氟树脂膜制造技术

提供一种具有低静摩擦系数和高绝缘击穿强度的氟树脂膜。一种氟树脂膜，其为包含氟树脂的氟树脂膜，其特征在于，至少一个表面的十点平均粗糙度为0.100μm～1.200μm，并且算术平均粗糙度为0.010μm～0.050μm，绝缘击穿强度为400V/μm以上。度为400V/μm以上。

【技术实现步骤摘要】
氟树脂膜
[0001]本申请是分案申请，其针对的申请的中国国家申请号为201880008655.X、国际申请号为PCT/JP2018/001180，申请日为2018年01月17日、进入中国的日期为2019年7月26日，专利技术名称为“氟树脂膜”。


[0002]本专利技术涉及氟树脂膜。

技术介绍

[0003]已知偏二氟乙烯均聚物的膜、或由偏二氟乙烯与其它单体构成的共聚物的膜具有高相对介电常数。
[0004]专利文献1中记载了一种使用氟树脂形成的高电介质膜，该氟树脂包含合计为95摩尔％以上的偏二氟乙烯单元和四氟乙烯单元。
[0005]专利文献2中记载了一种包含四氟乙烯系树脂作为膜形成树脂的膜电容器用膜，该四氟乙烯系树脂以偏二氟乙烯单元/四氟乙烯单元(摩尔％比)为0/100～49/51的范围包含偏二氟乙烯单元和四氟乙烯单元。
[0006]另外，专利文献3中记载了一种双轴取向聚丙烯膜，其为由以丙烯为主体的聚丙烯树脂构成的聚丙烯膜，其特征在于，该聚丙烯树脂是在直链状聚丙烯中混合0.1重量％～1.5重量％的支链状聚丙烯(H)本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种氟树脂膜，其为包含氟树脂的氟树脂膜，其特征在于，包含聚合单元的组成比不同的两种氟树脂作为所述氟树脂，至少一个表面的十点平均粗糙度为0.100μm～1.200μm且算术平均粗糙度为0.010μm～0.050μm，绝缘击穿强度为400V/μm以上。2.如权利要求1所述的氟树脂膜，其中，氟树脂为偏二氟乙烯/四氟乙烯共聚物。3.如权利要求2所述的氟树脂膜，其中，氟树脂进一步包含基于烯键式不饱和单体的共聚物单元，其中，该烯键式不饱和单体不包括四氟乙烯和偏二氟乙烯。4.如权利要求1、2或3所述的氟树脂膜，其中，该氟树脂膜进一步包含无机颗粒。5.如权利要求4所述的氟树脂膜，其中，无机颗粒的含量相对于氟树脂100质量份为0.01质量份～5质量份。6.如权利要求1、2或3所述的氟树脂膜，其中，该氟树脂膜进行了压...

【专利技术属性】
技术研发人员：横谷幸治，小松信之，硲武史，立道麻有子，桧垣章夫，樋口达也，山，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：