【技术实现步骤摘要】
间接供气的制程系统
[0001]本技术涉及一种适用于半导体制程的硬体设备,特别是涉及一种间接供气的制程系统。
技术介绍
[0002]参阅图1,一种现有的制程设备,适用于架设在一无尘室10中,并包括一个设备腔体11,以及多个装设在所述设备腔体11顶端的风机过滤机组12(Fan Filter Unit,FFU)。
[0003]所述设备腔体11适用于在其中实施一个半导体制程。所述风机过滤机组12则能够吸入所述无尘室10中的气体,加以过滤后送入所述设备腔体11中。
[0004]随着半导体制程技术的精进,对于送入所述设备腔体11中的气体品质的要求越来越高,现有的风机过滤机组12已逐渐有无法满足气体品质要求的趋势,有待改善。
技术实现思路
[0005]本技术的目的在于:提供一种能够改善先前技术的至少一个缺点的间接供气的制程系统。
[0006]本技术间接供气的制程系统,适用于搭配设置空间,并包含设置在所述设置空间中的制程设备,所述制程设备包括围绕界定出制程空间的设备腔体,以及装设在所述设备腔体上的进 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种间接供气的制程系统,适用于搭配设置空间,并包含设置在所述设置空间中的制程设备,所述制程设备包括围绕界定出制程空间的设备腔体,以及装设在所述设备腔体上的进气单元,所述进气单元包括直接连通所述设置空间的吸气口组,其特征在于:所述间接供气的制程系统还包含供气设备,所述供气设备包括与所述设备腔体相间隔的风机单元、架设在所述设备腔体上的支撑单元、设置在所述支撑单元上而与所述吸气口组相间隔的供气单元,以及能将气体由所述风机单元输送至所述供气单元的输送单元,所述供气单元能将来自所述风机单元的气体,经由所述设置空间吹向所述吸气口组而被所述吸气口组吸入所述制程空间中,且所述供气单元的吹气量,大于所述吸气口组的吸气量。2.根据权利要求1所述的间接供气的制程系统,其特征在于:所述进气单元包括多个装设在所述制程设备顶端的吸气组,每一所述吸气组包括至少一个吸气口,所述吸气口构成所述吸气口组,所述供气单元包括多个设置在所述支撑单元上的供气组,每一所述供气组间隔地位于所述吸气口的其中一个或其中数...
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