用于改善的控制精度的电致变色玻璃滞后补偿制造技术

本公开描述了用于通过补偿泄漏电流的滞后效应来控制EC装置的操作的系统、方法和非暂时性计算机可读介质。一种耦合到所述EC装置的控制模块可以配置为：生成表示所述EC装置的泄漏电流的滞后效应的滞后模型；跟踪所述EC装置的一项或多项先前的操作历史；并将所述EC装置转变到目标透射水平，其中部分基于当前透射水平、所述一项或多项先前的操作历史和所述EC装置的所述滞后模型，对所述泄漏电流的所述滞后效应进行补偿。效应进行补偿。效应进行补偿。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于改善的控制精度的电致变色玻璃滞后补偿

技术介绍

[0001]电致变色(EC)装置可以在施加电压时以连续但可逆的方式改变其光学特性，例如光学透射、吸收、反射和/或发射。这一特性使EC装置能够用于智能眼镜、电致变色镜和电致变色显示装置等应用。EC装置的透射水平(或色调水平)的控制精度取决于调节EC装置的电荷密度。传统上，这转化为估计和控制针对EC装置所施加的电压，该电压对应于通常基于预定公式的目标电荷密度。研究发现，EC装置可能具有滞后电压模式。根据EC装置的运行历史，电压可能会针对给定的透射水平而有所不同。例如，如果EC装置从完全透明转变到20％透射率，则EC装置可能需要1.0V电压以将EC装置保持在20％平衡状态。或者，如果同一装置从全色调转变到20％透射率，它可能只需要0.8V的保持电压。需要对电压滞后进行补偿，以实现对EC装置的精确透射控制。然而，除了电压滞后，EC装置还可能具有泄漏电流的滞后效应。但是现有的EC装置控制方案不能识别和补偿滞后泄漏电流。因此，希望具有结合泄漏电流滞后缓解的控制系统和方法，以提高EC装置的控制性能。
附图说明
[0002]图1是示出根据一些实施例的示例性EC系统的框图。
[0003]图2是根据一些实施例的EC装置的简化等效电路。
[0004]图3是示出根据一些实施例的用于生成针对EC装置的泄漏电流滞后模型的示例性方法的流程图。
[0005]图4示出了根据一些实施例的EC装置的泄漏电流的示例性波形。
[0006]图5是示出根据一些实施例的用于控制EC装置的示例性基于电荷计数的方法的流程图。
[0007]图6是示出根据一些实施例的用于控制EC玻璃装置的示例性基于电压的方法的流程图。
[0008]尽管本文通过示例的方式针对几个实施例和展示性附图描述了实施例，但是本领域技术人员将认识到实施例不限于所描述的实施例或附图。应当理解，附图及其详细描述并非旨在将实施例限制为所公开的特定形式，相反，意图是涵盖落入如由所附权利要求限定的精神和范围内的所有修改、等同物和替代方案。本文使用的标题仅用于组织目的，并不意味着用于限制说明书或权利要求的范围。如贯穿本申请所使用的，词语“可以”以许可的意义(即，意味着有可能)而不是强制性的意义(即，意味着必须)使用。词语“包括(include、including和includes)”指示开放式关系，因此意味着包括但不限于。类似地，词语“具有(have、having和has)”也指示开放式关系，因此意味着具有但不限于。如本文中所使用的术语“第一”、“第二”、“第三”等用作它们所引导的名词的标号，不暗指任何类型的排序(例如，空间的、时间的、逻辑的等)，除非这样的排序另有明确指示。
[0009]“基于”。如本文中所使用的，该术语用于描述影响确定结果的一个或多个因素。该术语并不排除可能影响确定结果的其他因素。也就是说，确定结果可以仅基于那些因素或至少部分地基于那些因素。考虑短语“基于B确定A”。尽管B可以是影响A的确定结果的因素，
但这样的短语并不排除A的确定结果还基于C。在其他实例中，A可以仅基于B来确定。
[0010]本公开的范围包括本文所(明确地或暗指地)公开的任何特征或特征组合，或其任何概括，不管其是否减轻本文解决的问题中的任何或全部问题。因此，可以在本申请(或要求本申请的优先权的申请)的审查过程期间针对任何这样的特征组合制定新的权利要求。具体地，参考所附权利要求书，来自从属权利要求的特征可与独立权利要求的那些特征相结合，来自相应的独立权利要求的特征可以按任何适当的方式组合，而并非只是以所附权利要求中枚举的特定形式组合。
具体实施方式
[0011]在各种实施例中，可以提供系统、方法和非暂时性计算机可读介质来通过补偿泄漏电流的滞后效应控制EC装置的操作。根据一些实施例，系统可以包括耦合到EC装置的控制模块。控制模块可以被配置为：生成表示EC装置的泄漏电流的滞后效应的滞后模型；跟踪EC装置的一项或多项先前的操作历史；并将EC装置转变到目标透射水平，其中部分基于当前透射水平、一项或多项先前的操作历史和EC装置的滞后模型，对泄漏电流的滞后效应进行补偿。
[0012]根据一些实施例，一种方法可以包括：由耦合到EC装置的控制模块生成滞后模型，以表示EC装置的泄漏电流的滞后效应；跟踪EC装置的一项或多项先前的操作历史；并将EC装置转变到目标透射水平，其中部分基于当前透射水平、一项或多项先前的操作历史和EC装置的滞后模型，对泄漏电流的滞后效应进行补偿。
[0013]根据一些实施例，一种存储指令的非暂时性计算机可读介质，该指令在由一项或多项处理器执行时，可以使一项或多项处理器：生成表示EC装置的泄漏电流的滞后效应的滞后模型；跟踪EC装置的一项或多项先前的操作历史；并将EC装置转变到目标透射水平，其中部分基于当前透射水平、一项或多项先前的操作历史和EC装置的滞后模型，对泄漏电流的滞后效应进行补偿。
[0014]图1示出了根据一些实施例的示例性EC系统100。如图1所示，EC系统100可以包括与EC装置110耦合的控制模块105。例如，控制模块105可以容纳在控制面板中。控制模块105可以包括一个或多个电源、控制器和数据采集系统。一个或多个控制器各自还可具有一个或多个处理器和存储器。控制模块105，特别是其一个或多个电源，可以从例如外部插座接收电力，并且在控制模块105的控制器的指令下向EC装置110提供输出电压。EC装置110可以安装在窗框内，例如，以实现智能玻璃。控制模块105和EC装置110可以通过一个或多个组件耦合，例如接线盒115和电缆120。接线盒115可以是用于连接控制模块105和EC装置110之间的电缆的接线盒，这在如图1所示控制模块105控制多个EC装置110时尤其有用。
[0015]电缆120可以将电压和电流从控制模块105传送到EC装置110。EC系统100可以使用不同的电缆120来适应相应的电压和/或电流水平。例如，EC系统100可以使用12导体的捆绑电缆将控制模块105与接线盒115连接，以及更细的框架电缆从接线盒115连接到EC装置110。此外，控制模块105可以监测流过EC装置110的总电流i
total
和/或跨EC装置110施加的电压v
applied
。电流和/或电压可以由相应的传感器125捕获，然后通过传感电缆130反馈给控制模块105。这里，术语“施加的电压”可以指在基本上接近EC装置110的位置处的电压。这样，施加的电压是或接近跨EC装置施加的实际电压。例如，可以在连接框架电缆(来自接线盒
115)和尾纤(围绕EC装置110的窗框运行)的点处测量施加的电压v
applied
。请注意，为了说明问题，图1只是显示EC系统的基本配置的简化图。在一些实施例中，EC系统100可以包括一个或多个未在图1中示出的附加组件。此外，在一些实施例中，除了接线盒115和电缆120之外，控制模块105可以通过各种有线(例如，通过本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于控制电致变色(EC)装置的操作的系统，所述系统包括：耦合到EC装置的控制模块，所述控制模块配置为：生成表示所述EC装置的泄漏电流的滞后效应的滞后模型；跟踪所述EC装置的一项或多项先前的操作历史；和将所述EC装置转变到目标透射水平，其中部分基于当前透射水平、所述一项或多项先前的操作历史和所述EC装置的所述滞后模型，对所述泄漏电流的所述滞后效应进行补偿。2.根据权利要求1所述的系统，其中为了生成所述滞后模型，所述控制模块配置为：接收规定的转变周期，其指定将EC装置从第一透射水平转变到第二透射水平；提供输出电压并测量通过所述EC装置的总电流；部分基于所述总电流、所述输出电压和所述EC装置的参数，确定所述EC装置在从所述第一透射水平转变到所述第二透射水平期间在一个或多个点处的所述泄漏电流；以及基于在所述一个或多个点处的所述泄漏电流确定泄漏电流的曲线和补偿值H
i
，以形成表示所述泄漏电流的所述滞后效应的滞后模型。3.根据权利要求2所述的系统，其中所述控制模块进一步配置为：重复所述EC装置从所述第一透射水平到所述第二透射水平的规定的转变；部分基于所述总电流、所述输出电压和所述EC装置的参数，更新所述EC装置在从所述第一透射水平转变到所述第二透射水平期间在一个或多个点处的所述泄漏电流；以及基于在所述一个或多个点处的更新的泄漏电流更新所述泄漏电流的所述曲线和补偿值H
i
，以更新表示所述泄漏电流的所述滞后效应的所述滞后模型。4.根据权利要求1所述的系统，其中为了跟踪所述EC装置的一个或多个最近的操作，所述控制模块配置为：监测与所述EC装置的所述一项或多项先前的操作历史相关的相应透射水平；监测与所述EC装置的所述一项或多项先前的操作历史相关的相应转变率；和基于所述相应透射水平和转变率创建所述一项或多项先前的操作历史的记录。5.根据权利要求1所述的系统，其中为了将所述EC装置转变到目标透射水平，所述控制模块配置为：测量通过所述EC装置的总电流；部分基于所述当前透射水平、所述一项或多项先前的操作历史和所述EC装置的所述滞后模型，确定所述EC装置的所述泄漏电流；基于所述总电流和泄漏电流计算电荷量；部分基于计算的电荷量，检测所述EC装置是否达到与所述目标透射水平相关的目标电荷密度；和响应于检测到所述EC装置达到与所述目标透射水平相关的所述目标电荷密度，将输出电压改变为目标输出电压。6.根据权利要求5所述的系统，其中为了将所述EC装置转变到目标透射水平，所述控制模块配置为：响应于检测到所述EC装置没有达到与所述目标透射水平相关的所述目标电荷密度，部分基于所述计算的电荷量更新所述当前透射水平；和部分基于更新的当前透射水平、所述一项或多项先前的操作历史和所述EC装置的所述
滞后模型，确定所述EC装置的所述泄漏电流。7.根据权利要求5所述的系统，其中基于所述EC装置的目标施加电压来确定所述目标输出电压，并且其中基于所述当前透射水平、所述一项或多项先前的操作历史和所述EC装置的所述滞后模型来确定所述目标施加电压。8.根据权利要求1所述的系统，其中为了将所述EC装置转变到目标透射水平，所述控制模块配置为：测量所述EC装置的开路电压；部分基于所述开路电压，检测所述EC装置是否达到与所述目标透射水平相关的目标电荷密度；和响应于检测到所述EC装置达到与所述目标透射水平相关的所述目标电荷密度，将所述输出电压改变为目标输出电压。9.一种用于控制EC装置的操作的方法，所述方法包括：通过耦合到EC装置的控制模块生成滞后模型，所述滞后模型表示所述EC装置的泄漏电流的滞后效应；通过所述控制模块跟踪所述EC装置的一项或多项先前的操作历史；和通过所述控制模块将所述EC装置转变到目标透射水平，其中部分基于当前透射水平、所述一项或多项先前的操作历史和所述EC装置的所述滞后模型，对所述泄漏电流的所述滞后效应进行补偿。10.根据权利要求9所述的方法，其中生成滞后模型包括：接收规定的转变周期，其指定将所述EC装置从第一透射水平转变到第二透射水平；提供输出电压并测量通过所述EC装置的总电流；部分基于所述总电流、所述输出电压和所述EC装置的参数，确定所述EC装置在从所述第一透射水平转变到所述第二透射水平期间在一个或多个点处的所述泄漏电流；和基于在所述一个或多个点处的所述泄漏电流确定所述泄漏电流的曲线...

【专利技术属性】
技术研发人员：王义刚，托马斯，
申请(专利权)人：SAGE电致变色显示有限公司，
类型：发明
国别省市：