【技术实现步骤摘要】
氧化镓制备系统
[0001]本公开涉及化工领域，更具体地涉及一种氧化镓制备系统。
技术介绍
[0002]随着大数据时代的到来，半导体材料的应用范围和需求量逐年增加，其中宽禁带半导体材料在大功率半导体器件，紫外探测，紫外通讯方面发挥着重要的作用。氧化镓作为禁带宽度完美契合深紫外波段光子能量的宽禁带半导体材料，是目前人们研究的重点对象。
[0003]Ga2O3是金属镓的氧化物，同时也是一种半导体化合物。其结晶形态截至目前已确认有α、β、γ、δ、ε五种，其中，β结构最稳定。与Ga2O3的结晶生长及物性相关的研究大部分围绕β结构展开。氧化镓(Ga2O3)是一种新兴的超宽带隙(UWBG)半导体，拥有4.8eV的超大带隙。作为对比，SiC和GaN的带隙为3.3eV，而硅则仅有1.1eV，那就让这种新材料拥有更高的热稳定性、更高的电压、再加上其能被广泛采用的天然衬底，让开发者可以轻易基于此开发出小型化，高效的大功率晶体管。
[0004]于2018年5月18日公布的中国专利申请CN108046311A公开了一种高纯氧化镓的制...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种氧化镓制备系统(100)，其特征在于，包括镓溶解釜(1)、过滤器(2)、定容罐(3)、中和釜(4)、恒温控制模块(5)、离心机(6)以及气氛炉(7)；镓溶解釜(1)用于将镓溶解于硝酸以形成硝酸镓并与水形成硝酸镓溶液；过滤器(2)位于镓溶解釜(1)和定容罐(3)之间并连通镓溶解釜(1)和定容罐(3)，过滤器(2)用于将来自镓溶解釜(1)的硝酸镓溶液过滤并将过滤后的硝酸镓溶液供给到定容罐(3)；定容罐(3)用于接收过滤器(2)供给的过滤后的硝酸镓溶液且将所接收的过滤后的硝酸镓溶液用水稀释并定容，以形成定容的硝酸镓溶液；中和釜(4)设置于定容罐(3)的下游并连通于定容罐(3)和外部的氨水源，中和釜(4)用于接收来自定容罐(3)的定容的硝酸镓溶液和来自外部的氨水源的氨水，以使硝酸镓和氨水反应形成沉淀的氢氧化镓；恒温控制模块(5)用于控制中和釜(4)中的硝酸镓和氨水反应结束后的温度以使中和釜(4)中的沉淀后的氢氧化镓进行恒温陈化而得到含羟基氧化镓的浆料；离心机(6)设置于中和釜(4)的下游并连通于中和釜(4)的底部，离心机(6)用于抽取中和釜(4)的恒温陈化结束后的含羟基氧化镓的浆料并进行离心分离并利用纯水进行离心洗涤，以获得离心洗涤后的羟基氧化镓湿料；气氛炉(7)用于将来自离心机(6)的羟基氧化镓湿料进行煅烧，以获得固态氧化镓。2.根据权利要求1所述的氧化镓制备系统(100)，其特征在于，镓溶解釜(1)设置有高位槽(11)、第一搅拌浆(12)、数显温度计(13)以及第一液位计(14)；高位槽(11)位于镓溶解釜(1)的上方，高位槽(11)用于盛放硝酸，高位槽(11)受控连通于镓溶解釜(1)；第一搅拌浆(12)设置在镓溶解釜(1)内，第一搅拌浆(12)用于在镓溶解釜(1)内形成硝酸镓溶液的过程进行搅拌；数显温度计(13)用于监测镓在镓溶解釜(1)内溶解于硝酸过程中的温度；第一液位计(14)用于监测并确定镓溶解釜(1)中的硝酸镓溶液的液位高度。3.根据权利要求1所述的氧化镓制备系统(100)，其特征在于，氧化镓制备系统(100)还包括第一泵(8A)；第一泵(8A)设置在镓溶解釜(1)和过滤器(2)之间，第一泵(8A)用于将镓溶解釜(1)中的硝酸镓溶液泵送给过滤器(2)；氧化镓制备系统(100)还包括第二泵(8B)和第三泵(8C)；第二泵(8B)设置在定容罐(3)和中和釜(4)之间，第二泵(8B)用于将定容罐(3)中的定容的硝酸镓溶液泵送给中和釜(4)；第三泵(8C)设置在氨水源和中和釜(4)之间，第三泵(8C)用于将氨水源的氨水泵送给中和釜(4)；第二泵(8B)和第三泵(8C)设定为同时且通流量分别泵送定容的硝酸镓溶液和氨水。4.根据权利要求1所述的氧化镓制备系统(100)，其特征在于，定容罐(3)设置有第二搅拌桨(31)以及第二液位计(32)；第二搅拌桨(31)设置在定容罐(3)内，第二搅拌桨(31)用于稀释并定容过滤后的硝酸
镓溶液的过程进行搅拌；第二液位计(32)用于监测并确定定容罐(3)中的稀释的过滤后的硝酸镓溶液的液位高度；中和釜(4)设置有第三搅拌桨(41)以及pH计(42)；第三搅拌桨(41)设置中和釜(4)内，用于在硝酸镓和氨水反应形成沉淀的氢氧化镓的过程中进行搅拌；pH计(42)用于监测硝酸镓和氨水反应形成沉淀的氢氧...
【专利技术属性】
技术研发人员：黎昌松，吴伟平，
申请(专利权)人：广东长信精密设备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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