多相位电感结构制造技术

本实用新型专利技术公开一种多相位电感结构，其包括一主铁芯体、多个次铁芯体、多个主线圈以及多个次线圈。主铁芯体设有多个凹槽。多个次铁芯体、多个主线圈以及多个次线圈设置于多个凹槽内。每一个主线圈分别位于主铁芯体与对应的次线圈之间。每一个主线圈具有朝向相反方向延伸的第一端部与第二端部。每一个次线圈分别位于主线圈与对应的次铁芯体之间。每一个次线圈具有朝向相反方向延伸的第三端部与第四端部。主铁芯体与每一个凹槽内相对应的次铁芯体、主线圈及次线圈相耦合以形成一个电感，且多个电感彼此之间不相互耦合。感彼此之间不相互耦合。感彼此之间不相互耦合。

【技术实现步骤摘要】
多相位电感结构


[0001]本技术涉及一种多相位电感结构，特别是涉及一种节约整体空间且提高功率密度的多相位非耦合电感结构

技术介绍

[0002]现有技术中，多相位非耦合电感的构成基本上都是分立的多个单体电感为主，极少部分是一体多个电感的结构应用。使用多个单体电感组合为多相位电感时，通常是将多个单体电感通过机械的方式粘合成一体，然而这种方式所形成的多相位电感的整体体积较大，因此当电感耦接于电路板上时会占用电路板上的空间，亦即减少了电路板上用来设置其他电子组件的可用面积，这对于节约整体空间且提高功率密度没有太大的进步与贡献
[0003]故，如何通过结构设计的改良，来设计出一种单体式的多相位非耦合电感，不仅能够缩小体积并且能够提高功率密度，以克服上述的缺陷，已成为该领域所欲解决的重要课题之一。

技术实现思路

[0004]本技术所要解决的技术问题在于，针对现有技术的不足提供一种多相位电感结构。
[0005]为了解决上述的技术问题，本技术所采用的其中一技术方案是，提供一种多相位电感结构，其包括一主铁芯体、多个次铁芯体、多个主线圈以及多个次线圈。主铁芯体设有多个凹槽，多个凹槽之间形成多个间隔壁。多个次铁芯体分别设置于多个凹槽内。多个主线圈分别设置于多个凹槽内且分别对应多个次铁芯体，每一个主线圈分别位于主铁芯体与对应的次线圈之间，且每一个主线圈具有朝向相反方向延伸的一第一端部与一第二端部，第一端部及第二端部外露于主铁芯体。多个次线圈分别设置于多个凹槽内且分别对应多个主线圈，每一个次线圈分别位于主线圈与对应的次铁芯体之间，且每一个次线圈具有朝向相反方向延伸的一第三端部与一第四端部，第三端部及第四端部外露于主铁芯体。主铁芯体与每一个凹槽内相对应的次铁芯体、主线圈及次线圈相耦合以形成一个电感，且多个电感彼此之间不相互耦合。
[0006]优选地，多相位电感结构还包括至少一金属连接片，用以连接多个次线圈中的其中两个相邻的次线圈，且至少一金属连接片连接两个相邻的次线圈中的其中一个次线圈的第三端部与另一个次线圈的第四端部。
[0007]优选地，多相位电感结构还包括两个第一金属导接件与对应的两个第二金属导接件，两个第一金属导接件分别设置在主铁芯体的相对两侧壁的底部，其中一第二金属导接件用以连接对应的第一金属导接件与相邻的次线圈的第三端部，另一第二金属导接件用以连接对应的第一金属导接件与相邻的次线圈的第四端部。
[0008]优选地，主铁芯体的顶表面还设有多个贯穿孔，多个贯穿孔分别对应且连通多个凹槽。
[0009]优选地，每一主线圈与对应的次线圈之间彼此绝缘。
[0010]优选地，主铁芯体与任一个次铁芯体之间具有一间隙，每一电感用以通过改变间隙的大小以调整所产生的电感值。
[0011]优选地，主线圈的第一端部及第二端部的底表面是凸出于主铁芯体外。
[0012]优选地，次线圈的第三端部及第四端部的底表面高于主线圈的第一端部及第二端部的底表面。
[0013]优选地，每一主线圈的第一端部与第二端部以及对应的次线圈的第三端部与第四端部是呈直线排列。
[0014]优选地，每一主线圈的第一端部与第二端部是以远离彼此的方向延伸，每一次线圈的第三端部与第四端部是以朝向远离彼此的方向延伸。
[0015]本技术的其中一有益效果在于，本技术通过“多个主线圈分别设置在多个凹槽内且分别对应多个次线圈，且多个次线圈分别设置多个凹槽内且分别对应多个次铁芯体”以及“主铁芯体用以与每一凹槽内相对应的次铁芯体、主线圈及次线圈相耦合以形成一个电感，且多个电感彼此之间不相互耦合”的技术方案，以提供一种单体式的多相位电感结构，以达到节约整体空间且提高功率密度的功效。
[0016]为使能更进一步了解本技术的特征及
技术实现思路
，请参阅以下有关本技术的详细说明与附图，然而所提供的附图仅用于提供参考与说明，并非用来对本技术加以限制。
附图说明
[0017]图1为本技术的多相位电感结构的第一立体示意图。
[0018]图2为本技术的多相位电感结构的第二立体示意图。
[0019]图3为本技术的多相位电感结构的第一分解示意图。
[0020]图4为本技术的多相位电感结构的第二分解示意图。
[0021]图5为本技术的多相位电感结构的侧视示意图。
[0022]图6为本技术的多相位电感结构的正视示意图。
具体实施方式
[0023]以下是通过特定的具体实施例来说明本技术所公开有关“多相位电感结构”的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所公开的内容了解本技术的优点与效果。本技术可通过其他不同的具体实施例加以施行或应用，本说明书中的各项细节也可基于不同观点与应用，在不悖离本技术的构思下进行各种修改与变更。另外，本技术的附图仅为简单示意说明，并非依实际尺寸的描绘，事先声明。以下的实施方式将进一步详细说明本技术的相关
技术实现思路
，但所公开的内容并非用以限制本技术的保护范围。
[0024]应当可以理解的是，虽然本文中可能会使用到“第一”、“第二”、“第三”等术语来描述各种元件，但这些元件不应受这些术语的限制。这些术语主要是用以区分一元件与另一元件。另外，本文中所使用的术语“或”，应视实际情况可能包括相关联的列出项目中的任一个或者多个的组合。
[0025]实施例
[0026]参阅图1至图4所示，图1与图2分别为多相位电感结构在不同视角的立体示意图，图3与图4分别为本技术的多相位电感结构的分解示意图。本技术实施例提供一种多相位电感结构M，其包括：一主铁芯体1、多个次铁芯体2、多个主线圈3以及多个次线圈4。
[0027]承上述，在本实施例中，次铁芯体2、主线圈3以及次线圈4的数量是以六个为例，但本技术不以为限。如图4所示，主铁芯体1设有多个凹槽11，且多个凹槽11的开口是朝向主铁芯体1的底部开设。同样地，凹槽11的数量是以六个为例，但本技术不以为限。多个凹槽11之间形成多个间隔壁12，多个间隔壁12将多个凹槽11间隔开，使得多个凹槽11彼此之间不相互连通。多个次铁芯体2分别设置于多个凹槽11内，多个主线圈3分别设置于多个凹槽11内且分别对应多个次铁芯体2，多个次线圈4分别设置于多个凹槽11内且分别对应多个主线圈3。换言之，本实施例中的每一个凹槽11内可容纳一个次铁芯体2、一个主线圈3以及一个次线圈4。进一步来说，每一个主线圈3分别位于主铁芯体1与对应的次线圈4之间，每一个次线圈4分别位于主线圈3与对应的次铁芯体2之间。另外，每一个主线圈3包括一本体部30以及连接在本体部30的两端且以远离彼此方向延伸的一第一端部31与一第二端部32，且本体部30呈一倒“U”字型形状而形成一容置空间。每一个次线圈4包括一本体部40以及连接在本体部40的两端且以朝向彼此方向延伸的一第三端部41与一第四端部42，且本体部40呈一倒“U”字型形状而形成另一容置空间。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多相位电感结构，其特征在于，所述多相位电感结构包括：一主铁芯体，设有多个凹槽，多个所述凹槽之间形成多个间隔壁；多个次铁芯体，分别设置于多个所述凹槽内；多个主线圈，分别设置于多个凹槽内且分别对应多个所述次铁芯体，每一所述主线圈具有朝向相反方向延伸的一第一端部与一第二端部，所述第一端部及所述第二端部外露于所述主铁芯体；以及多个次线圈，分别设置于多个凹槽内且分别对应多个所述主线圈，每一所述次线圈具有朝向相反方向延伸的一第三端部与一第四端部，所述第三端部及所述第四端部外露于所述主铁芯体；其中，每一所述主线圈分别位于所述主铁芯体与对应的所述次线圈之间，每一所述次线圈分别位于所述主线圈与对应的所述次铁芯体之间；其中，所述主铁芯体用以与每一所述凹槽内相对应的所述次铁芯体、所述主线圈及所述次线圈相耦合以形成一个电感，且多个所述电感彼此之间不相互耦合。2.根据权利要求1所述的多相位电感结构，其特征在于，所述多相位电感结构还包括：至少一金属连接片，用以连接多个所述次线圈中的其中两个相邻的所述次线圈，且所述至少一金属连接片连接两个相邻的所述次线圈中的其中一个所述次线圈的所述第三端部与另一个所述次线圈的所述第四端部。3.根据权利要求2所述的多相位电感结构，其特征在于，所述多相位电感结构还包括：两个第一金属导接件与对应的两个第二金属导接件，两个所述第一金属导接件分别设置在所述主铁芯体的相对两侧壁的底部...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱南海，郭修竹，
申请(专利权)人：美商泛技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：