减反射镀膜玻璃及其制备方法技术

本发明专利技术公开一种减反射镀膜玻璃及其制备方法，减反射镀膜玻璃包括依次设置的玻璃基板、第一折射层组和陶瓷保护层，第一折射层组包括第一高折射率层、过渡层和第一低折射率层，过渡层位于第一高折射率层和第一低折射率层之间，第一高折射率层位于玻璃基板的一侧；多个第二折射层组重叠设置，各第二折射层组包括第二高折射率层和第二低折射率层，第二高折射率层位于第一低折射率层背向第一高折射率层的一侧，最外侧的第二低折射率层背向第二高折射率层的一侧设置有陶瓷保护层。本发明专利技术中的减反射镀膜玻璃通过设置陶瓷保护层，提高表面硬度。通过在第一高折射率层和第一低折射率层之间设置过渡层，提高膜层结合力和整体稳定性。性。性。

【技术实现步骤摘要】
减反射镀膜玻璃及其制备方法


[0001]本专利技术涉及玻璃领域，具体涉及一种减反射镀膜玻璃及其制备方法。

技术介绍

[0002]减反射镀膜玻璃利用对太阳光具有较低的反射率和较高的透过率的独特性能，可以消除玻璃的眩光问题，使得色彩更艳丽，景物更清晰，因此被广泛用在临街店面的橱窗玻璃、博物馆的画框玻璃、展柜玻璃、商店柜面玻璃、广告牌玻璃、特殊建筑玻璃等。然而，现有的减反射镀膜玻璃存在膜层结合力差，硬度不高等问题，在加工和使用过程中容易划伤、脱膜等缺陷。

技术实现思路

[0003]本专利技术的主要目的是提供一种减反射镀膜玻璃及其制备方法，以解决传统减反射镀膜玻璃膜层结合力差，硬度不高的问题。
[0004]为实现上述目的，本专利技术提出的减反射镀膜玻璃包括依次设置的玻璃基板、第一折射层组和陶瓷保护层，所述第一折射层组与所述陶瓷保护层之间设置有多个第二折射层组，所述第一折射层组包括第一高折射率层、过渡层和第一低折射率层，所述过渡层位于所述第一高折射率层和所述第一低折射率层之间，所述第一高折射率层位于所述玻璃基板的一侧；多个所述第二折射层组重叠设置，各所述第二折射层组包括第二高折射率层和第二低折射率层，所述第二高折射率层位于所述第一低折射率层背向所述第一高折射率层的一侧，最外侧的第二低折射率层背向所述第二高折射率层的一侧设置有所述陶瓷保护层。
[0005]可选地，所述第一高折射率层为TiN层、NbOx层、TiOx层、SiNx层的其中一种，所述第一低折射率层为SiOx层；所述第二高折射率层为NbOx层、TiOx层、SiNx层的其中一种，所述第二低折射率层为SiOx层，所述陶瓷保护层为ZrOx层、ZrSiNx层的其中一种。
[0006]可选地，所述第一高折射率层和所述第二高折射率层的折射率为1.9～2.6；和/或，所述第一低折射率层和所述第二低折射率层的折射率为1.43～1.58；和/或，所述陶瓷保护层的折射率为1.80～2.45。
[0007]可选地，所述第一高折射率层的厚度为6nm～40nm；和/或，所述第一低折射率层的厚度为16nm～55nm；和/或，所述第二高折射率层的厚度为75nm～145nm；和/或，所述第二低折射率层的厚度为43nm～138nm；和/或，所述陶瓷保护层的厚度为3nm～18nm。
[0008]可选地，所述过渡层为NiCr层、NiCrNx层、CrNx层的其中一种。
[0009]可选地，所述过渡层的厚度为2nm～12nm。
[0010]可选地，所述减反射镀膜玻璃的可见光反射率≤5％，可见光透过率≥94％。
[0011]可选地，所述减反射镀膜玻璃的玻面和膜面的颜色均为中性色，玻面和膜面的色度区域在Lab表色系统中满足：颜色值均为
‑
1.7≤a坐标值≤1，
‑
2.3≤b坐标值≤1。
[0012]另外，本专利技术还提供一种减反射镀膜玻璃的制备方法，用于制备如权利要求如上所述的减反射镀膜玻璃，包括如下步骤：
[0013]提供玻璃基板，所述玻璃基板放置于磁控溅射区；
[0014]用靶材对玻璃基板表面进行真空磁控溅射形成所述第一高折射率层，所述第一高折射率层为TiN层、NbOx层、TiOx层、SiNx层的其中一种；
[0015]用靶材对所述第一高折射率层背向所述玻璃基板一侧的表面真空磁控溅射形成所述过渡层，所述过渡层为NiCr层、NiCrNx层、CrNx层的其中一种；
[0016]用靶材对所述过渡层背向所述第一高折射率层的一侧的表面进行真空磁控溅射形成所述第一低折射率层，所述第一低折射率层为SiOx层，所述第一高折射率层、所述过渡层和所述第一低折射率层构成所述第一折射层组；
[0017]用靶材对所述第一低折射率层背向所述过渡层的一侧的表面进行真空磁控溅射形成所述第二高折射率层，所述第二高折射率层为NbOx层、TiOx层、SiNx层的其中一种；
[0018]用靶材对所述第二高折射率层背向所述第一低折射率层的一侧的表面进行真空磁控溅射形成所述第二低折射率层，所述第二低折射率层为SiOx层，所述第二高折射率层和所述第二低折射率层构成所述第二折射层组；
[0019]重复上一步骤形成多个所述第二折射层组；
[0020]用靶材对最外侧的所述第二低折射率层背向所述第二高折射率层一侧的表面真空磁控溅射形成所述陶瓷保护层，所述陶瓷保护层为ZrOx层、ZrSiNx层的其中一种。
[0021]可选地，所述第一高折射率层在氩氮或氩氧氛围中，中频电源加旋转阴极溅射沉积，溅射功率为10～80kw，磁控溅射的真空度为1.5*10
‑
3mbar～6.5*10
‑
3mbar；
[0022]所述第二高折射率层在氩氮或氩氧氛围中，中频电源加旋转阴极溅射沉积，溅射功率为10～80kw，磁控溅射的真空度为1.5*10
‑
3mbar～6.5*10
‑
3mbar；
[0023]所述第一低折射率层和所述第二低折射率层在氩氧氛围中，中频电源加旋转阴极溅射沉积，溅射功率为10～60kw，磁控溅射的真空度为1.5*10
‑
3mbar～6.5*10
‑
3mbar；
[0024]所述过渡层在纯氩、氩氮或者氩氧氛围中，直流电源加脉冲溅射沉积过渡层，溅射功率为1～10kw，磁控溅射的真空度为1.5*10
‑
3mbar～6.5*10
‑
3mbar；
[0025]所述保护层在氩氮或氩氧氛围中，中频电源加旋转阴极溅射沉积，溅射功率为2～20kw，磁控溅射的真空度为1.5*10
‑
3mbar～6.5*10
‑
3mbar。
[0026]本专利技术技术方案中，玻璃基板的一侧设置有第一高折射率层，第一高折射率层背向所述玻璃基板的一侧设置有过渡层，过渡层背向第一高折射率层的一侧设置有第一低折射率层。在第一高折射率层和第一低折射率层之间设置过渡层，可以大幅提高膜层结合力和整体稳定性。并且，过渡层能够起到缓冲作用。设置多个重叠设置的第二折射层组，利用高折射率材料和低折射率材料多次叠加的特点，达到低反射高透过的光学效果。通过设置陶瓷保护层，提高表面硬度，起到抗划伤、耐磨损和耐腐蚀的保护作用，使得减反射镀膜玻璃能够经受住二次加工钢化过程中的高温热处理。
附图说明
[0027]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0028]图1为本专利技术一实施例减反射镀膜玻璃的结构示意图；
[0029]图2为本专利技术一实施例减反射镀膜玻璃的制备方法的流程示意图。
[0030]附图标号说明：
[0本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种减反射镀膜玻璃，其特征在于，所述减反射镀膜玻璃包括依次设置的玻璃基板、第一折射层组和陶瓷保护层，所述第一折射层组与所述陶瓷保护层之间设置有多个第二折射层组，所述第一折射层组包括第一高折射率层、过渡层和第一低折射率层，所述过渡层位于所述第一高折射率层和所述第一低折射率层之间，所述第一高折射率层位于所述玻璃基板的一侧，多个所述第二折射层组重叠设置，各所述第二折射层组包括第二高折射率层和第二低折射率层，所述第二高折射率层位于所述第一低折射率层背向所述第一高折射率层的一侧，最外侧的第二低折射率层背向所述第二高折射率层的一侧设置有所述陶瓷保护层。2.如权利要求1所述的减反射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一高折射率层为TiN层、NbOx层、TiOx层、SiNx层的其中一种，所述第一低折射率层为SiOx层；所述第二高折射率层为NbOx层、TiOx层、SiNx层的其中一种，所述第二低折射率层为SiOx层，所述陶瓷保护层为ZrOx层、ZrSiNx层的其中一种。3.如权利要求2所述的减反射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一高折射率层和所述第二高折射率层的折射率为1.9～2.6；和/或，所述第一低折射率层和所述第二低折射率层的折射率为1.43～1.58；和/或，所述陶瓷保护层的折射率为1.80～2.45。4.如权利要求2所述的减反射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一高折射率层的厚度为6nm～40nm；和/或，所述第一低折射率层的厚度为16nm～55nm；和/或，所述第二高折射率层的厚度为75nm～145nm；和/或，所述第二低折射率层的厚度为43nm～138nm；和/或，所述陶瓷保护层的厚度为3nm～18nm。5.如权利要求1所述的减反射镀膜玻璃，其特征在于，所述过渡层为NiCr层、NiCrNx层、CrNx层的其中一种。6.如权利要求5所述的减反射镀膜玻璃，其特征在于，所述过渡层的厚度为2nm～12nm。7.如权利要求1所述的减反射镀膜玻璃，其特征在于，所述减反射镀膜玻璃的可见光反射率≤5％，可见光透过率≥94％。8.如权利要求1所述的减反射镀膜玻璃，其特征在于，所述减反射镀膜玻璃的玻面和膜面的颜色均为中性色，玻面和膜面的色度区域在Lab表色系统中满足：颜色值均为
‑
1.7≤a坐标值≤1，
‑
2.3≤b坐标值≤1。9.一种减反射镀膜玻璃的制备方法，用于制备如权利要求1
‑
8中任意一项所述的减反射镀膜玻璃，其特征在于，包括如下步骤：提供玻璃基板，所述玻璃基板放置于磁控溅射区；用靶材对玻璃基板...

【专利技术属性】
技术研发人员：董炳荣，
申请(专利权)人：长兴旗滨节能玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：