【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于高吞吐量微滴操纵的方法和设备
[0001]本公开涉及用于操纵微滴的方法和设备，并且具体地涉及应用光学介导的器件上电润湿/介质上光学电润湿(oEWOD)技术来并行地操纵和查询微流体芯片的表面上的大量微滴的内容物。
技术介绍
[0002]介质上电润湿(EWOD)是众所周知的效应，其中施加在液体和基板之间的电场使液体在表面上比在自然状态下更润湿。电润湿的效应可以用于通过在基板上施加一系列空间变化的电场来操纵流体(例如，移动、划分或改变流体的形状)，以在按序列的空间变化之后增加表面润湿性。在基于电润湿的装置中操纵的液滴通常被夹在两个平行板之间且由数字电极致动。像素化电极的尺寸限制了可以被操纵的最小液滴尺寸以及可以并行地处理液滴的速率和规模。
[0003]在我们的公开申请WO2018/234445(其全部内容通过引用并入本文)中，我们已经描述了用于操纵微滴的装置，所述装置使用光电润湿来提供原动力。在该光学介导的电润湿(oEWOD)装置中，微滴通过由容纳壁限定的微流体空间；例如具有夹在其间的微流体空间的一对平行板，而被转移。...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种通过光学介导的电润湿(oEWOD)来检查和/或选择微流体芯片上的微滴的方法，所述方法包括：在所述芯片的表面上临时形成多个oEWOD陷阱，以使所述芯片的所述表面上的多个微滴形成微滴的阵列；在检查所述阵列的至少一个子集的同时保持微滴的整个阵列。2.根据权利要求1所述的方法，其中通过以下子步骤来促进保持微滴的整个阵列的步骤：在所述芯片的表面上临时形成oEWOD陷阱的第二阵列；以及将所述第二阵列的一个或多个oEWOD陷阱与所述第一阵列的oEWOD陷阱对准。3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中，由光学组件执行临时形成所述多个oEWOD陷阱的步骤，并且由第二光学组件执行在所述表面上临时形成oEWOD陷阱的第二阵列的步骤。4.根据引用权利要求2时的权利要求3所述的方法，其中，将所述第二阵列的一个或多个oEWOD与所述第一阵列的oEWOD陷阱对准的步骤使得能够在所述第一光学组件与所述第二光学组件之间切换对微滴的所述整个阵列的保持的步骤。5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，所述方法还包括：在通过oEWOD陷阱的第二阵列将一个或多个所述微滴保持就位的同时，对所述第一光学组件进行调整。6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，所述方法还包括在以下步骤中操纵所述微滴：基于对所述微滴的内容物的检查，从所述微滴的阵列中选择微滴的子集；停用除了捕获所选的微滴的子集的那些oEWOD陷阱之外的所有oEWOD陷阱；以及执行冲洗操作以从所述微滴的阵列中去除不在所选的子集中的微滴。7.根据引用权利要求3时的权利要求6所述的方法，其中，所述冲洗操作包括：使用所述第一光学组件或所述第二光学组件的oEWOD陷阱对所述微滴的阵列进行重新排序，使得不在所述子集中的微滴的去除不受在所述子集中的微滴的阻碍，和/或当相关联的oEWOD陷阱已经被停用时，通过多个流体入口允许连续相进入微流体芯片中以去除不在所选的子集中的微滴。8.根据权利要求5所述的方法，其中，对所述第一光学组件的所述调整包括以下中的至少一种：分辨率的变化、放大率的变化、视场的变化、照射源的变化、包括在所述组件中的颜色选择元件的变化、以及更换最接近正在被成像的样本的透镜组件。9.根据权利要求5所述的方法，其中所述方法还包括：在进行所述调整之后，使用所述第一光学组件来执行对所述微滴的阵列的内容物的进一步检查。10.根据权利要求3所述的方法，其中，所述方法还包括：停用所述第一光学组件，并且使用由所述第二光学组件形成的oEWOD陷阱将所述微滴的阵列平移横越所述微流体芯片的表面。11.根据权利要求3所述的方法，其中，形成所述微滴的阵列的步骤包括以下初始步骤：使用所述第二光学组件以目标阵列的形状形成多个oEWOD陷阱；使用所述第一光学组件确定所述多个微滴在所述微流体芯片的表面上的位置；
使用由所述第一组件形成的所述多个oEWOD陷阱将...
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