一种远紫外窄带滤光片及其制备方法技术

本发明专利技术提供一种远紫外窄带滤光片及其制备方法，远紫外窄带滤光片包括：基底；在基底的一侧表面依次层叠的第一滤光层至第N滤光层，N为大于等于1的整数；第一滤光层背离第二滤光层的一侧表面与基底接触，第m滤光层的折射率大于第n滤光层的折射率，m为大于等于1且小于等于N的奇数，n为大于等于1且小于等于N的偶数；第m滤光层的材料为氧化镁，第n滤光层的材料为氟化锂。所述远紫外窄带滤光片能够过滤波长为230nm至280nm的远紫外光，且对波长为222nm的光的透过率大于80％，这使具有远紫外窄带滤光片的紫外消毒设备在对环境或物品进行消毒时，无需人员回避，这提高了消菌杀毒操作的灵活性。作的灵活性。作的灵活性。

【技术实现步骤摘要】
一种远紫外窄带滤光片及其制备方法


[0001]本专利技术涉及滤光片
，具体涉及一种远紫外窄带滤光片及其制备方法。

技术介绍

[0002]紫外线可根据波长分为：波长为320nm
‑
400nm的低频紫外线，简称UVA；波长为280nm
‑
320nm的中频紫外线，简称UVB；波长为200nm
‑
280nm的短波紫外线或远紫外线，简称UVC；波段波长100nm
‑
200nm的超高频紫外线，简称UVD。其中，低频紫外线(UVA)可对表皮部位的黑色素起作用，从而引起皮肤黑色素沉着，使皮肤变黑；中频紫外线(UVB)的能量较高，可对皮肤产生强烈的光损伤，被照射部位皮肤可出现红肿、水泡等症状；短波紫外线或远紫外线(UVC)具有消毒灭菌作用，但对人体伤害很大，短时间照射即可灼伤皮肤，长期或高强度照射还会造成皮肤癌或者白内障等疾病。近期研究表明，波长范围为200nm至230nm的远紫外线能够在消菌杀毒的同时不对皮肤造成损伤，因此在对环境或物品进行消毒时，无需人员回避，具有较强的灵活性。
[0003]然而，现有紫外消毒设备在发出波长为200nm至230nm的远紫外线的同时，还发出波长为230nm至280nm远紫外线，这导致现有紫外消毒设备在使用时必须人员回避，限制了消菌杀毒操作的灵活性。

技术实现思路

[0004]因此，本专利技术要解决的技术问题在于克服现有紫外消毒设备在使用时必须人员回避的缺陷，从而提供一种远紫外窄带滤光片及其制备方法。<br/>[0005]本专利技术提供一种远紫外窄带滤光片，包括：基底；在所述基底的一侧表面依次层叠的第一滤光层至第N滤光层，N为大于等于1的整数；所述第一滤光层背离第二滤光层的一侧表面与所述基底接触，第m滤光层的折射率大于第n滤光层的折射率，m为大于等于1且小于等于N的奇数，n为大于等于1且小于等于N的偶数；所述第m滤光层的材料为氧化镁，所述第n滤光层的材料为氟化锂。
[0006]可选的，N为奇数。
[0007]可选的，N＝27；第j滤光层的光学厚度＝kλ，j为大于等于1且小于等于N的整数；j＝1～6时，k＝0.24～0.75；j＝7～18时，k＝0.2～0.3；j＝19～26时，k＝0.22～0.87；j＝27时，k＝0.4～0.5；λ＝200nm～250nm，λ为设计波长。
[0008]可选的，λ＝222nm。
[0009]本专利技术还提供一种远紫外窄带滤光片的制备方法，包括：提供基底；在所述基底的一侧表面依次沉积第一滤光层至第N滤光层，N为大于等于1的整数，第m滤光层的折射率大于第n滤光层的折射率，m为大于等于1且小于等于N的奇数，n为大于等于1且小于等于N的偶数；所述第m滤光层的材料为氧化镁，所述第n滤光层的材料为氟化锂。
[0010]可选的，采用脉冲激光沉积工艺沉积第m滤光层和第n滤光层。
[0011]可选的，所述脉冲激光沉积工艺的工艺参数包括：激光的能量密度为1J/cm2‑
8J/
cm2；激光的脉冲频率为5HZ
‑
20HZ；激光光斑的尺寸为2mm2‑
6mm2；所述基底的温度为200℃
‑
600℃；沉积腔室的初始真空度为2*10
‑4Pa
‑
8*10
‑4Pa，沉积腔室的沉积真空度为2*10
‑2Pa
‑
8*10
‑2Pa；靶材至所述基底的距离为3cm
‑
20cm；沉积速率为0.1nm/s
‑
0.6nm/s。
[0012]可选的，在沉积过程中，所述基底围绕所述基底的中心轴进行自转。
[0013]可选的，所述基底围绕所述基底的中心轴进行自转的转速为30r/min
‑
50r/min。
[0014]可选的，在沉积过程中，靶材围绕所述靶材的中心轴进行自转。
[0015]可选的，所述靶材围绕所述靶材的中心轴进行自转的转速为3r/min
‑
8r/min。
[0016]可选的，沉积所述第m滤光层所使用的靶材为氧化镁靶材或金属镁靶材，沉积腔室的气氛为氧气气氛；沉积所述第n滤光层所使用的靶材为氟化锂靶材，沉积腔室的气氛为惰性气体气氛。
[0017]本专利技术技术方案，具有如下优点：
[0018]1.本专利技术提供的远紫外窄带滤光片中，氧化镁和氟化锂在远紫外区均具有良好的透明度，采用氧化镁作为第m滤光层的材料以及采用氟化锂作为第n滤光层的材料，能够使远紫外窄带滤光片在200nm至230nm的波长范围内具有良好的透过率，在230nm至280nm的波长范围内具有良好的截止深度，即，所述远紫外窄带滤光片能够过滤波长为230nm至280nm的远紫外光，这使具有所述远紫外窄带滤光片的紫外消毒设备在对环境或物品进行消毒时，无需人员回避，提高了消菌杀毒操作的灵活性。同时，氧化镁和氟化锂应力匹配，这使远紫外窄带滤光片内部不会积累较大的应力，从而使远紫外窄带滤光片滤光层不易产生裂纹或断裂，保证了远紫外窄带滤光片的结构稳定性。此外，氧化镁和氟化锂具有良好的热稳定性，这使远紫外窄带滤光片具有良好的热稳定性。
[0019]2.本专利技术提供的远紫外窄带滤光片中，N为奇数，且所述第一滤光层背离第二滤光层的一侧表面与所述基底接触，即，所述第N滤光层位于背离所述基底的最外侧且材料为氧化镁，而氧化镁具有较高的二次电子发射系数和较高的强度，这使得远紫外窄带滤光片耐高能粒子轰击，且在外力作用下不易损伤，从而保证了远紫外窄带滤光片的结构稳定性和性能稳定性。
[0020]3.本专利技术提供的远紫外窄带滤光片中，通过限定N为27以及第n滤光层和第m滤光层的光学厚度，减小了通带波纹，提高了远紫外窄带滤光片的平均透过率，这能够提高具有所述远紫外窄带滤光片的紫外消毒设备的消菌杀毒效果。
[0021]4.本专利技术提供的远紫外窄带滤光片的制备方法，制备得到的远紫外窄带滤光片能够过滤波长为230nm至280nm的远紫外光，从而使具有所述远紫外窄带滤光片的紫外消毒设备在对环境或物品进行消毒时，无需人员回避，提高了消菌杀毒操作的灵活性。
[0022]5.本专利技术提供的远紫外窄带滤光片的制备方法，采用脉冲激光沉积工艺沉积第m滤光层和第n滤光层，沉积得到的第m滤光层和第n滤光层不仅具有较高的生长质量，还具有平整光滑的表面，粗糙度均方根可低于0.82nm，这都有利于提高远紫外窄带滤光片的光学性能。
附图说明
[0023]为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的
附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0024]图1为本专利技术实施例提供的远紫外窄带滤光片的结构示意图；
[0025]图2为本发本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种远紫外窄带滤光片，其特征在于，包括：基底；在所述基底的一侧表面依次层叠的第一滤光层至第N滤光层，N为大于等于1的整数；所述第一滤光层背离第二滤光层的一侧表面与所述基底接触，第m滤光层的折射率大于第n滤光层的折射率，m为大于等于1且小于等于N的奇数，n为大于等于1且小于等于N的偶数；所述第m滤光层的材料为氧化镁，所述第n滤光层的材料为氟化锂。2.根据权利要求1所述的远紫外窄带滤光片，其特征在于，N为奇数。3.根据权利要求2所述的远紫外窄带滤光片，其特征在于，N＝27；第j滤光层的光学厚度＝kλ，j为大于等于1且小于等于N的整数；j＝1～6时，k＝0.24～0.75；j＝7～18时，k＝0.2～0.3；j＝19～26时，k＝0.22～0.87；j＝27时，k＝0.4～0.5；λ＝200nm～250nm，λ为设计波长。4.根据权利要求3所述的远紫外窄带滤光片，其特征在于，λ＝222nm。5.一种远紫外窄带滤光片的制备方法，其特征在于，包括：提供基底；在所述基底的一侧表面依次沉积第一滤光层至第N滤光层，N为大于等于1的整数，第m滤光层的折射率大于第n滤光层的折射率，m为大于等于1且小于等于N的奇数，n为大于等于1且小于等于N的偶数；所述第m滤光层的材料为氧化镁，所述第n滤光层的材料为氟化锂。6.根据权利要求5所述的远紫外窄带滤光片的制备方法，其特征在于，采用脉冲激光沉积工艺沉积第m滤光层和第n滤光层。7.根据权利要求6所述的远紫外窄带滤光片的制备方法，其特征在于，所述脉冲激光沉积工艺的工...

【专利技术属性】
技术研发人员：邹贵付，蔡长明，蔡建宇，季华勇，刘瓅，
申请(专利权)人：苏州欧徕特光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：