；通过所述真空三通阀(3)上的旋钮和所述真空泵(14)控制抽真空速度、真空腔体内部真空度；所述真空腔体的内部真空度通过所述真空表(2)显示。4.根据权利要求1所述的用于泵浦探测光谱仪的样品温度调控系统，其特征在于：所...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩克利，王彦刚，羊送球，
申请(专利权)人：中国科学院大连化学物理研究所，
类型：发明
国别省市：