一种镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种镀膜设备，包括镀膜腔体，围绕镀膜腔体的外周边设置有多个法兰口，其中一个法兰口为抽气口，其余的法兰口中，每个法兰口上配置一个类金刚石镀膜源，所述类金刚石镀膜源包括但不限于磁控溅射源、离子源、多弧源和过滤弧源；整个镀膜设备包含至少一个离子源、和/或磁控溅射源、和/或多弧源、和/或过滤弧源。本实用新型专利技术的镀膜设备，具有多功能，包含多种类金刚石镀膜源制备类金刚石膜层，并在同一台设备中一并实现镀膜、退膜功能，实现一机多用。实现一机多用。实现一机多用。

【技术实现步骤摘要】
一种镀膜设备


[0001]本技术涉及一种镀膜设备，属于真空镀膜领域。

技术介绍

[0002]通常真空镀膜设备，功能配置单一，普遍配置单独的磁控溅射源(Sputtering 溅射源)，或单独的类金刚石(Diamond
‑
like C氩气bon，DLC)源，或单独的弧源等用于沉积类金刚石膜层。缺乏具有多功能的镀膜设备，多种方法沉积类金刚石膜层以及镀膜、退膜一体的真空镀膜设备。

技术实现思路

[0003]本技术的目的是克服现有技术的缺陷，提供一种镀膜设备，具有多功能，包含多种类金刚石镀膜源制备类金刚石膜层，并在同一台设备中一并实现镀膜、退膜功能，实现一机多用。
[0004]实现上述目的的技术方案是：一种镀膜设备，包括镀膜腔体，围绕镀膜腔体的外周边设置有多个法兰口，其中一个法兰口为抽气口，其余的法兰口中，每个法兰口上配置一个类金刚石镀膜源，所述类金刚石镀膜源包括但不限于磁控溅射源、离子源、多弧源和过滤弧源；
[0005]整个镀膜设备包含至少一个离子源、和/或磁控溅射源、和/或多弧源、和/或过滤弧源；
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镀膜设备，其特征在于，包括镀膜腔体、三个离子源、两个磁控溅射源、一个多弧源和一个过滤弧源，围绕镀膜腔体的外周边设置有八个法兰口1～8，所述两个磁控溅射源分别设置在法兰口1和法兰口5，所述三个离子源分别设置在法兰口2、法兰口4和法兰口7；所述多弧源设置在法兰口3，所述过滤弧源设置在法兰口6；法兰口8为抽气口；三个离子...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐智，
申请(专利权)人：纳峰真空镀膜上海有限公司，
类型：新型
国别省市：