水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备及使用方法技术

本发明专利技术公开了水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备及使用方法，涉及涂料加工设备技术领域。包括反应釜组件，锁紧机构以及定位机构，所述反应釜组件包括反应釜主体、支撑板以及底板，所述反应釜主体的两侧通过活动轴连接有支撑板。通过设置反应釜组件，锁紧机构以及定位机构，相较于常规反应釜的清理方式，该装置通过锁紧机构以及定位机构将反应釜主体翻转，降低反应釜主体的整体高度，无需工作人员爬高下低，清理过程更加安全，同时不采用自动清理结构，降低了反应釜主体内壁被刮伤的风险，同时降低了制造成本，采用人工目视清理，清理效果更佳，保证了反应釜主体内部的产品生产质量，符合经济效益，应用前景广阔。应用前景广阔。应用前景广阔。

【技术实现步骤摘要】
水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备及使用方法


[0001]本专利技术涉及涂料加工设备
，具体为水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备及使用方法。

技术介绍

[0002]水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层，采用水性UV光油固化工艺，将原料涂覆后，采用UV光固化技术，使得涂料在物面上形成一层薄薄的纳米级防护层，纳米级涂层，指纳米无毒涂层的先进工艺，科技含量高的纳米涂层技术，纳米抗菌防护涂层，是在纳米涂层基础上的改善.主要特点起到了抗菌保护作用。
[0003]现有技术中，水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的原料反应釜技术较为承受，可以进行加热、冷却和搅拌，但是其结构固定，使得加工结束后的清理过程难度较大，尤其是对体积较大的反应釜来说，需要工作人员不停的爬高下低，过程缓慢且有一定的危险性，一些具有自动清洗结构的反应釜，清理有死角，洁净效果差且容易刮伤反应釜的内壁涂层，导致反应釜需要返厂维修，造成严重经济损失，已无法满足使用需求。

技术实现思路

[0004]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备及使用方法，包括反应釜组件，锁紧机构以及定位机构，所述反应釜组件包括反应釜主体、支撑板以及底板，所述反应釜主体的两侧通过活动轴连接有支撑板，所述反应釜主体的两侧设置有一端穿设于支撑板内部且位于活动轴上方的定位轴；
[0005]所述锁紧机构包括设置于支撑板上的电动推杆一以及电动推杆二，所述电动推杆一的输出端上设置有U形定位夹，所述U形定位夹的内部与定位轴的表面活动套接，所述U形定位架内壁的两侧均设置有夹板，所述U形定位夹的两侧均设置有螺杆，两个所述螺杆分别用于驱动两个夹板，以实现所述夹板对定位轴的夹持，所述电动推杆二的输出端上设置有与螺杆传动连接的齿杆；
[0006]所述定位机构包括设置于底板底部的减速电机以及设置于支撑板一侧的弧形阻尼板，所述减速电机的输出端设置有一端贯穿底板延伸至其中一个支撑板内部并与定位轴表面相连接的钢丝绳，所述弧形阻尼板的内部设置有数量不少于一个的定位销组件。
[0007]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述支撑板的底部与底板的顶部固定连接，所述底板的底部设置有支撑腿，所述底板呈L形设置，所述底板的顶部开设有操作槽，所述操作槽的内部设置有用于承接清洗产生的废水的废水收集槽，所述底板的顶部位于反应釜主体的底部开设有排料槽且排料槽内壁的一侧开设有周转口，用于容纳所述反应釜主体底部的排料管。
[0008]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述锁紧机构还包括有开设于支撑板一侧且数量不少于两个的限位支撑槽，所述U形定位架包括设置于两个支撑限位槽内部的侧板以及设置于两个侧板之间的固定板，所述侧板的一端延伸至支撑限位槽的外部。
[0009]作为本专利技术的一种优选技术方案，两个所述侧板的相对面均开设有活动腔，所述夹板设置于活动腔的内部，所述活动腔的内部设置有稳定杆且稳定杆的表面活动设置有稳定筒，所述稳定筒的一端与夹板的一侧固定连接，所述活动腔内壁的一侧与夹板之间设置有弹簧。
[0010]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述电动推杆二的输出端设置有活动杆，所述齿杆的一端固定安装于活动杆上，所述活动杆上的齿杆数量不少于两个，所述螺杆设置于侧板的内部并与侧板螺纹连接，所述螺杆的一端延伸至侧板的外部并设置有齿轴，所述螺杆的另一端与夹板的一侧相抵触，所述齿杆的一侧设置有与齿轴相啮合的卡齿。
[0011]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述支撑板的内部开设有滑槽，所述定位轴远离反应釜主体的一端延伸至滑槽的内部，所述弧形阻尼板的内部开设有与滑槽相连通的弧形限位孔，所述弧形限位孔内壁的两侧均开设有数量不少于一个的圆槽，所述支撑板的一侧设置有一端与定位轴相抵触的压簧。
[0012]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述弧形阻尼板远离支撑板的一端延伸至操作槽的内部，所述滑槽内壁的一侧以及底板的内部均开设有穿插孔，所述穿插孔内壁的两侧均设置有导向滑轮，所述钢丝绳穿设于两个穿插孔的内部且钢丝绳的表面与导向滑轮的表面滑动连接。
[0013]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述侧板的一侧设置有数量不少于两个的支撑轴，所述支撑轴的表面与齿杆的一侧滑动连接，所述侧板一侧的顶部呈弧形设置，所述齿杆一侧的底部呈弧形设置，所述弧形阻尼板以及滑槽的圆心与活动轴的圆心一致。
[0014]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述定位销组件包括设置于弧形阻尼板上且数量不少于一个的阻尼筒，所述阻尼筒的内部设置有定位销主体，所述定位销主体的一端贯穿其中一个圆槽并设置有限位板，所述定位销主体远离限位板的一端设置有操作块。
[0015]一种水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层反应设备的使用方法，包括以下步骤:
[0016]S1、解锁反应釜主体上，水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层原料在反应釜主体的内部反应完成后进行排料，排料完成后，启动电动推杆二通过活动杆带动齿杆上升，齿杆上升时带动卡齿转动齿轴，齿轴带动螺杆边旋转边脱离对夹板的抵触，使得夹板脱离对定位轴的抵触；
[0017]S2、解锁反应釜主体下，夹板解锁完成后，启动电动推杆一带动U形定位夹下降，侧板在限位支撑槽的内部下滑，使得U形定位夹脱离对定位轴的夹持，完成对反应釜主体以及定位轴的解锁；
[0018]S3、偏转反应釜主体，启动减速电机放卷钢丝绳，由于定位轴脱离解锁状态，使得钢丝绳放卷时，压簧回弹抵触定位轴从滑槽的内部移动至弧形限位孔的内部，将反应釜主体翻转至适合清理的角度，选择合适位置的定位销进行定位；
[0019]S4、定位反应釜主体，按压操作块带动定位销主体在阻尼筒的内部滑动，当定位销主体带动限位板延伸至圆槽的内部时，即可完成对定位销支撑状态的调节，当定位轴移动至该定位销主体处时，则无法继续偏转，即可对反应釜主体进行清理；
[0020]S5、复位反应釜主体，清理完成后，拉出当前限位定位轴的定位销主体，继续偏转反应釜主体，使得反应釜主体内部的废水倒入废水收集槽的内部，清理完成后，启动减速电机收卷钢丝绳，使得定位轴重新移动至滑槽的内部，通过锁紧机构再次锁紧反应釜主体即
可。
[0021]与现有技术相比，本专利技术提供了水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备及使用方法，具备以下有益效果：
[0022]1、该水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备及使用方法，通过设置反应釜组件，锁紧机构以及定位机构，相较于常规反应釜的清理方式，该装置通过锁紧机构以及定位机构将反应釜主体翻转，降低反应釜主体的整体高度，无需工作人员爬高下低，清理过程更加安全，同时不采用自动清理结构，降低了反应釜主体内壁被刮伤的风险，同时降低了制造成本，采用人工目视清理，清理效果更佳，保证了反应釜主体内部的产品生产质量，符合经济效益，应用前景广阔。
[0023]2、该水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备及使用方法，通过设置反应釜组件，锁紧机构以及定位机构，反应釜主体在进行搅拌或其他工序时会发生晃动，定位轴抵触本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备，包括反应釜组件(1)，锁紧机构(2)以及定位机构(3)，其特征在于：所述反应釜组件(1)包括反应釜主体(11)、支撑板(14)以及底板(15)，所述反应釜主体(11)的两侧通过活动轴(12)连接有支撑板(14)，所述反应釜主体(11)的两侧设置有一端穿设于支撑板(14)内部且位于活动轴(12)上方的定位轴(13)；所述锁紧机构(2)包括设置于支撑板(14)上的电动推杆一(21)以及电动推杆二(22)，所述电动推杆一(21)的输出端上设置有U形定位夹(24)，所述U形定位夹(24)的内部与定位轴(13)的表面活动套接，所述U形定位架内壁的两侧均设置有夹板(29)，所述U形定位夹(24)的两侧均设置有螺杆(261)，两个所述螺杆(261)分别用于驱动两个夹板(29)，以实现所述夹板(29)对定位轴(13)的夹持，所述电动推杆二(22)的输出端上设置有与螺杆(261)传动连接的齿杆(27)；所述定位机构(3)包括设置于底板(15)底部的减速电机(31)以及设置于支撑板(14)一侧的弧形阻尼板(33)，所述减速电机(31)的输出端设置有一端贯穿底板(15)延伸至其中一个支撑板(14)内部并与定位轴(13)表面相连接的钢丝绳(32)，所述弧形阻尼板(33)的内部设置有数量不少于一个的定位销组件(35)。2.根据权利要求1所述的水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备，其特征在于：所述支撑板(14)的底部与底板(15)的顶部固定连接，所述底板(15)的底部设置有支撑腿(18)，所述底板(15)呈L形设置，所述底板(15)的顶部开设有操作槽(16)，所述操作槽(16)的内部设置有用于承接清洗产生的废水的废水收集槽(17)，所述底板(15)的顶部位于反应釜主体(11)的底部开设有排料槽且排料槽内壁的一侧开设有周转口，用于容纳所述反应釜主体(11)底部的排料管。3.根据权利要求1所述的水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备，其特征在于：所述锁紧机构(2)还包括有开设于支撑板(14)一侧且数量不少于两个的限位支撑槽(23)，所述U形定位架包括设置于两个支撑限位槽内部的侧板(241)以及设置于两个侧板(241)之间的固定板(242)，所述侧板(241)的一端延伸至支撑限位槽的外部。4.根据权利要求3所述的水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备，其特征在于：两个所述侧板(241)的相对面均开设有活动腔(28)，所述夹板(29)设置于活动腔(28)的内部，所述活动腔(28)的内部设置有稳定杆(281)且稳定杆(281)的表面活动设置有稳定筒(282)，所述稳定筒(282)的一端与夹板(29)的一侧固定连接，所述活动腔(28)内壁的一侧与夹板(29)之间设置有弹簧(283)。5.根据权利要求1所述的水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备，其特征在于：所述电动推杆二(22)的输出端设置有活动杆(221)，所述齿杆(27)的一端固定安装于活动杆(221)上，所述活动杆(221)上的齿杆(27)数量不少于两个，所述螺杆(261)设置于侧板(241)的内部并与侧板(241)螺纹连接，所述螺杆(261)的一端延伸至侧板(241)的外部并设置有齿轴(26)，所述螺杆(261)的另一端与夹板(29)的一侧相抵触，所述齿杆(27)的一侧设置有与齿轴(26)相啮合的卡齿。6.根据权利要求1所述的水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备，其特征在于：所述支撑板(14)的内部开设有滑槽(141)，所述定位轴(13)远离反应釜主体(11...

【专利技术属性】
技术研发人员：葛亚，陈冲，
申请(专利权)人：江苏吉福新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：