【技术实现步骤摘要】
一种超临界流体处理氧化铌选通管的方法
[0001]本专利技术涉及氧化铌选通管处理
,尤其涉及一种超临界流体处理氧化铌选通管的方法。
技术介绍
[0002]近年来,随着人工智能、云计算等新兴科学技术的不断发展,对于信息存储能力的需求日益提高。为了提高存储器的密度,器件的尺寸不断微缩,3D高密度存储器技术逐渐成为研究热点。存储器以十字交叉阵列的方式堆叠可实现理论上最高的集成密度,因此它成为大规模存储集成的首选方案。然而,十字交叉阵列结构中存在的串扰电流问题将严重影响器件的性能,并可能造成信息误读。存储单元串联一个选通管的结构(one
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selector one
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resistor,1S1R)被认为是解决该问题的最有潜力的方法之一。因此,发展性能优异的选通管至关重要,而基于金属
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绝缘体转变(Metal Insulator Transition,MIT)效应的选通管又因为具有材料组分简单、易于制备等特性被广泛关注。
[0003]MIT是指外部条件对能带结构或费米能 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种超临界流体处理氧化铌选通管的方法,其特征在于,包括以下步骤:将氧化铌选通管置于反应腔体内,向所述反应腔体内加入水;向所述反应腔体内通入超临界二氧化碳流体,控制反应腔体内的压力为2800~3200psi、温度为380~424K,反应时间为1~2h。2.如权利要求1所述的超临界流体处理氧化铌选通管的方法,其特征在于,水的加入量为700μL~1.2mL。3.如权利要求1所述的超临界流体处理氧化铌选通管的方法,其特征在于,向所述反应腔体内通入超临界二氧化碳流体,控制反应腔体内的压力为3000psi、温...
【专利技术属性】
技术研发人员:马国坤,何哲,陈大磊,王浩,
申请(专利权)人:湖北江城实验室,
类型:发明
国别省市:
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