新型耐腐蚀的半导体设备气体喷淋头制造技术

本实用新型专利技术公开了新型耐腐蚀的半导体设备气体喷淋头，涉及喷淋头领域，包转动座，所述转动座正面的左右两侧对称固定连接有液压推杆，两个液压推杆顶部和底部的正面和底部对称固定连接有固定柱，固定柱的侧边设置有连接管，连接管的正面固定连接有装置本体，装置本体的正面开设有喷淋口，喷淋口内腔的两端对称开设有固定块，固定块的正面开设有卡槽，卡槽的侧边设置有转动轴，转动轴的外壁固定连接有连接块，连接块的外壁固定连接有第一连接柱，第一连接柱的一端固定连接有挡板。本实用新型专利技术所述的新型耐腐蚀的半导体设备气体喷淋头，此装置可避免长时间使用后，有气体或者水进入内腔后造成本体被腐蚀，能提高其使用寿命。能提高其使用寿命。能提高其使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
新型耐腐蚀的半导体设备气体喷淋头


[0001]本技术涉及喷淋头领域，特别涉及新型耐腐蚀的半导体设备气体喷淋头。

技术介绍

[0002]半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，半导体在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域都有应用，如二极管就是采用半导体制作的器件，无论从科技或是经济发展的角度来看，半导体的重要性都是非常巨大的，大部分的电子产品，如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关联，常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等，硅是各种半导体材料应用中最具有影响力的一种。
[0003]在中国技术专利申请号：CN202121488025.2中公开了新型耐腐蚀的半导体设备气体喷淋头，包括去胶机主体、喷淋头与调节机构，所述调节机构设置于去胶机主体底端，所述喷淋头设置于调节机构底端，所述调节机构包括：转盘，所述转盘设置于去胶机主体底端，用于旋转调节喷淋头；卡块，所述卡块设置于转盘顶端，用于限制转盘旋转，此装置不能对喷淋的角度进行调节，且调节时需要手动进行调节，过于麻烦。
[0004]因此，提出新型耐腐蚀的半导体设备气体喷淋头来解决上述问题很有必要。

技术实现思路

[0005]本技术的主要目的在于提供新型耐腐蚀的半导体设备气体喷淋头，可以有效解决
技术介绍
中的问题。
[0006]为实现上述目的，本技术采取的技术方案为：
[0007]新型耐腐蚀的半导体设备气体喷淋头，包转动座，所述转动座正面的左右两侧对称固定连接有液压推杆，两个所述液压推杆顶部和底部的正面和底部对称固定连接有固定柱，所述固定柱的侧边设置有连接管，所述连接管的正面固定连接有装置本体，所述装置本体的正面开设有喷淋口，所述喷淋口内腔的两端对称开设有固定块，所述固定块的正面开设有卡槽，所述卡槽的侧边设置有转动轴，所述转动轴的外壁固定连接有连接块，所述连接块的外壁固定连接有第一连接柱，所述第一连接柱的一端固定连接有挡板，所述挡板背面的两端对称开设有第一活动槽，所述第一活动槽的内腔设置有卡块，所述挡板背面的正中开设有第二活动槽，所述第二活动槽的内腔设置有活动块，所述活动块左右两侧的背面对称开设有斜面，所述斜面的的正面设置有限位块，所述限位块正面的正中固定连接有弹簧，所述弹簧的顶部和底部对称设置有第二连接柱，所述喷淋口内腔的两端对称固定连接有固定桩。
[0008]优选的，所述固定柱转动连接在装置本体的背面，所述连接管的背面固定连接在转动座正面的正中。
[0009]优选的，所述喷淋口有六个，所述转动轴转动连接在装置本体内腔的正中，所述连接块的背面贴合在连接管的正面。
[0010]优选的，所述第一连接柱有六个，每个所述第一连接柱相对的一侧对称固定连接在连接块的外壁，所述挡板有六个，每个所述第一连接柱相背的一侧对称固定连接在每个挡板相对的一侧，所述喷淋口和挡板的尺寸相适配。
[0011]优选的，所述第一活动槽和卡块的尺寸相适配，所述卡块通过卡块活动连接在挡板的内腔中，所述卡块和卡槽的尺寸相适配。
[0012]优选的，所述活动块和第二活动槽的尺寸相适配，所述活动块通过第二活动槽活动连接在挡板的内腔中，所述限位块背面的正中固定连接在活动块的正面，所述弹簧的正面固定连接在挡板内腔的正面，所述第二连接柱的一端固定连接在限位块的外壁，所述第二连接柱的另一端固定连接在卡块的外壁，所述第二连接柱活动连接在挡板的内腔中。
[0013]有益效果
[0014]与现有技术相比，本技术具有如下有益效果：
[0015]1、该新型耐腐蚀的半导体设备气体喷淋头，通过设置的转动座，能带动装置本体进行转动，通过设置的液压推杆，能带动装置本体进行前后移动，通过设置的固定柱，在液压推杆带动装置本体进行移动时，能在装置本体的背面进行转动，此时可对装置本体喷淋的角度进行调整，以此能喷淋到更多的地区。
[0016]2、该新型耐腐蚀的半导体设备气体喷淋头，通过设置的转动轴，能带动连接块进行转动，连接块能带动第一连接柱进行转动，第一连接柱能带动挡板进行转动，此时挡板可将喷淋口进行遮挡，放置在闲置时，有气体或者水进入至装置本体的内腔，造成其被腐蚀。
[0017]3、该新型耐腐蚀的半导体设备气体喷淋头，通过设置的固定桩，在活动块进入至喷淋口的内腔后，会在固定桩的正面进行移动，通过设置的弹簧，在活动块进入至喷淋口内腔的正中后，会将限位块向喷淋口内腔的背面顶去，从而使得第二连接柱带动卡块进入至卡槽的内腔，使得卡块能卡在固定块的内腔中，形成挡板的固定。
附图说明
[0018]图1是本技术正面的结构示意图；
[0019]图2是本技术转动座的结构示意图；
[0020]图3是本技术挡板背面的结构示意图；
[0021]图4是本技术活动块背面的结构示意图。
[0022]图中：1、转动座；2、液压推杆；3、固定柱；4、连接管；5、装置本体；6、喷淋口；7、固定块；8、卡槽；9、转动轴；10、连接块；11、第一连接柱；12、挡板；13、第一活动槽；14、卡块；15、第二活动槽；16、活动块；17、斜面；18、限位块；19、弹簧；20、第二连接柱；21、固定桩。
具体实施方式
[0023]为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本技术。
[0024]如图1
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4所示，新型耐腐蚀的半导体设备气体喷淋头，包转动座1，转动座1正面的左右两侧对称固定连接有液压推杆2，两个液压推杆2顶部和底部的正面和底部对称固定连接有固定柱3，固定柱3的侧边设置有连接管4，连接管4的正面固定连接有装置本体5，固定柱3转动连接在装置本体5的背面，连接管4的背面固定连接在转动座1正面的正中，装置本
体5的正面开设有喷淋口6，喷淋口6内腔的两端对称开设有固定块7，固定块7的正面开设有卡槽8，卡槽8的侧边设置有转动轴9，转动轴9的外壁固定连接有连接块10，喷淋口6有六个，转动轴9转动连接在装置本体5内腔的正中，连接块10的背面贴合在连接管4的正面，连接块10的外壁固定连接有第一连接柱11，第一连接柱11的一端固定连接有挡板12，第一连接柱11有六个，每个第一连接柱11相对的一侧对称固定连接在连接块10的外壁，挡板12有六个，每个第一连接柱11相背的一侧对称固定连接在每个挡板12相对的一侧，喷淋口6和挡板12的尺寸相适配，挡板12背面的两端对称开设有第一活动槽13，第一活动槽13的内腔设置有卡块14，第一活动槽13和卡块14的尺寸相适配，卡块14通过卡块14活动连接在挡板12的内腔中，卡块14和卡槽8的尺寸相适配，挡板12背面的正中开设有第二活动槽15，第二活动槽15的内腔设置有活动块16，活动块16左右两侧的背面对称开设有斜面17，斜面17的的正面设置有限位块18，限位块18正面的正中固定连接有弹簧19，弹簧19的顶部和底部对称设置有本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.新型耐腐蚀的半导体设备气体喷淋头，包转动座（1），其特征在于：所述转动座（1）正面的左右两侧对称固定连接有液压推杆（2），两个所述液压推杆（2）顶部和底部的正面和底部对称固定连接有固定柱（3），所述固定柱（3）的侧边设置有连接管（4），所述连接管（4）的正面固定连接有装置本体（5），所述装置本体（5）的正面开设有喷淋口（6），所述喷淋口（6）内腔的两端对称开设有固定块（7），所述固定块（7）的正面开设有卡槽（8），所述卡槽（8）的侧边设置有转动轴（9），所述转动轴（9）的外壁固定连接有连接块（10），所述连接块（10）的外壁固定连接有第一连接柱（11），所述第一连接柱（11）的一端固定连接有挡板（12），所述挡板（12）背面的两端对称开设有第一活动槽（13），所述第一活动槽（13）的内腔设置有卡块（14），所述挡板（12）背面的正中开设有第二活动槽（15），所述第二活动槽（15）的内腔设置有活动块（16），所述活动块（16）左右两侧的背面对称开设有斜面（17），所述斜面（17）的正面设置有限位块（18），所述限位块（18）正面的正中固定连接有弹簧（19），所述弹簧（19）的顶部和底部对称设置有第二连接柱（20），所述喷淋口（6）内腔的两端对称固定连接有固定桩（21）。2.根据权利要求1所述的新型耐腐蚀的半导体设备气体喷淋头，其特征在于：所述固定柱（3）转动连接在装置本体（5）的背面，所述连接管（4）的背面固定连接在转动座（1）...

【专利技术属性】
技术研发人员：武斌，陈兆荣，蔡红，
申请(专利权)人：赛林斯弥无锡电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：