本实用新型专利技术涉及真空镀膜技术领域，具体为一种镀膜均匀的真空镀膜装置，包括镀膜仓，所述镀膜仓的两侧分别设置有一个蒸汽箱，所述蒸汽箱与镀膜仓之间设置有连接管道，所述镀膜仓的内部设置有一个金属板固定架。本实用新型专利技术的优点在于：金属面板位置都是固定的，因此金属面板中面向金属蒸汽一面的镀膜效率更高，而金属面板背向金属蒸汽的一面则容易出现镀膜不完全的情况，或者金属面板会出现镀膜不平衡，不利于产品的有效生产，通过在镀膜仓的两侧分别设置蒸汽箱，蒸汽箱内的镀膜蒸汽会通过两个连接管道分别进入镀膜仓内部的两侧，且由于金属板为竖直放置，所以金属板的两侧均会被镀膜蒸汽完整的包裹，保证镀膜产品的良率。保证镀膜产品的良率。保证镀膜产品的良率。
【技术实现步骤摘要】
一种镀膜均匀的真空镀膜装置
[0001]本技术涉及真空镀膜
，特别是一种镀膜均匀的真空镀膜装置。
技术介绍
[0002]真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种，主要思路是分成蒸发和溅射两种，蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点－岛状结构
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迷走结构
‑
层状生长)形成薄膜，在传统的真空镀膜机之中，使用完成后，需要放置一段时间，来使得其中的金属因子完全沉淀，而且刚完成温度较高，直接打开拉门可能使得人员烫伤以及吸入金属因子，因此需要耽误一些时间，影响了使用的效率，而由于金属面板位置都是固定的，因此金属面板中面向金属蒸汽一面的镀膜效率更高，而金属面板背向金属蒸汽的一面则容易出现镀膜不完全的情况，或者金属面板会出现镀膜不平衡的问题，因此会降低产品的成功率，不利于产品的有效生产。
技术实现思路
[0003]本技术的目的在于克服现有技术的缺点，提供一种镀膜均匀的真空镀膜装置。
[0004]本技术的目的通过以下技术方案来实现：一种镀膜均匀的真空镀膜装置，包括镀膜仓，所述镀膜仓的两侧分别设置有一个蒸汽箱，所述蒸汽箱与镀膜仓之间设置有连接管道，所述镀膜仓的内部设置有一个金属板固定架，所述金属板固定架的一侧设置有若干夹持装置，所述镀膜仓的一侧转动连接有一个仓门。
[0005]可选的，所述镀膜仓为一个中空且一侧开口的圆柱体结构，所述镀膜仓的底部固定连接有若干支撑腿，所述镀膜仓的两侧分别开设有一个蒸汽入口。
[0006]可选的，所述蒸汽箱为一个中空的长方体结构，所述蒸汽箱的顶部开设有蒸汽出口，所述连接管道为一个弯曲的管状结构，所述连接管道的两侧分别与蒸汽入口和蒸汽出口的一侧固定连接。
[0007]可选的，所述镀膜仓的内表面固定连接有若干限位块，若干所述限位块呈圆周阵列分布，若干所述限位块的长度与镀膜仓的内表面长度相等。
[0008]可选的，所述金属板固定架包括固定板，所述固定板的外表面直径与镀膜仓的内表面直径相等，所述固定板的一侧固定连接有两个支撑架，两个所述支撑架呈圆周阵列分布。
[0009]可选的，所述固定板的一侧开设有四个卡槽，四个所述卡槽呈圆周阵列分布，其中两个所述卡槽贯穿至支撑架的一侧，四个所述卡槽的内表面与限位块的外表面相适配，四个所述卡槽的内表面分别卡接于限位块的外表面。
[0010]可选的，所述夹持装置包括第一夹持板，所述第一夹持板的一侧固定连接于支撑
架的一侧，所述第一夹持板的一侧开设有第一螺纹孔，所述第一螺纹孔的内部转动连接有一个螺纹杆，所述螺纹杆的一侧固定连接有一个第二夹持板，所述第二夹持板的一侧与支撑架的一侧搭接。
[0011]可选的，所述镀膜仓的一侧固定连接有一个转动块，所述转动块的一侧开设有转动槽，所述转动槽的两侧分别开设有一个第一转动孔，所述仓门的一侧固定连接有一个转动片，所述转动片的厚度与转动槽的高度相等，所述转动片的一侧开设有一个第二转动孔，所述仓门的一侧通过销轴转动连接于镀膜仓的一侧。
[0012]可选的，所述镀膜仓的一侧开设有一个第二螺纹孔，所述仓门的一侧开设有一个第三螺纹孔，所述第三螺纹孔的位置与第二螺纹孔的位置相对应，所述第三螺纹孔的内部螺纹连接有一个固定螺杆。
[0013]本技术具有以下优点：
[0014]金属面板位置都是固定的，因此金属面板中面向金属蒸汽一面的镀膜效率更高，而金属面板背向金属蒸汽的一面则容易出现镀膜不完全的情况，或者金属面板会出现镀膜不平衡的问题，因此会降低产品的成功率，不利于产品的有效生产，本技术通过在镀膜仓的两侧分别设置蒸汽箱，蒸汽箱内的镀膜蒸汽会通过两个连接管道分别进入镀膜仓内部的两侧，且由于金属板为竖直放置，所以金属板的两侧均会被镀膜蒸汽完整的包裹，保证镀膜产品的良率。
附图说明
[0015]图1为本技术的结构示意图；
[0016]图2为本技术镀膜仓的结构示意图；
[0017]图3为本技术金属板固定架的结构示意图；
[0018]图4为本技术图1中A处的放大结构示意图。
[0019]图中：1
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镀膜仓，101
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支撑腿，102
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限位块，103
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第二螺纹孔，2
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蒸汽箱， 3
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连接管道，4
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金属板固定架，401
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固定板，402
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支撑架，403
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卡槽，5
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夹持装置，501
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第一夹持板，502
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螺纹杆，503
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第二夹持板，6
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仓门，601
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第三螺纹孔。
具体实施方式
[0020]下面结合附图对本技术做进一步的描述，但本技术的保护范围不局限于以下所述。
[0021]如图1
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4所示，一种镀膜均匀的真空镀膜装置，它包括镀膜仓1，镀膜仓1 的两侧分别设置有一个蒸汽箱2，蒸汽箱2与镀膜仓1之间设置有连接管道3，镀膜仓1的内部设置有一个金属板固定架4，金属板固定架4的一侧设置有若干夹持装置5，镀膜仓1的一侧转动连接有一个仓门6，金属面板位置都是固定的，因此金属面板中面向金属蒸汽一面的镀膜效率更高，而金属面板背向金属蒸汽的一面则容易出现镀膜不完全的情况，或者金属面板会出现镀膜不平衡的问题，因此会降低产品的成功率，不利于产品的有效生产，本技术通过在镀膜仓1 的两侧分别设置蒸汽箱2，蒸汽箱2内的镀膜蒸汽会通过两个连接管道3分别进入镀膜仓1内部的两侧，且由于金属板为竖直放置，所以金属板的两侧均会被镀膜蒸汽完整的包裹，保证镀膜产品的良率。
[0022]作为本技术的一种优选技术方案：镀膜仓1为一个中空且一侧开口的圆柱体结构，镀膜仓1的底部固定连接有若干支撑腿101，镀膜仓1的两侧分别开设有一个蒸汽入口，镀膜仓1开口的一侧的内表面直径小于镀膜仓1的内表面直径，可以挡住固定板401，防止金属板固定架4从镀膜仓1的内部滑出。
[0023]作为本技术的一种优选技术方案：蒸汽箱2为一个中空的长方体结构，蒸汽箱2的顶部开设有蒸汽出口，连接管道3为一个弯曲的管状结构，连接管道3的两侧分别与蒸汽入口和蒸汽出口的一侧固定连接。
[0024]作为本技术的一种优选技术方案：镀膜仓1的内表面固定连接有若干限位块102，若干限位块102呈圆周阵列分布，若干限位块102的长度与镀膜仓 1的内表面长度相等。
[0025]作为本技术的一种优选技术方案：金属板固定架4包括固定板401，固定板401的外表面直径与镀膜仓1的内表面直径相等，固定板401的一侧固定连本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种镀膜均匀的真空镀膜装置，其特征在于：包括镀膜仓(1)，所述镀膜仓(1)的两侧分别设置有一个蒸汽箱(2)，所述蒸汽箱(2)与镀膜仓(1)之间设置有连接管道(3)，所述镀膜仓(1)的内部设置有一个金属板固定架(4)，所述金属板固定架(4)的一侧设置有若干夹持装置(5)，所述镀膜仓(1)的一侧转动连接有一个仓门(6)。2.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜装置，其特征在于：所述镀膜仓(1)为一个中空且一侧开口的圆柱体结构，所述镀膜仓(1)的底部固定连接有若干支撑腿(101)，所述镀膜仓(1)的两侧分别开设有一个蒸汽入口。3.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜装置，其特征在于：所述蒸汽箱(2)为一个中空的长方体结构，所述蒸汽箱(2)的顶部开设有蒸汽出口，所述连接管道(3)为一个弯曲的管状结构，所述连接管道(3)的两侧分别与蒸汽入口和蒸汽出口的一侧固定连接。4.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜装置，其特征在于：所述镀膜仓(1)的内表面固定连接有若干限位块(102)，若干所述限位块(102)呈圆周阵列分布，若干所述限位块(102)的长度与镀膜仓(1)的内表面长度相等。5.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜装置，其特征在于：所述金属板固定架(4)包括固定板(401)，所述固定板(401)的外表面直径与镀膜仓(1)的内表面直径相等，所述固定板(401)的一侧固定连接有两个支撑架(402)，两个所述支撑架(402)呈圆周阵列分布。6.根据权利要求5所述的一种镀膜均匀的真空镀膜装置，其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员：窦小小，
申请(专利权)人：佛山市艾特迈科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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