真空设备制造技术

根据各实施例，真空设备包括：下部腔体；上部腔体，与所述下部腔体结合而形成真空状态；以及基板移送部，至少一部分位于所述下部腔体内，并且将基板排出至所述下部腔体之外，所述基板移送部包括：真空维持部，与所述下部腔体的下部面密接；旋转部，与所述真空维持部连接，并且位于所述下部腔体的内部；一对宽度调节部，与所述旋转部连接；一对臂部，所述一对臂部中的一个臂部与所述一对宽度调节部中的一个宽度调节部连接，并且所述一对臂部中的另一个臂部与所述一对宽度调节部中的另一个宽度调节部连接；以及多个吸附部，位于所述一对臂部的一侧末端。的一侧末端。的一侧末端。

【技术实现步骤摘要】
真空设备


[0001]本公开涉及包括基板移送部的真空设备，更具体而言涉及在内部具备可排出完成品的基板移送部的真空设备。

技术介绍

[0002]作为平板显示装置，公知有液晶显示装置(liquid crystal display：LCD)、等离子显示装置(plasma display panel：PDP)、有机发光显示装置(organic light emitting diode device：OLED device)、场效应显示装置(field effect display：FED)、电泳显示装置(electrophoretic display device)等。
[0003]随着开发出包括平板显示装置的各种电子设备，形成平板显示装置的基板的大小也变得多样化。此外，在平板显示装置用制造设备中所使用的基板使用相加了多个平板显示装置用基板的大尺寸的母基板来形成各层，并且执行附着膜等的工序。如上所述的大尺寸的基板具有移送时需要注意并且制造基板时工序时间长的缺点。

技术实现思路

[0004]各实施例用于提供一种可以缩短工序时间的包括基板移送部的真空设备。
[0005]一实施例涉及的真空设备包括：下部腔体；上部腔体，与所述下部腔体结合而形成真空状态；以及基板移送部，至少一部分位于所述下部腔体内，并且将基板排出至所述下部腔体之外，所述基板移送部包括：旋转部，位于所述下部腔体的内部；一对宽度调节部，与所述旋转部连接；以及一对臂部，所述一对臂部中的一个臂部与所述一对宽度调节部中的一个宽度调节部连接，并且所述一对臂部中的另一个臂部与所述一对宽度调节部中的另一个宽度调节部连接。
[0006]可以是，所述基板移送部还包括：真空维持部，与所述下部腔体的下部面密接；以及多个吸附部，位于所述一对臂部的一侧末端，所述旋转部与所述真空维持部连接，所述旋转部使接合了位于所述下部腔体的下部材料和位于所述上部腔体的上部材料的所述基板旋转来将其排出至外部。
[0007]可以是，所述基板移送部还包括：支承柱，位于所述真空维持部的内部；以及第一主体，与所述支承柱的末端连接，并且支承所述旋转部。
[0008]可以是，所述基板移送部还包括：一对上下移动部，分别位于所述第一主体的两末端，从而使所述基板移送部上下移动。
[0009]可以是，所述一对臂部分别包括：第一连接部，与所述一对宽度调节部中的相应的宽度调节部连接；以及吸附部支承杆，与所述多个吸附部紧固连接而进行支承。
[0010]可以是，所述一对宽度调节部分别包括：缸体，进行线性运动；以及操作部，根据所述缸体的操作调节所述操作部的长度，并且所述操作部的末端具有以圆形结构扩展的宽度。
[0011]可以是，所述操作部与所述第一连接部连接，并且在所述操作部与所述第一连接
部之间形成有间隙。
[0012]可以是，所述间隙在0.1mm以上且在0.3mm以下。
[0013]可以是，所述基板移送部还包括：第二主体，位于所述旋转部与所述一对宽度调节部之间。
[0014]可以是，所述基板移送部还包括：引导部，位于所述第二主体上，并且包括轨道。
[0015]可以是，所述一对臂部分别还包括与所述引导部连接的第二连接部。
[0016]可以是，所述基板移送部中的所述旋转部、所述一对宽度调节部、所述一对臂部、所述多个吸附部、所述第一主体、所述第二主体、所述一对上下移动部和所述引导部位于所述下部腔体内。
[0017]一实施例涉及的真空设备包括：下部腔体；上部腔体，与所述下部腔体结合而形成真空状态；以及基板移送部，至少一部分位于所述下部腔体内，并且将基板排出至所述下部腔体之外，所述基板移送部包括：旋转部，位于所述下部腔体的内部；以及臂部，与所述旋转部连接，并且具有被弯曲的线性结构。
[0018]可以是，所述臂部具有被弯曲的线性杆结构。
[0019]可以是，所述基板移送部还包括：真空维持部，与所述下部腔体的下部面密接；多个吸附部，位于所述臂部的一侧末端；以及上下移动部，连接所述旋转部与所述臂部，并且使所述臂部进行上下线性运动，所述旋转部与所述真空维持部连接。
[0020]可以是，所述基板移送部还包括：支承柱，位于所述真空维持部的内部；以及主体，与所述支承柱的末端连接，并且支承所述旋转部。
[0021]可以是，所述多个吸附部吸附位于所述下部腔体的下部材料和位于所述上部腔体的上部材料被接合的所述基板的中央部，并且所述基板移送部使所吸附的所述基板旋转来将其排出至外部。
[0022]一实施例涉及的真空设备包括：下部腔体；上部腔体，与所述下部腔体结合而形成真空状态；以及基板移送部，至少一部分位于所述下部腔体内，并且将基板排出至所述下部腔体之外，所述基板移送部具有一对线性移送部，所述一对线性移送部分别包括：主体，位于所述下部腔体的内部；第一宽度调节部和第二宽度调节部，与所述主体连接；以及臂部，与所述第一宽度调节部的末端连接。
[0023]可以是，所述一对线性移送部分别还包括：真空维持部，与所述下部腔体的下部面密接；多个吸附部，位于所述臂部的一侧末端；以及一对上下移动部，与所述主体连接，并且使所述主体上下移动，所述主体与所述真空维持部连接。
[0024]可以是，所述第一宽度调节部和所述第二宽度调节部中的至少一个包括缸体。
[0025](技术效果)
[0026]根据各实施例，可以将基板移送部形成在真空设备的内部，从而若真空设备被打开则快速排出并移送接合了上部材料和下部材料的基板，由此可以缩短工序时间。此外，可以快速排出已接合的基板，从而后续可以向真空设备快速传递上部材料和下部材料，由此可以缩短整体的工序时间。
附图说明
[0027]图1和图2是一实施例涉及的真空设备的示意图。
[0028]图3是一实施例涉及的基板移送部的操作说明图。
[0029]图4和图5是从一实施例涉及的真空设备分别传递上部材料和下部材料的传递部的示意图。
[0030]图6是一实施例涉及的基板移送部的立体图。
[0031]图7至图14是表示图6的实施例涉及的基板移送部的各部分的图。
[0032]图15是表示图6的实施例涉及的基板移送部的操作的图。
[0033]图16是又一实施例涉及的基板移送部的立体图。
[0034]图17是表示图16的实施例涉及的基板移送部的操作的图。
[0035]图18是又一实施例涉及的基板移送部的立体图。
[0036]图19是表示图18的实施例涉及的基板移送部的操作的图。
[0037]符号说明：
[0038]100：下部腔体；200：上部腔体；400：上部材料传递部；500：下部材料传递部；450：轨道；30：基板；40：上部材料；50：下部材料；300、300
‑
1、300
‑
2：基板移送部；310：驱动部；310
‑
1、310
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空设备，其特征在于，包括：下部腔体；上部腔体，与所述下部腔体结合而形成真空状态；以及基板移送部，至少一部分位于所述下部腔体内，并且将基板排出至所述下部腔体之外，所述基板移送部包括：旋转部，位于所述下部腔体的内部；一对宽度调节部，与所述旋转部连接；以及一对臂部，所述一对臂部中的一个臂部与所述一对宽度调节部中的一个宽度调节部连接，并且所述一对臂部中的另一个臂部与所述一对宽度调节部中的另一个宽度调节部连接。2.根据权利要求1所述的真空设备，其特征在于，所述基板移送部还包括：真空维持部，与所述下部腔体的下部面密接；以及多个吸附部，位于所述一对臂部的一侧末端，所述旋转部与所述真空维持部连接，所述旋转部使接合了位于所述下部腔体的下部材料和位于所述上部腔体的上部材料的所述基板旋转来将其排出至外部。3.根据权利要求2所述的真空设备，其特征在于，所述基板移送部还包括：支承柱，位于所述真空维持部的内部；以及第一主体，与所述支承柱的末端连接，并且支承所述旋转部。4.根据权利要求3所述的真空设备，其特征在于，所述基板移送部还包括：一对上下移动部，分别位于所述第一主体的两末端，从而使所述基板移送部上下移动。5.根据权利要求4所述的真空设备，其特征在于，所述一对臂部分别包括：第一连接部，与所述一对宽度调节部中的相应的宽度调节部连接；以及吸附部支承杆，与所述多个吸附部紧固连接而进行支承。6.根据权利要求5所述的真空设备，其特征在于，所述一对宽度调节部分别包括：缸体...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴泰泳，姜锡宙，李俊熙，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：新型
国别省市：