窗和制造窗的方法技术

本公开提供一种窗和一种制造窗的方法，所述制造窗的方法包括使窗基底老化48小时至72小时，使老化的所述窗基底经受等离子体，以及在所述等离子体处理过的窗基底上形成抗指纹层。层。层。

【技术实现步骤摘要】
窗和制造窗的方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2021年2月23日在韩国知识产权局提交的第10
‑
2021
‑
0024228号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的全部内容通过引用包含于此。


[0003]一个或多个实施例涉及一种窗和一种制造窗的方法。

技术介绍

[0004]使用了各种移动显示装置，并且这些显示装置可以包括提供图像的显示面板和保护显示面板的窗。
[0005]窗可以包括保护显示面板免受诸如油、指纹和各种异物的污染源影响的涂覆层。

技术实现思路

[0006]根据一个或多个实施例，对窗基底执行老化工艺之后使老化的所述窗基底经受等离子体处理，以提高等离子体处理的效率。另外的方面将在接下来的描述中被部分地阐明，并且将通过描述而部分地清楚，或者可以通过本公开给出的实施例的实践而了解。
[0007]根据一个或多个实施例，制造窗的方法包括使窗基底老化48小时至72小时，使老化的所述窗基底经受等离子体，以及在等离子体处理过的所述窗基本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种制造窗的方法，其中，所述方法包括：使窗基底老化48小时至72小时；使老化的所述窗基底经受等离子体；以及在等离子体处理过的所述窗基底上形成抗指纹层。2.如权利要求1所述的方法，其中，在20℃至100℃的温度下执行所述窗基底的所述老化。3.如权利要求2所述的方法，其中，在50％至100％的相对湿度下执行所述窗基底的所述老化。4.如权利要求1所述的方法，其中，所述等离子体包含氧。5.如权利要求4所述的方法，其中，使老化的所述窗基底经受所述等离子体执行30秒至90秒。6.如权利要求1所述的方法，其中，所述抗指纹层包括包含与全氟聚醚键合的硅氮烷基团的结构。7.如权利要求6所述的方法，其中，所述抗指纹层包括由式1表示的化合物：式1(PFPE)
x
–
Si
–
[(NH
–
R)
n
–
NH2]
y
其中，在式1中，PFPE为全氟聚醚基团，R为C2‑
C
10
亚烷基基团，x和y各自独立地为从1至3的整数，x+y＝4，并且n为从1至5的整数。8.如权利要求1所述的方法，其中，所述抗指纹层的表面上的氟原子与原子总数的比为0.7:1或更大。9.如权利要求1所述的方法，其中，所述抗指纹层的水接触角为100度或更大。10.如权利要求1所述的方法，其中，所述窗基底包括聚合物树脂。11.如权利要求1所述的方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：尹贤敬，高知贤，徐铉承，李东成，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：