一种陶瓷纤维表面SiBN/SiBCN复合界面层的制备方法技术

技术编号:34733159 阅读:10 留言:0更新日期:2022-08-31 18:22
本发明专利技术属于陶瓷基复合材料界面层的制备技术,涉及一种陶瓷纤维表面SiBN/SiBCN复合界面层的制备方法。本发明专利技术以氮化硅纤维、碳化硅纤维或氧化铝纤维等作为界面层沉积基底,有机聚合物聚硼硅氮作为前驱体,采用化学气相沉积工艺,在纤维表面制备SiBN/SiBCN复合界面层。本发明专利技术可以避免腐蚀性气体HCl的产生,从而减少高温沉积过程中纤维的结构缺陷和强度损伤,同时采用单一前驱体即可满足三种或四种组元界面层的制备,增加在纤维内部的渗透性,增强界面层的沉积均匀性。界面层的沉积均匀性。

【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷纤维表面SiBN/SiBCN复合界面层的制备方法


[0001]本专利技术属于陶瓷基复合材料界面层的制备技术,涉及一种陶瓷纤维表面SiBN/SiBCN复合界面层的制备方法。

技术介绍

[0002]陶瓷纤维是一种具有高强度、高模量、耐高温、抗氧化、耐化学腐蚀等多种优异性能的纤维,可用作金属基以及陶瓷基复合材料的增强体,其强度和韧性对于陶瓷基复合材料的性能具有非常关键的作用。材料制备过程中,陶瓷纤维维持较高的损伤容限和强度是阻止裂纹扩展,实现强韧化的重要保证。
[0003]在陶瓷基复合材料中,陶瓷纤维和陶瓷基体的占比可达90%以上,界面层只占不到10%。但是,界面层对陶瓷基复合材料的性能起着决定性作用。沉积界面层前后纤维的复合材料能够明显增加。如沉积碳界面层后,相比于未沉积界面层的纤维,化学气相浸渍工艺制备的SiC
f
/SiC复合材料弯曲强度由100MPa增加到500MPa,性能改善非常明显。界面层不仅可以增强复合材料的韧性,同时还可以保护纤维,弥合纤维表面的裂纹,提高工艺过程中纤维的强度保留率。
[0004]目前,陶瓷基复合材料常用的界面层体系主要有两种:热解碳(PyC)和氮化硼(BN)。这两种界面层均具有六方层状晶体结构,在复合材料断裂过程中能够偏转裂纹,使裂纹不直接贯穿纤维,从而提高复合材料的韧性和强度。但是热解碳(PyC)和氮化硼(BN)分别在400℃和900℃左右发生氧化,PyC氧化生成CO挥发,BN界面在水蒸气下氧化生成HBO3、H3BO3等气态物质挥发,造成界面层的失效,导致纤维与基体由弱结合转为强结合,材料发生脆性断裂。通过在BN中引入Si元素形成SiBN界面层,可以提高其抗氧化性,氧化生成硼硅酸盐具有流动性,可以愈合产生的裂纹,阻止氧元素向内扩散,侵蚀纤维,从而提高其抗氧化性。而SiBN/SiBCN复合界面层可使其抗氧化性进一步提升。SiBCN具有无定型结构,加热至2000℃时才会发生晶型转变,具有良好的耐高温和抗氧化性。研究表明,SiBCN相比Si3N4、SiC具有更加优异的抗氧化性。
[0005]化学气相沉积工艺制备的界面层结构致密、厚度均匀可控,从次方面而言,是陶瓷纤维表面沉积界面层的最佳工艺。但是,化学气相沉积工艺制备复合界面层制备工艺流程长且复杂,需要多次调节沉积温度,高温且酸碱性环境处理时间长会造成纤维的损伤,均不利于制备高性能的陶瓷基复合材料。
[0006]SiBN和SiBCN界面层由于元素种类更复杂,通常采用三类甚至四类以上的气源。如:SiCl4‑
NH3‑
BCl3和SiCl4‑
NH3‑
BCl3‑
CH4,反应非常复杂,且反应过程中产生HCl腐蚀性的副产物,对纤维造成损伤同时腐蚀设备,并不适用于批量化制备SiBN和SiBCN。
[0007]因此,本专利技术提出一种陶瓷纤维表面SiBN/SiBCN复合界面层的制备方法,即采用聚硼硅氮烷作为前驱体,采用化学气相沉积工艺通过控制气氛在陶瓷纤维表面制备SiBN和SiBCN复合界面层。该方法可以避免腐蚀性气体HCl的产生,从而减少纤维的结构缺陷和强度损伤,同时采用单一前驱体即可满足三种或四种组元界面层的制备,更容易在纤维内渗
透,增强界面层的沉积均匀性。

技术实现思路

[0008]本专利技术提出了一种陶瓷纤维表面SiBN/SiBCN复合界面层的制备方法。采用聚硼硅氮烷作为前驱体,采用载气载入前驱体,然后控制反应气比例和工艺气氛,在高温低压环境,渗透进入不同结构形式得陶瓷纤维内部,并最终在纤维表面制得SiBN和SiBCN复合界面层。该方法可以避免高温沉积过程中纤维的结构缺陷和强度损伤,采用单一前驱体即可满足三种或四种组元界面层的制备,增加界面层的均匀性。
[0009]本专利技术的目的是通过以下技术途径来实现的:
[0010]一种陶瓷纤维表面SiBN/SiBCN复合界面层的制备方法,该方法的具体操作步骤如下:
[0011]步骤一:将陶瓷纤维放置于气相沉积炉中,根据不同的纤维形式,选择相应的沉积工装;
[0012]步骤二:设置液态聚硼硅氮烷储罐的加热温度,控制在70℃~100℃;
[0013]步骤三:将气相沉积炉抽真空至25Pa以下,炉温升至700℃~1100℃,并保温20min~60min以使炉体达到均温状态;
[0014]步骤四:设置炉体压力200Pa~2000Pa,通入N2和H2,随后打开聚硼硅氮烷储罐的出气阀,采用加压的方式使其流入混合室,与H2混合通入沉积室,与另一气路通入的NH3发生反应,高温沉积0.5~2h后在陶瓷纤维表面形成SiBN界面层;
[0015]步骤五:沉积结束后,依次停止通入液态聚硼硅氮烷、NH3和H2,停止工艺过程,N2继续通入30min~60min排出炉体内残留气体;
[0016]步骤六:设置炉体温度800℃~1200℃和压力500Pa~2000Pa,通入N2,随后打开液态聚硼硅氮烷储罐的出气阀,采用加压的方式使其流入混合室,与N2混合通入沉积室,沉积1~3h后在陶瓷纤维表面形成SiBCN界面层;
[0017]步骤七:沉积结束后,依次停止通入液态聚硼硅氮烷和H2,停止工艺过程,N2继续通入30~60min排出炉体内反应气体,待炉体达微正压后停止通N2,随炉冷却至室温。
[0018]所述陶瓷纤维放置于气相沉积炉前采用水浴去除上浆剂。
[0019]所述水浴去除上浆剂是将陶瓷纤维置于高温水浴中脱浆处理,温度60℃~90℃,时间为2h~6h;
[0020]所述陶瓷纤维的种类为碳化硅纤维、氮化硅纤维、氮化硼纤维和氧化铝纤维。
[0021]所述纤维形式可以分为连续纤维束、纤维平纹布、纤维缎纹布、2.5D纤维织物和3D纤维织物。
[0022]所述的SiBN界面层及SiBCN界面层均由单一前驱体液态聚硼硅氮烷制备。
[0023]所述的步骤四中聚硼硅氮烷与H2的质量比为1:1~2,载气流量为1L/min~4L/min;聚硼硅氮烷与NH3的质量比为1:3~6,NH3流量为1L/min~3L/min。
[0024]所述的步骤六中聚硼硅氮烷与N2的质量比为1:3~5,N2流量为2L/min~6L/min。
[0025]本专利技术技术方案的优点和特点如下:
[0026]1.本专利技术采用加热水浴除纤维表面上浆剂,相比于空气中氧化去除,能采用较低的反应温度,从而降低纤维表面氧化反应程度,减少纤维中氧的引入。
[0027]2.本专利技术沉积SiBN作为内层界面层,能够提高界面层的抗氧化性,同时仍然能保持较好的结晶性,进而提高复合材料的使用温度。
[0028]3.本专利技术的制备工艺可以针对不同的纤维种类和纤维形式,SiBN/SiBCN可以沉积到陶瓷纤维的表面,由数百甚至上千根纤维单丝组成的纤维束内均沉积有界面层,结构均匀、致密,具有良好的渗透性。
[0029]4.本专利技术中首次提出使用液态聚硼硅氮烷(PSBN)作为前驱体本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷纤维表面SiBN/SiBCN复合界面层的制备方法,其特征在于,该方法的具体操作步骤如下:步骤一:将陶瓷纤维放置于气相沉积炉中,根据不同的纤维形式,选择相应的沉积工装;步骤二:设置液态聚硼硅氮烷储罐的加热温度,控制在70℃~100℃;步骤三:将气相沉积炉抽真空至25Pa以下,炉温升至700℃~1100℃,并保温20min~60min以使炉体达到均温状态;步骤四:设置炉体压力200Pa~2000Pa,通入N2和H2,随后打开聚硼硅氮烷储罐的出气阀,采用加压的方式使其流入混合室,与H2混合通入沉积室,与另一气路通入的NH3发生反应,高温沉积0.5~2h后在陶瓷纤维表面形成SiBN界面层;步骤五:沉积结束后,依次停止通入液态聚硼硅氮烷、NH3和H2,停止工艺过程,N2继续通入30min~60min排出炉体内残留气体;步骤六:设置炉体温度800℃~1200℃和压力500Pa~2000Pa,通入N2,随后打开液态聚硼硅氮烷储罐的出气阀,采用加压的方式使其流入混合室,与N2混合通入沉积室,沉积1~3h后在陶瓷纤维表面形成SiBCN界面层;步骤七:沉积结束后,依次停止通入液态聚硼硅氮烷和H2,停止工艺过程,N2继续通入30~60min排出炉体内反应气体,待炉体达微正压后停止通N2,随炉冷却至室温。2.权利要求1所述的一种陶瓷纤维表面SiBN/SiBCN复合界面层的制备方法,其特...

【专利技术属性】
技术研发人员:吕晓旭焦健孙佳佳杨金华齐哲
申请(专利权)人:中国航发北京航空材料研究院
类型:发明
国别省市:

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