间接供气的制程系统技术方案

技术编号:34571110 阅读:8 留言:0更新日期:2022-08-17 13:02
一种间接供气的制程系统,包含适用于设置在设置空间中的制程设备,以及供气设备。所述制程设备包括设备腔体,以及装设在所述设备腔体上的进气单元。所述进气单元包括直接连通所述设置空间的吸气口组。所述供气设备包括间隔地位于所述设备腔体上的供气单元,以及用于提供所述供气单元气体的风机单元与输送单元。所述供气单元能将气体经由所述设置空间吹向所述吸气口组而被所述吸气口组吸入所述设备腔体中,且所述供气单元的吹气量,大于所述吸气口组的吸气量。本实用新型专利技术适用于对空气品质要求较高的新一代制程,而间接供气的设计,则使本实用新型专利技术具有新旧制程均适用的特点。本实用新型专利技术具有新旧制程均适用的特点。本实用新型专利技术具有新旧制程均适用的特点。

【技术实现步骤摘要】
间接供气的制程系统


[0001]本技术涉及一种适用于半导体制程的硬体设备,特别是涉及一种间接供气的制程系统。

技术介绍

[0002]参阅图1,一种现有的制程设备,适用于架设在一无尘室10中,并包括一个设备腔体11,以及多个装设在所述设备腔体11顶端的风机过滤机组12(Fan Filter Unit,FFU)。
[0003]所述设备腔体11适用于在其中实施一个半导体制程。所述风机过滤机组12则能够吸入所述无尘室10中的气体,加以过滤后送入所述设备腔体11中。
[0004]随着半导体制程技术的精进,对于送入所述设备腔体11中的气体品质的要求越来越高,现有的风机过滤机组12已逐渐有无法满足气体品质要求的趋势,有待改善。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于:提供一种能够改善先前技术的至少一个缺点的间接供气的制程系统。
[0006]本技术间接供气的制程系统,适用于搭配设置空间,并包含设置在所述设置空间中的制程设备,所述制程设备包括围绕界定出制程空间的设备腔体,以及装设在所述设备腔体上的进气单元,所述进气单元包括直接连通所述设置空间的吸气口组,所述间接供气的制程系统还包含供气设备,所述供气设备包括与所述设备腔体相间隔的风机单元、架设在所述设备腔体上的支撑单元、设置在所述支撑单元上而与所述吸气口组相间隔的供气单元,以及能将气体由所述风机单元输送至所述供气单元的输送单元,所述供气单元能将来自所述风机单元的气体,经由所述设置空间吹向所述吸气口组而被所述吸气口组吸入所述制程空间中,且所述供气单元的吹气量,大于所述吸气口组的吸气量。
[0007]本技术所述的间接供气的制程系统,所述进气单元包括多个装设在所述制程设备顶端的吸气组,每一所述吸气组包括至少一个吸气口,所述吸气口构成所述吸气口组,所述供气单元包括多个设置在所述支撑单元上的供气组,每一所述供气组间隔地位于所述吸气口的其中一个或其中数个上方,并包括直接连通所述设置空间的吹气口,每一所述供气组能将来自所述风机单元的气体,经由所述设置空间吹向所述吸气口的其中一个或其中数个,而被对应的其中一个或其中数个的所述吸气口吸入所述制程空间中,且每一所述供气组吹向对应的其中一个或其中数个的所述吸气口的吹气量,大于对应的其中一个或其中数个的所述吸气口的吸气量。
[0008]本技术所述的间接供气的制程系统,每一吸气组为风机过滤机组。
[0009]本技术所述的间接供气的制程系统,以体积流量计,每一所述供气组吹向对应的其中一个或其中数个的所述吸气口的吹气量,为对应的其中一个或其中数个的所述吸气口的吸气量的101%~140%。
[0010]本技术所述的间接供气的制程系统,每一所述供气组与对应的其中一个或其
中数个的所述吸气口的间隔距离为50~300mm。
[0011]本技术所述的间接供气的制程系统,所述风机单元能过滤气体中的酸碱物质、挥发性有机物、尘粒,并调整气体的温度与湿度。
[0012]本技术的功效在于:所述供气设备的风机单元能额外再提供过滤酸碱物质、挥发性有机物、微尘颗粒的功能,并能控制气体的温湿度,以满足新制程对于空气的高品质要求,而所述供气单元与所述吸气口组彼此间隔的间接供气设计的好处则在于,当所述供气设备停机时,所述进气单元仍可直接吸入所述设置空间中的空气。
附图说明
[0013]本技术其他的特征及功效,将于参照附图的实施方式中清楚地呈现,其中:
[0014]图1是一个不完整的立体图,说明一个现有的制程设备;
[0015]图2是一个不完整的立体图,说明本技术间接供气的制程系统的一个实施例;
[0016]图3是一个不完整且部分分解的立体分解图,说明所述实施例的一支撑单元与一供气单元相对于一设备腔体的相对关系;
[0017]图4是一个不完整且部分分解的立体分解图,说明所述供气单元的一供气组与所述支撑单元的一支撑架的相对关系;及
[0018]图5是一个不完整的且部分剖切的剖视图,说明所述供气单元的一吹气口与一进气单元的一吸气口的相对关系。
具体实施方式
[0019]参阅图2至4,本技术间接供气的制程系统的一个实施例,适用于实施一个半导体相关制程,并适用搭配一设置空间21(见图2)与一供气空间22(见图2)使用。
[0020]所述设置空间21在本实施例中具体来说为一无尘室/无尘厂房的内部空间。所述供气空间22,在本实施例中为一独立于所述设置空间21而不与所述设置空间21连通的空间,具体来说是一在地面下并位于所述设置空间21下方的地下空间。
[0021]本实施例包含一个设置在所述设置空间21中的制程设备3,以及一个主要设置在所述供气空间22中并延伸至所述制程设备3顶端的供气设备4。
[0022]所述制程设备3包括一个外形概呈长方体的设备腔体31,以及一个装设在所述设备腔体31上的进气单元32。
[0023]所述设备腔体31围绕界定出一位于所述设备腔体31中的制程空间311(见图5)。于所述制程空间311中,适用于实施前述的半导体相关制程。
[0024]所述进气单元32包括多个装设在所述设备腔体31顶端的吸气组33。每一吸气组33为一嵌设在所述设备腔体31顶端的风机过滤机组(Fan Filter Unit,FFU),并包括至少一个直接连通所述设置空间21的吸气口331。具体来说,其中四个所述吸气组33呈方形,并分别具有一个吸气口331。其中一个所述吸气组33呈长方形,并具有两两一组的四个吸气口331。所述吸气口331相配合构成一吸气口组330。由于兼具抽气与过滤效果的风机过滤机组的结构为公知常识,故在此省略每一吸气组33的详细说明。
[0025]所述供气设备4包括一个设置在所述供气空间22中并间隔地位于所述设备腔体31下方的风机单元41、一个架设在所述设备腔体31上的支撑单元42、一个设置在所述支撑单
元42上的供气单元43,以及一个能将气体由所述风机单元41输送至所述供气单元43的输送单元44。
[0026]所述风机单元41能自所述供气空间22中抽入气体,并具有能过滤所述气体中的酸碱物质、挥发性有机物(Volatile Organic Compounds,VOCs)及尘粒(Particles)的功能,且能调整所述气体的温度与湿度,并能在过滤所述气体及调整所述气体的温湿度后,形成吹入所述输送单元44并往所述供气单元43流动的风。由于所述风机单元41如何具备前述过滤功能及调整温湿度的功能为公知常识,故在此省略有关所述风机单元41具体结构的详细说明。
[0027]所述支撑单元42包括多个架设在所述设备腔体31顶端的支撑架421。所述支撑架421用于相配合将所述供气单元43间隔地撑立在所述设备腔体31的顶端。
[0028]参阅图3至5,所述供气单元43包括多个设置在所述支撑架421上的供气组431。每一供气组431间隔地位于各自对应的一个吸气组33本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种间接供气的制程系统,适用于搭配设置空间,并包含设置在所述设置空间中的制程设备,所述制程设备包括围绕界定出制程空间的设备腔体,以及装设在所述设备腔体上的进气单元,所述进气单元包括直接连通所述设置空间的吸气口组,其特征在于:所述间接供气的制程系统还包含供气设备,所述供气设备包括与所述设备腔体相间隔的风机单元、架设在所述设备腔体上的支撑单元、设置在所述支撑单元上而与所述吸气口组相间隔的供气单元,以及能将气体由所述风机单元输送至所述供气单元的输送单元,所述供气单元能将来自所述风机单元的气体,经由所述设置空间吹向所述吸气口组而被所述吸气口组吸入所述制程空间中,且所述供气单元的吹气量,大于所述吸气口组的吸气量。2.根据权利要求1所述的间接供气的制程系统,其特征在于:所述进气单元包括多个装设在所述制程设备顶端的吸气组,每一所述吸气组包括至少一个吸气口,所述吸气口构成所述吸气口组,所述供气单元包括多个设置在所述支撑单元上的供气组,每一所述供气组间隔地位于所述吸气口的其中一个或其中数...

【专利技术属性】
技术研发人员:林彦伯
申请(专利权)人:科斯迈股份有限公司
类型:新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1