等离子清洁装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种等离子清洁装置，其包括机架、进料通道、传送通道、等离子清洁组件、超声波清洁组件及真空收集组件，所述进料通道和所述传送通道前后相邻的布置在所述机架上，所述等离子清洁组件布置于所述传送通道入口处，并且设有位于所述进料通道前后两侧的出气口；所述超声波清洁组件位于所述等离子清洁组件的后方；所述真空收集组件固定于所述机架，并且位于所述传送通道的下方，产品通过传送通道的过程中，先后利用等离子气体和超声波消除掉产品外部和孔壁不需要的物质，实现产品的洁净度，达到高效且全面的清洁，具有较高的应用价值。价值。价值。

【技术实现步骤摘要】
等离子清洁装置


[0001]本技术涉及一种清洁装置，尤其涉及一种等离子清洁装置。

技术介绍

[0002]等离子清洁设备或等离子清洁装置是利用等离子体来达到常规清洁方法无法达到的效果，可以消除和脱离零部件表面静电、粉尘、塑胶颗粒、金属颗粒或毛刺、以及零件本身原料颗粒。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态，等离子体的“活性”组分包括：等离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素、光子等。等离子清洁就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供了一种高效清洁的等离子清洁装置。
[0004]为实现前述目的，本技术采用如下技术方案：一种等离子清洁装置，其包括机架、进料通道、传送通道、等离子清洁组件、超声波清洁组件及真空收集组件，所述进料通道和所述传送通道前后相邻的布置在所述机架上，所述等离子清洁组件布置于所述传送通道入口处，并且设有位于所述进料通道前后两侧的出气口，用于朝向即将进入所述传送通道的产品喷出等离子气体；所述超声波清洁组件位于所述等离子清洁组件的后方，用于对所述产品喷出超声波；所述真空收集组件固定于所述机架，并且位于所述传送通道的下方，与所述等离子清洁组件、超声波清洁组件上下对齐。
[0005]进一步的改进，所述传送通道设置为前后贯通的方形管状结构，其包括相互连接的顶壁、底壁和前后两侧壁，所述底壁设有通孔。
[0006]进一步的改进，所述机架包括水平台、前后间隔排列的若干直立式支撑板及若干支撑脚，所述水平台设有上下贯穿的开口，所述真空收集组件设有与所述开口上下对齐的空腔，所述支撑板支撑于所述水平台和所述传送通道之间，所述支撑脚的上端与所述水平台固定，下端用于支撑于地面上。
[0007]进一步的改进，所述支撑板上端凹设有卡口，所述传送通道和所述卡口卡接固定。
[0008]进一步的改进，所述进料通道包括呈U形的倾斜导轨和垫高架，所述倾斜导轨的前端抵靠于所述水平台，后端被所述垫高架支撑并垫高，位于所述水平台的上方，所述垫高架的上端与所述导轨的后端固定，下端支撑固定于所述水平台。
[0009]进一步的改进，还包括侦测件，所述机架包括位于所述传送通道后方的直立式固定板，所述固定板下端固定于所述水平台，所述固定板设有固定孔，所述侦测件穿设固定于所述固定孔，并且向前伸入所述传送通道中。
[0010]进一步的改进，还包括遮蔽罩，所述遮蔽罩遮盖于所述进料通道和所述传送通道的外侧，所述进料通道的前端和所述传送通道的后端伸出所述遮蔽罩。
[0011]本技术等离子清洁装置的等离子清洁组件布置于所述传送通道前方，并且设有位于所述进料通道前后两侧的出气口，用于朝向即将进入所述传送通道的产品喷出等离
子气体；所述超声波清洁组件位于所述等离子清洁组件的后方，用于对所述产品喷出超声波；所述真空收集组件固定于所述机架，并且位于所述传送通道的下方，与所述等离子清洁组件、超声波清洁组件上下对齐，产品通过传送通道的过程中，先后利用等离子气体和超声波消除掉产品外部和孔壁不需要的物质，实现产品的洁净度，达到高效且全面的清洁，具有较高的应用价值。
附图说明
[0012]图1为本技术等离子清洁装置的立体图；
[0013]图2为本技术等离子清洁装置另一角度的立体分解图；
[0014]图3为本技术等离子清洁装置的立体分解图；
[0015]图4为图3圆圈内的放大图；
[0016]图5为本技术等离子清洁装置另一角度的立体分解图。
具体实施方式
[0017]请参阅图1至图5所示，本技术实施方式公开一种等离子清洁装置100，用于清洁产品200外部和孔壁内部，其包括机架10、进料通道20、传送通道30、等离子清洁组件40、超声波清洁组件50、真空收集组件60、侦测件70及遮蔽罩80。
[0018]机架10包括水平台11、前后间隔排列的若干支撑板12、固定板13及若干支撑脚14，水平台11设有上下贯穿的开口110，该开口110和真空收集组件50上下对齐。支撑板12和固定板13设置为直立式，固定板13位于支撑板12的后方。支撑板12的下端固定于水平台11上表面，上端凹设有卡口120。固定板13设有固定孔130，用于固定侦测件70。支撑脚14上端与水平台11固定，下端用于支撑于地面上。
[0019]进料通道20包括呈U形的倾斜导轨21和垫高架22，倾斜导轨21的前端抵靠于水平台11上，后端被垫高架22支撑并垫高，位于水平台11的上方，垫高架22的上端与导轨21的后端固定，下端支撑固定于水平台11上。
[0020]传送通道30位于进料通道20后方，两者相邻布置，产品200可顺利的从进料通道20进入传送通道30中。传送通道30与支撑板12的凹口120卡接固定。传送通道30设置未前后贯通的方形管状结构，其包括相互连接的顶壁31、底壁32和前后两侧壁33，底壁32设有与真空收集组件50上下对齐的通孔(未图示)。
[0021]等离子清洁组件40位于传送通道30入口处，设有前后对齐的两个出气口42，出气口42位于传送通道30的前后两侧，用于朝向即将进入传送通道30的产品200喷出等离子气体，对产品200表面剥离静电、污渍、颗粒、灰尘等物质。
[0022]超声波清洁组件50位于等离子清洁组件40后方，通过超声波对产品200进行冲击，再一次对产品200进行清洁。
[0023]真空收集组件60固定于水平台11底面，并且与等离子清洁组件40和超声波清洁组件50上下对齐，用于收集从产品200上脱离的污渍、颗粒、灰尘等物质。真空收集组件60顶部设有与与机架10的开口110、传送通道30的通孔上下对齐的空腔62，用于容纳污渍、颗粒、灰尘等物质。
[0024]侦测件70位于传送通道30的后方，穿设固定于固定板13的固定孔130中，并且向前
伸入传送通道30内，用于侦测产品200在传送通道30移动至最终位置。
[0025]遮蔽罩80遮盖于进料通道20和传送通道30的外侧，进料通道20的前端向前伸出遮蔽罩80，后端伸入遮蔽罩80内，传送通道30后端伸出遮蔽罩80，便于从传送通道30中取出经过清洁的产品200。
[0026]本技术等离子清洁装置100设置传送通道30让产品200通过，产品200通过的过程中，先后利用等离子气体和超声波消除掉产品200外部和孔壁不需要的物质，实现产品的洁净度，达到高效且全面的清洁，具有较高的应用价值。
[0027]尽管为示例目的，已经公开了本技术的优选实施方式，但是本领域的普通技术人员将意识到，在不脱离由所附的权利要求书公开的本技术的范围和精神的情况下，各种改进、增加以及取代是可能的。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子清洁装置，其包括机架、进料通道、传送通道、等离子清洁组件、超声波清洁组件及真空收集组件，所述进料通道和所述传送通道前后相邻的布置在所述机架上，其特征在于：所述等离子清洁组件布置于所述传送通道入口处，并且设有位于所述进料通道前后两侧的出气口，用于朝向即将进入所述传送通道的产品喷出等离子气体；所述超声波清洁组件位于所述等离子清洁组件的后方，用于对所述产品喷出超声波；所述真空收集组件固定于所述机架，并且位于所述传送通道的下方，与所述等离子清洁组件、超声波清洁组件上下对齐。2.根据权利要求1所述的等离子清洁装置，其特征在于：所述传送通道设置为前后贯通的方形管状结构，其包括相互连接的顶壁、底壁和前后两侧壁，所述底壁设有通孔。3.根据权利要求1所述的等离子清洁装置，其特征在于：所述机架包括水平台、前后间隔排列的若干直立式支撑板及若干支撑脚，所述水平台设有上下贯穿的开口，所述真空收集组件设有与所述开口上下对齐的空腔，所述支撑板支撑于所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：翟笃伟，卢宜红，官富阳，
申请(专利权)人：苏州中兴联精密工业有限公司，
类型：新型
国别省市：