一种5G半导体晶圆加工用废水处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于半导体晶圆加工技术领域，且公开了一种5G半导体晶圆加工用废水处理装置，包括工作台，所述工作台的上壁面安装有支撑结构，所述工作台的上壁面安装有过滤结构，所述支撑结构的上壁面安装有循环结构，所述支撑结构的上壁面安装有导向结构，本实用新型专利技术通过三个过滤网依次过滤，将废水中杂质剔除，使废水再次使用，实现加工处理相结合，节约水资源，解决了半导体晶圆加工时会大量的浪费水资源的问题，本实用新型专利技术是完全的机械结构，这样的机械结构是十分的耐用的，并且故障率也是很低的，另外从制造的角度去思考，本实用新型专利技术由于采用单纯的机械结构，所以制造成本也是很低下的，且拆装简单快速。且拆装简单快速。且拆装简单快速。

【技术实现步骤摘要】
一种5G半导体晶圆加工用废水处理装置


[0001]本技术属于半导体晶圆加工
，具体涉及一种5G半导体晶圆加工用废水处理装置。

技术介绍

[0002]半导体晶圆加工是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，其原始材料是硅，高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种，然后慢慢拉出，形成圆柱形的单晶硅，硅晶棒在经过研磨，抛光，切片后，形成硅晶圆片，也就是晶圆，国内晶圆生产线以8英寸和12英寸为主，晶圆的主要加工方式为片加工和批加工，即同时加工1片或多片晶圆。
[0003]然而，现有的半导体晶圆加工设备一般是把加工废水收集在一起，最后统一过滤在加以利用，这样在加工时会大量的使用水资源，造成水资源浪费现象，因此，亟需一种5G半导体晶圆加工用废水处理装置来解决上述问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种5G半导体晶圆加工用废水处理装置，以解决上述
技术介绍
中提出的现有的半导体晶圆加工设备一般是把加工废水收集在一起，最后统一过滤在加以利用，这样在加工时会大量的使用水资源，造成水资源浪费现象的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种5G半导体晶圆加工用废水处理装置，包括工作台,所述工作台的上壁面安装有支撑结构，所述工作台的上壁面安装有过滤结构，所述支撑结构的上壁面安装有循环结构，所述支撑结构的上壁面安装有导向结构。
[0006]优选的，所述支撑结构包括：固定架、支撑架、两个固定肋板以及承重柱；所述固定架安装在工作台的上壁面，所述支撑架安装在固定架的上壁面，两个所述固定肋板分别安装在工作台的上壁面，所述承重柱安装在工作台的上壁面。
[0007]优选地，所述过滤结构包括：过滤箱、三个过滤架、三个过滤网、三个滤网扶手、两个滤箱扶手以及两个定位销；所述过滤箱开设有三个滑槽以及两个定位销孔，且安装在工作台的上壁面，三个所述过滤架分别开设有两个销孔，且安装在过滤箱开设的三个滑槽内，三个所述过滤网分别安装在三个过滤架的内壁面，三个所述滤网扶手分别安装在三个过滤架的前壁面，两个所述滤箱扶手分别安装在过滤箱的两侧面，两个所述定位销分别插在过滤箱以及三个过滤架开设的销孔内。
[0008]优选地，所述导向结构包括：吸水泵组以及两个导向管；所述吸水泵组安装在支撑架的上壁面，两个所述导向管分别安装在吸水泵组的内壁面。
[0009]优选地，所述循环结构包括：蓄水箱、蓄水箱盖、第一水位探测器、第二水位探测器以及箱盖把手；所述蓄水箱安装在支撑架的上壁面，所述蓄水箱盖安装在蓄水箱的上壁面，所述第一水位探测器安装在蓄水箱的内壁面，所述第二水位探测器安装在蓄水箱的内壁面，所述箱盖把手安装在蓄水箱盖的上壁面。
[0010]优选地，所述工作台的四周开设有圆角。
[0011]优选地，三个所述过滤网中，最上层为粗网，下面两个是细网。
[0012]优选地，所述蓄水箱的内壁面采用弧形连接。
[0013]与现有技术相比，本技术的有益效果是：本技术一种5G半导体晶圆加工用废水处理装置。
[0014]本技术通过三个过滤网依次过滤，将废水中杂质剔除，使废水再次使用，实现加工处理相结合，节约水资源，解决了半导体晶圆加工时会大量的浪费水资源的问题。
[0015]本技术是完全的机械结构，这样的机械结构是十分的耐用的，并且故障率也是很低的，另外从制造的角度去思考，本技术由于采用单纯的机械结构，所以制造成本也是很低下的，且拆装简单快速。
附图说明
[0016]图1为本技术提出的整体结构示意图；
[0017]图2为本技术提出的支撑结构示意图；
[0018]图3为本技术提出的过滤结构示意图；
[0019]图4为本技术提出的导向结构示意图；
[0020]图5为本技术提出的循环结构示意图。
[0021]图中：1、工作台；2、固定架；3、支撑架；4、固定肋板；5、承重柱；6、过滤箱；7、过滤架；8、过滤网；9、滤网扶手；10、滤箱扶手；11、定位销；12、吸水泵组；13、导向管；14、蓄水箱；15、蓄水箱盖；16、第一水位探测器；17、第二水位探测器；18、箱盖把手。
具体实施方式
[0022]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0023]请参阅图1
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5所示，本技术提供一种技术方案：
[0024]一种5G半导体晶圆加工用废水处理装置，包括一种5G半导体晶圆加工用废水处理装置，包括工作台1,工作台1的上壁面安装有支撑结构，工作台1的上壁面安装有过滤结构，支撑结构的上壁面安装有循环结构，支撑结构的上壁面安装有导向结构。
[0025]为了利用水位差使废水二次利用更加方便，本实施例中，优选的，支撑结构包括：固定架2、支撑架3、两个固定肋板4以及承重柱5；固定架2安装在工作台1的上壁面，支撑架3安装在固定架2的上壁面，两个固定肋板4分别安装在工作台1的上壁面，承重柱5安装在工作台1的上壁面，使用时，固定架2用于支撑支撑架3，两个固定肋板4使固定架2更加稳定，承重柱5防止支撑架3受到压力发生形变，支撑架3用于支撑导向结构以及循环结构。
[0026]为了将废水中的大颗粒杂质去除，本实施例中，优选的，过滤结构包括：过滤箱6、三个过滤架7、三个过滤网8、三个滤网扶手9、两个滤箱扶手10以及两个定位销11；过滤箱6开设有三个滑槽以及两个定位销孔，且安装在工作台1的上壁面，三个过滤架7分别开设有两个销孔，且安装在过滤箱6开设的三个滑槽内，三个过滤网8分别安装在三个过滤架7的内
壁面，三个滤网扶手9分别安装在三个过滤架7的前壁面，两个滤箱扶手10分别安装在过滤箱6的两侧面，两个定位销11分别插在过滤箱6以及三个过滤架7开设的销孔内，使用时，操作人员通过用手握住滤网扶手9，向外用力，滤网扶手9带动过滤架7沿过滤箱6开设的滑槽移动，过滤架7带动过滤网8移动，当过滤架7从过滤箱6中滑出时，操作人员松开滤网扶手9，双手握住过滤架7将其从过滤箱6中抽出，以便更换。
[0027]为了将过滤箱6中过滤后的废水重新利用，本实施例中，优选的，导向结构包括：吸水泵组12以及两个导向管13；吸水泵组12安装在支撑架3的上壁面，两个导向管13分别安装在吸水泵组12的内壁面，使用时，吸水泵组12通过导向管13将过滤箱6中过滤后的废水吸到循环结构中。
[0028]为了控制吸水泵组12，本实施例中，优选的，循环结构包括：蓄水箱14、蓄水箱盖15、第一水位探测器16、第二水位探测器17以及箱盖把手18；蓄水箱14安装在支撑架3的上壁面，蓄水箱盖15安装在蓄水箱14的上壁面，第一水位探测器16安装在蓄水箱14的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种5G半导体晶圆加工用废水处理装置，包括工作台,其特征在于，所述工作台的上壁面安装有支撑结构，所述工作台的上壁面安装有过滤结构，所述支撑结构的上壁面安装有循环结构，所述支撑结构的上壁面安装有导向结构。2.根据权利要求1所述的一种5G半导体晶圆加工用废水处理装置，其特征在于，所述支撑结构包括：固定架、支撑架、两个固定肋板以及承重柱；所述固定架安装在工作台的上壁面，所述支撑架安装在固定架的上壁面，两个所述固定肋板分别安装在工作台的上壁面，所述承重柱安装在工作台的上壁面。3.根据权利要求1所述的一种5G半导体晶圆加工用废水处理装置，其特征在于，所述过滤结构包括：过滤箱、三个过滤架、三个过滤网、三个滤网扶手、两个滤箱扶手以及两个定位销；所述过滤箱开设有三个滑槽以及两个定位销孔，且安装在工作台的上壁面，三个所述过滤架分别开设有两个销孔，且安装在过滤箱开设的三个滑槽内，三个所述过滤网分别安装在三个过滤架的内壁面，三个所述滤网扶手分别安装在三个过滤架的前壁面，两个所述滤箱扶手分别安装在过滤箱的两侧面，两个所述定...

【专利技术属性】
技术研发人员：王晨，
申请(专利权)人：九江市华谷电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：