本发明专利技术提供一种全息光栅制作装置，包括：用于发射激光的激光器；用于调整光强的光强调整部件；用于调整激光透过率的透过率调整部件；其中，透过率调整部件包括第一透过率调整部件和第二透过率调整部件，第一透过率调整部件的透过率分布与第二透过率调整部件的透过率分布相同或互为镜像；用于移动第一透过率调整部件的第一移动部件，与第一透过率调整部件连接；用于移动第二透过率调整部件的第二移动部件，与第二透过率调整部件连接；以及基板。本发明专利技术可以制作占宽比分布可调的光栅，实现对光栅不同区域衍射性能的调制。栅不同区域衍射性能的调制。栅不同区域衍射性能的调制。
【技术实现步骤摘要】
全息光栅制作装置
[0001]本专利技术涉及光栅
，具体地，涉及一种全息光栅制作装置。
技术介绍
[0002]图1是全息光栅的制作原理示意图。图2是覆有已曝光的光刻胶层的基板的示意图。图3是浮雕光栅的示意图。如图1
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图3所示，制作全息光栅的基本原理为：两束相干且成一定夹角的光束301A和301B干涉形成明暗相间的干涉条纹302。在基板303上覆一层光刻胶（光敏材料）涂层304，光刻胶层304在光照下发生化学反应，在显影液中的溶解性发生不同程度的改变。光刻胶层304在干涉条纹302的照射下发生反应的过程称为曝光，接收的光强越大，被照射时间越长，反应程度越剧烈。经过曝光，光刻胶层304记录下了一定时间内干涉条纹302的明暗信息。接着将覆有已曝光的光刻胶层304的基板303浸没入显影液一定时间并取出，由于光刻胶层304各部分的溶解性不同，其溶解后成为具有高低相间的浮雕结构的浮雕光栅305，这个步骤称为显影。当光刻胶涂层304为“正胶”，即被光照更多的部分更容易溶解时，显影后所得光栅占宽比于曝光量呈负相关，在增加曝光量后的相同显影时间下溶解进入显影液的光刻胶更多，留下的光栅结构更窄，获得的浮雕光栅305占宽比更小；反之，当光刻胶涂层304为“负胶”，即被光照更多的部分更难以溶解时，在增加曝光量后的相同显影时间下获得的浮雕光栅305的占宽比更大。
[0003]目前典型的全息光栅制作装置在曝光过程中的两部分激光未经过透过率调整，直接形成干涉条纹并最终在基板上形成光栅，曝光量的分布完全取决于不可控的准直激光的强度分布，因此期望获得的占宽比分布也受制于准直激光的强度分布，难以控制。
技术实现思路
[0004]本专利技术实施例的主要目的在于提供一种全息光栅制作装置，以制作占宽比分布可调的光栅，实现对光栅不同区域衍射性能的调制。
[0005]为了实现上述目的，本专利技术实施例提供一种全息光栅制作装置，包括：用于发射激光的激光器；用于调整光强的光强调整部件；用于调整激光透过率的透过率调整部件；其中，透过率调整部件包括第一透过率调整部件的透过率分布与第二透过率调整部件，第一透过率调整部件和第二透过率调整部件的透过率分布相同或互为镜像；用于移动第一透过率调整部件的第一移动部件，与第一透过率调整部件连接；用于移动第二透过率调整部件的第二移动部件，与第二透过率调整部件连接；以及基板；激光器发射的激光经光强调整部件调整光强后进入移动的第一透过率调整部件和移动的第二透过率调整部件分别得到第一相干光和第二相干光；第一相干光和第二相干
光在基板上发生干涉形成光栅。
[0006]在其中一种实施例中，还包括：位于光强调整部件和透过率调整部件之间的滤波扩束部件，用于对调整光强后的激光进行滤波扩束。
[0007]在其中一种实施例中，还包括：位于滤波扩束部件和透过率调整部件之间的光束准直部件，用于对经过滤波扩束的激光进行准直处理。
[0008]在其中一种实施例中，还包括：与基板呈直角设置的反射部件，用于将经过透过率调整部件的相干光反射至基板；第一透过率调整部件的透过率分布与第二透过率调整部件的透过率分布互为镜像。
[0009]在其中一种实施例中，还包括：分别与基板和反射部件连接的旋转部件；基板和反射部件的交线与旋转部件的旋转轴重合，用于改变第一相干光与第二相干光的夹角。
[0010]在其中一种实施例中，基板和反射部件的交线与激光的中心轴线相交。
[0011]在其中一种实施例中，还包括：分别与第一透过率调整部件和第二透过率调整部件连接的遮光部件。
[0012]在其中一种实施例中，还包括：位于光强调整部件和滤波扩束部件之间的分光镜，用于将调整光强后的激光分为第一激光和第二激光；滤波扩束部件包括第一滤波扩束部件和第二滤波扩束部件，光束准直部件包括第一光束准直部件和第二光束准直部件；第一透过率调整部件的透过率分布与第二透过率调整部件的透过率分布相同；第一激光依次经过第一滤波扩束部件和第一光束准直部件后进入第一透过率调整部件，第二激光依次经过第二滤波扩束部件和第二光束准直部件后进入第二透过率调整部件。
[0013]在其中一种实施例中，还包括：位于分光镜和滤波扩束部件之间的反射部件；第一激光经反射部件反射进入第一滤波扩束部件，第二激光经反射部件反射进入第二滤波扩束部件。
[0014]在其中一种实施例中，反射部件包括：第一反射部件、第二反射部件和第三反射部件；第一激光经第一反射部件反射进入第一滤波扩束部件；第二激光经第二反射部件反射后，再经第三反射部件反射进入第二滤波扩束部件。
[0015]在其中一种实施例中，经过第一光束准直部件的第一激光与经过第二光束准直部件的第二激光的中心轴线位于基板的中心。
[0016]本专利技术实施例的全息光栅制作装置包括用于发射激光的激光器、用于调整光强的光强调整部件、用于调整激光透过率的透过率调整部件、用于移动透过率调整部件的移动部件和基板，可以制作占宽比分布可调的光栅，实现对光栅不同区域衍射性能的调制。
附图说明
[0017]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0018]图1是全息光栅的制作原理示意图；图2是覆有已曝光的光刻胶层的基板的示意图；图3是浮雕光栅的示意图；图4是光栅结构的剖面图；图5是本专利技术第一实施例中全息光栅制作装置的示意图；图6是本专利技术第二实施例中全息光栅制作装置的示意图；图7是本专利技术第三实施例中全息光栅制作装置的示意图；图8是本专利技术第一实施例中其中一种透过率调整部件的A
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A断面图；图9是本专利技术第一实施例中另一种透过率调整部件的A
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A断面图；图10是本专利技术第一实施例中其中一种透过率调整部件对应的基板B
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B断面图；图11是本专利技术第一实施例中另一种透过率调整部件对应的基板B
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B断面图；图12是本专利技术第二实施例中透过率调整部件的A
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A断面图；图13是本专利技术第二施例中透过率调整部件对应的基板B
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B断面图。
具体实施方式
[0019]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0020]本领域技术人员知道，本专利技术的实施方式可以实现为一种系统、装置、设备、方法或计算机程序产品。因此，本公开可以具体实现为以下形式，即：完全的硬件、完全的软件（包括固件、驻留软件、微代码等），或者硬件和软件结合的形式。
[0021]本专利技术涉及的术语解释如下：曝光本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种全息光栅制作装置，其特征在于，包括：用于发射激光的激光器；用于调整光强的光强调整部件；用于调整激光透过率的透过率调整部件；其中，所述透过率调整部件包括第一透过率调整部件和第二透过率调整部件，所述第一透过率调整部件的透过率分布与所述第二透过率调整部件的透过率分布相同或互为镜像；用于移动所述第一透过率调整部件的第一移动部件，与所述第一透过率调整部件连接；用于移动所述第二透过率调整部件的第二移动部件，与所述第二透过率调整部件连接；以及基板；所述激光器发射的激光经所述光强调整部件调整光强后进入移动的所述第一透过率调整部件和移动的所述第二透过率调整部件分别得到第一相干光和第二相干光；所述第一相干光和所述第二相干光在所述基板上发生干涉形成光栅。2.根据权利要求1所述的全息光栅制作装置，其特征在于，还包括：位于所述光强调整部件和所述透过率调整部件之间的滤波扩束部件，用于对调整光强后的激光进行滤波扩束。3.根据权利要求2所述的全息光栅制作装置，其特征在于，还包括：位于所述滤波扩束部件和所述透过率调整部件之间的光束准直部件，用于对经过滤波扩束的激光进行准直处理。4.根据权利要求3所述的全息光栅制作装置，其特征在于，还包括：与所述基板呈直角设置的反射部件，用于将经过所述透过率调整部件的相干光反射至所述基板；所述第一透过率调整部件的透过率分布与所述第二透过率调整部件的透过率分布互为镜像。5.根据权利要求4所述的全息光栅制作装置，其特征在于，还包括：分别与所述基板和所述反射部件连接的旋转部件；所述基板和所述反射部件的交线与所述旋转部件的旋转轴重合，用于改变所述第一相干光与所述第二相干光的夹角。6.根据权利要求4所...
【专利技术属性】
技术研发人员：许晨璐，孟祥峰，赵宇暄，冒新宇，
申请(专利权)人：北京至格科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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