【技术实现步骤摘要】
晶圆承载装置
[0001]本申请涉及半导体
,尤其涉及一种晶圆承载装置。
技术介绍
[0002]晶圆是指利用硅材料制作硅半导体电路所用的硅晶片。在晶圆的生产过程中,晶圆工艺面污染、晶圆质量问题和晶圆工作台磨损等因素均会造成晶圆表面缺陷,所以需要对晶圆进行产品质检。
[0003]目前,在对晶圆的工艺面进行缺陷的质检时,通常用手或工具获取晶圆并进行质检。当工作人员用手直接拿取晶圆的侧边缘进行质检时,手上的指印等污垢会引入至晶圆的工艺面,反而增加了晶圆表面的缺陷增多。或者,当工作人员利用吸笔吸取晶圆进行观察时,由于观察需要较长时间,若吸笔长时间开启会出现吸力变弱的情况,使得晶圆摔落进而造成晶圆损坏。亦或者,当工作人员利用工具夹取晶圆的侧边缘时,容易造成晶圆侧边缘断裂或晶圆摔落的现象,也会造成晶圆的损坏。因此,亟需设计一种晶圆承载装置。
技术实现思路
[0004]本申请提供了一种晶圆承载装置,以解决现有技术中对晶圆进行质检时,容易增加晶圆表面缺陷以及造成晶圆损坏的技术问题。
[0005]为了解决上述 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种晶圆承载装置,其特征在于,包括载具本体(1),所述载具本体(1)内部贯穿设置有承载空腔(2),所述载具本体(1)上表面设置有防护凸台(3)和承载台(4),所述承载台(4)位于所述防护凸台(3)的内侧,所述防护凸台(3)与所述载具本体(1)下表面之间的高度差大于所述承载台(4)与所述载具本体(1)下表面之间的高度差,所述载具本体(1)设置有送入口(5),所述送入口(5)由所述载具本体(1)上表面向下凹陷形成,所述送入口(5)与所述载具本体(1)下表面之间的高度差小于所述承载台(4)与所述载具本体(1)下表面之间的高度差。2.根据权利要求1所述的晶圆承载装置,其特征在于,所述载具本体(1)的外侧设置有手柄(6)。3.根据权利要求1所述的晶圆承载...
【专利技术属性】
技术研发人员:冀菲,董玉爽,张秀全,
申请(专利权)人:济南晶正电子科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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