阵列基板及显示面板制造技术

本发明专利技术提供一种阵列基板及显示面板；该阵列基板包括第一膜层和位于第一膜层上方的第二膜层，第一膜层与第二膜层的折射率不同；其中，在阵列基板的开口区内，第二膜层与第一膜层包括至少一个光折射微结构。本发明专利技术实施例通过在阵列基板的开口区形成光折射微结构，基于光折射微结构的第一膜层与第二膜层的折射率差异，实现汇聚或发散光线的作用，进而提高阵列基板的整体光效或视角。列基板的整体光效或视角。列基板的整体光效或视角。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及显示面板


[0001]本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及显示面板。

技术介绍

[0002]近年来，在TFT
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LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器)中，正在推进用于低功耗、高亮度和提高光利用率的项目开发。其中，提高穿透性能提升TFT
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LCD的亮度、减少电力损耗，是世界各家面板厂都在攻克的难关。TFT
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LCD面板的光效是指背光源透过TFT
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LCD面板前后的光强之比，通常情况下TFT
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LCD的光效只有3
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10％，也就是说超过90％的光是无法得到利用的。对于TFT
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LCD的Array(阵列)基板来说，对光效影响较大的是由氧化硅(SiOx)缓冲层，氮化硅(SiNx)缓冲层，平坦化层(PLN)、氧化铟锡(ITO)电极层等构成的多层膜结构，原因为常规的Array基板中的多层膜均为平面结构，对光线汇聚或发散的作用较差。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：第一膜层；第二膜层，位于所述第一膜层上方，所述第一膜层与所述第二膜层的折射率不同；其中，在所述阵列基板的开口区内，所述第二膜层与所述第一膜层包括至少一个光折射微结构。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一膜层在所述开口区内设有凹槽，所述第二膜层包括填充所述凹槽的填充部，所述光折射微结构包括所述凹槽和所述填充部。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述填充部的截面形状为半圆形。4.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一膜层的折射率小于所述第二膜层的折射率。5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，包括玻璃基板、位于所述玻璃基板上的缓冲层，以及位于所述缓冲层上的薄膜晶体管层，所述第一膜层为所述玻璃基板，所述第二膜层为所述缓冲层。6.根据权利要求4所述的阵列基板，...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗成志，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：