本发明专利技术涉及等离子体气相沉积技术领域，具体为一种用于航空材料的等离子体气相沉积装置，包括：反应仓，反应仓的内部设置有活塞杆；活塞杆，活塞杆的表面设置有连接杆，连接杆的端部安装有收集架，收集架的顶部安装有第一立杆，第一立杆的顶部设置有立杆，立杆的顶部设置有伸缩杆，伸缩杆的端部安装有清理板及气缸，设于反应仓的底部；有益效果为：本发明专利技术提出的气缸带动活塞杆上升，活塞杆上升后通过连接杆带动收集架上升，清理板表面的第一刮除杆接触到反应仓的内壁，将反应仓内部的残留物刮除，且第一刮除杆的端部设置有第二刮除杆，加大刮除的面积，且第一刮除杆的底部设置有刮除板，刮除板对反应仓内部的残留物进一步的刮除。除。除。
【技术实现步骤摘要】
一种用于航空材料的等离子体气相沉积装置
[0001]本专利技术涉及等离子体气相沉积
，具体为一种用于航空材料的等离子体气相沉积装置。
技术介绍
[0002]航空材料是制造飞机、航空发动机及其附件、仪表及随机设备等所用材料的总称，通常包括金属材料(结构钢、不锈钢、高温合金、有色金属及合金)、有机高分子材料(橡胶、塑料、透明材料、涂料)和复合材料；
[0003]化学或物理气相沉积装置是实现薄膜沉积技术的常用设备。物理气相沉积往往通过蒸发、离子束、溅射的方式，存在着效率不高，且膜层沉积不均匀的缺点，成本也高。化学气相沉积装置可以有效解决上述问题；
[0004]成长过程中的杂质可能在样品镀膜过程中污染样品；杂质容易附着在腔室内，进而在反复使用时，使得腔室内的附着物越来越多，造成基板上出现杂质，影响膜层沉积，导致成膜不均匀。
技术实现思路
[0005]本专利技术的目的在于提供一种用于航空材料的等离子体气相沉积装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0006]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种用于航空材料的等离子体气相沉积装置，包括：
[0007]反应仓，反应仓的内部设置有活塞杆；
[0008]活塞杆，活塞杆的表面设置有连接杆，连接杆的端部安装有收集架，收集架的顶部安装有第一立杆，第一立杆的顶部设置有立杆，立杆的顶部设置有伸缩杆，伸缩杆的端部安装有清理板及气缸，设于反应仓的底部。
[0009]优选的，所述反应仓的顶部安装有连接管，连接管的内部为空，连接管的内部与反应仓的内部相通，气缸的顶部与活塞杆相连，活塞杆在气缸的驱动下进行上下的的升降。
[0010]优选的，所述连接杆具有四组，收集架呈环形，收集架的顶部开设有收集槽，收集架的顶部安装有第二立板，第二立板紧靠着反应仓的内壁，第二立板的高度与第一立杆的高度一致。
[0011]优选的，所述立杆具有多组，均匀的安装在第一立杆的顶部，立杆的顶部开设有插接孔，伸缩杆插接在插接孔中，且伸缩杆可在插接孔中滑动，伸缩杆的端部安装有限位板。
[0012]优选的，所述伸缩杆的外部设置有弹簧，弹簧的一端连接着限位板的表面，另一端连接着立杆的表面，立杆的表面安装有支撑杆，支撑杆的端部安装有支撑环，支撑环套设在伸缩杆的外部，伸缩杆可在支撑环内部移动。
[0013]优选的，所述清理板的表面安装有第一刮除杆，第一刮除杆具有多组，第一刮除杆均匀的排列在清理板的表面，第一刮除杆的端部安装有延伸板，延伸板具有两组，位于第一
刮除杆的两端，延伸板的表面安装有第二刮除杆。
[0014]优选的，所述清理板的表面安装有刮除板，刮除板位于第一刮除杆的底部，刮除板的表面开设有通孔，通孔具有多组，多组通孔均匀的排列在刮除板的表面。
[0015]优选的，所述刮除板的底部安装有第一毛刷，第一毛刷具有多组，多组第一毛刷具有的排列在清理板的表面，第一毛刷之间设置有距离。
[0016]优选的，所述第一毛刷的底部设置有第二毛刷，第二毛刷具有多组，多组第二毛刷均匀的排列在清理板的表面，每组第二毛刷位于第一毛刷之间空隙的位置。
[0017]优选的，所述活塞杆的顶部设置有样品台，样品放置在样品台的顶部，样品台跟随着活塞杆在反应仓的内部升降。
[0018]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
[0019]本专利技术提出的气缸带动活塞杆上升，活塞杆上升后通过连接杆带动收集架上升，清理板表面的第一刮除杆接触到反应仓的内壁，将反应仓内部的残留物刮除，且第一刮除杆的端部设置有第二刮除杆，加大刮除的面积，且第一刮除杆的底部设置有刮除板，刮除板对反应仓内部的残留物进一步的刮除，且刮除的残留物通过通孔落下，刮除板的底部设置有第一毛刷和第二毛刷，第一毛刷和第二毛刷将反应仓内壁的细小的残留物扫除，且第一毛刷与第二毛刷之间残留间隙，便于残留物掉落，残留物掉落到收集槽中，收集槽将残留物收集起来，便于统一清理，减小反应仓内部残留物堆积。
附图说明
[0020]图1为本专利技术剖面立体结构示意图；
[0021]图2为图1中A处结构放大示意图；
[0022]图3为本专利技术立杆立体结构示意图；
[0023]图4为本专利技术立杆侧视立体结构示意图；
[0024]图5为本专利技术清理板立体结构示意图；
[0025]图6为本专利技术第一刮除杆立体结构示意图；
[0026]图7为本专利技术清理板剖面立体结构示意图；
[0027]图8为本专利技术清理板剖面立体结构示意图。
[0028]图中：反应仓1、连接管2、气缸3、样品台4、活塞杆5、连接杆6、第一立板7、收集槽8、清理板9、伸缩杆10、支撑环11、支撑杆12、立杆13、弹簧14、限位板15、第一刮除杆16、刮除板17、第一毛刷18、第二毛刷19、延伸板20、第二刮除杆21、通孔22、第二立板23、收集架24、插接孔25。
具体实施方式
[0029]为了使本专利技术的目的、技术方案进行清楚、完整地描述，及优点更加清楚明白，以下结合附图对本专利技术实施例进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例，仅仅用以解释本专利技术实施例，并不用于限定本专利技术实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0030]在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“中”、“上”、“下”、“左”、“右”、
“
内”、“外”、“顶”、“底”、“侧”、“竖直”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“一”、“第一”、“第二”、“第三”、“第四”、“第五”、“第六”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0031]在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0032]出于简明和说明的目的，实施例的原理主要通过参考例子来描述。在以下描述中，很多具体细节被提出用以提供对实施例的彻底理解。然而明显的是，对于本领域普通技术人员，这些实施例在实践中可以不限于这些具体细节。在一些实例中，没有详细地描述公知方法和结构，以避免无必要地使这些实施例变得难以理解。另外，所有实施例可以互相结合使用。
[0033]请参阅图1至图8，本专利技术提供一种技术方案：一种用于航空材料的等离子体气相沉积装置，包括：反应仓1，反应仓1的内部设置有活塞杆5，反应仓1的顶部安装有连接管2，连接管本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于航空材料的等离子体气相沉积装置，其特征在于：包括：反应仓(1)，反应仓(1)的内部设置有活塞杆(5)；活塞杆(5)，活塞杆(5)的表面设置有连接杆(6)，连接杆(6)的端部安装有收集架(24)，收集架(24)的顶部安装有第一立杆(7)，第一立杆(7)的顶部设置有立杆(13)，立杆(13)的顶部设置有伸缩杆(10)，伸缩杆(10)的端部安装有清理板(9)；及气缸(3)，设于反应仓(1)的底部。2.根据权利要求1所述的一种用于航空材料的等离子体气相沉积装置，其特征在于：所述反应仓(1)的顶部安装有连接管(2)，连接管(2)的内部为空，连接管(2)的内部与反应仓(1)的内部相通，气缸(3)的顶部与活塞杆(5)相连，活塞杆(5)在气缸(3)的驱动下进行上下的的升降。3.根据权利要求1所述的一种用于航空材料的等离子体气相沉积装置，其特征在于：所述连接杆(6)具有四组，收集架(24)呈环形，收集架(24)的顶部开设有收集槽(8)，收集架(24)的顶部安装有第二立板(23)，第二立板(23)紧靠着反应仓(1)的内壁，第二立板(23)的高度与第一立杆(7)的高度一致。4.根据权利要求3所述的一种用于航空材料的等离子体气相沉积装置，其特征在于：所述立杆(13)具有多组，均匀的安装在第一立杆(7)的顶部，立杆(13)的顶部开设有插接孔(25)，伸缩杆(10)插接在插接孔(25)中，且伸缩杆(10)可在插接孔(25)中滑动，伸缩杆(10)的端部安装有限位板(15)。5.根据权利要求4所述的一种用于航空材料的等离子体气相沉积装置，其特征在于：所述伸缩杆(10)的外部设置有弹簧(14)，弹簧(14)的一端连接着限位板(15)的表面，另一端连接着立杆(13)的表面，立杆(13)的...
【专利技术属性】
技术研发人员：李明娟，刘伟波，
申请(专利权)人：滨州学院，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。