本实用新型专利技术公开了一种刻蚀设备用电极检测装置，包括控制箱体，所述控制箱体的顶部左右两侧均固定设置有承载侧板，每个所述承载侧板的内部均螺纹贯穿有丝杆，两个所述丝杆相互靠近的一端均转动设置有限位框组件，两个所述限位框组件相互远离的一端上下部均转动设置有导向柱，本实用新型专利技术涉及电极检测技术领域。该刻蚀设备用电极检测装置，通过限位框、衔接顶杆、压接块以及弹簧之间的相互配合，可以快速更换磨损的检测触头，避免整个装置更换掉，降低成本，保证检测的精度，通过丝杆、限位框组件以及限位框之间的相互配合，可以灵活调节两个检测触头之间的距离，便于对不同长度的刻蚀设备进行电极检测，适用范围更广。适用范围更广。适用范围更广。
【技术实现步骤摘要】
一种刻蚀设备用电极检测装置
[0001]本技术涉及电极检测
，具体为一种刻蚀设备用电极检测装置。
技术介绍
[0002]刻蚀设备的发展和光刻技术，互连技术密切相关。High K/Low K材料，铜互连，Metal Gate，double Pattern等技术的发展都对刻蚀设备提出了新的需求。在200mm晶圆时代；介质、多晶以及金属刻蚀是刻蚀设备的三大块。进入300mm时代以后，随着铜互连的发展，金属刻蚀逐渐萎缩，介质刻蚀份额逐渐加大。介质刻蚀设备的份额已经超过50％以上。而且随着器件互连层数增多，介质刻蚀设备使用量就越大。200mm时代介质刻蚀市场份额依次为TEL、AMAT、Lam。而Poly刻蚀市场份额依次为Lam、AMAT。进入300mm时代以来，Lam由于其简单的设计、较低的设备成本，逐渐在65nm、45nm设备市场超过TEL，占据了大半市场。而AMAT在刻蚀设备市场逐渐萎缩，现在市场份额小于10％。LAM Research300mm设备Lam 2300系列产品，有Versys(Poly)，Exelan Flex(Die)等。TEL 300mm设备有SCCM、Telius等。
[0003]现有的刻蚀设备用电极检测装置，需要利用检测触头对刻蚀设备进行检测，当检测较为频繁次数过多时，检测触头的表面会受到磨损，影响正常的检测效果，降低检测精度，无法直接更换损坏的检测触头，还需换掉整个装置，成本较高。
技术实现思路
[0004](一)解决的技术问题
[0005]针对现有技术的不足，本技术提供了一种刻蚀设备用电极检测装置，解决了利用检测触头对刻蚀设备进行检测，当检测较为频繁次数过多时，检测触头的表面会受到磨损，影响正常的检测效果，降低检测精度，无法直接更换损坏的检测触头，还需换掉整个装置，成本较高的问题。
[0006](二)技术方案
[0007]为实现以上目的，本技术通过以下技术方案予以实现：一种刻蚀设备用电极检测装置，包括控制箱体，所述控制箱体的顶部左右两侧均固定设置有承载侧板，每个所述承载侧板的内部均螺纹贯穿有丝杆，两个所述丝杆相互靠近的一端均转动设置有限位框组件，两个所述限位框组件相互远离的一端上下部均转动设置有导向柱，所述限位框组件包括限位框，所述限位框的上下端均贯穿连接有衔接顶杆，两个所述衔接顶杆相互靠近的一端均固定设置有压接块，两个所述衔接顶杆相互远离的一端均固定设置有拉块，所述衔接顶杆的外部套设有弹簧，两个所述压接块之间设置有检测触头。
[0008]优选的，所述控制箱体的顶部中间设置有刻蚀设备。
[0009]优选的，四个所述导向柱相互远离的一端均贯穿相邻承载侧板。
[0010]优选的，所述导向柱滑动在承载侧板的内部。
[0011]优选的，所述弹簧固定连接在限位框与拉块之间。
[0012]优选的，所述检测触头与刻蚀设备的一侧相接触，所述控制箱体的前端固定设置
有控制面板。
[0013](三)有益效果
[0014]本技术提供了一种刻蚀设备用电极检测装置。与现有技术相比，具备以下有益效果：
[0015](1)、一种刻蚀设备用电极检测装置，通过限位框的上下端均贯穿连接有衔接顶杆，两个衔接顶杆相互靠近的一端均固定设置有压接块，两个衔接顶杆相互远离的一端均固定设置有拉块，衔接顶杆的外部套设有弹簧，两个压接块之间设置有检测触头，通过限位框、衔接顶杆、压接块以及弹簧之间的相互配合，可以快速更换磨损的检测触头，避免整个装置更换掉，降低成本，保证检测的精度。
[0016](2)、一种刻蚀设备用电极检测装置，通过控制箱体的顶部左右两侧均固定设置有承载侧板，每个承载侧板的内部均螺纹贯穿有丝杆，两个丝杆相互靠近的一端均转动设置有限位框组件，两个限位框组件相互远离的一端上下部均转动设置有导向柱，限位框组件包括限位框，通过丝杆、限位框组件以及限位框之间的相互配合，可以灵活调节两个检测触头之间的距离，便于对不同长度的刻蚀设备进行电极检测，适用范围更广。
附图说明
[0017]图1为本技术的主视图；
[0018]图2为本技术的剖面图；
[0019]图3为本技术图2中A处的局部放大图。
[0020]图中，1、控制箱体；2、承载侧板；3、刻蚀设备；4、丝杆；5、限位框组件；51、限位框；52、衔接顶杆；53、压接块；54、拉块；55、弹簧；6、导向柱；7、检测触头；8、控制面板。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图和附表，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0022]请参阅图1
‑
3，本技术提供一种技术方案：一种刻蚀设备用电极检测装置，包括控制箱体1，控制箱体1的顶部左右两侧均固定设置有承载侧板2，每个承载侧板2的内部均螺纹贯穿有丝杆4，两个丝杆4相互靠近的一端均转动设置有限位框组件5，两个限位框组件5相互远离的一端上下部均转动设置有导向柱6，限位框组件5包括限位框51，限位框51的上下端均贯穿连接有衔接顶杆52，两个衔接顶杆52相互靠近的一端均固定设置有压接块53，两个衔接顶杆52相互远离的一端均固定设置有拉块54，衔接顶杆52的外部套设有弹簧55，两个压接块53之间设置有检测触头7，通过限位框51、衔接顶杆52、压接块53以及弹簧55之间的相互配合，可以快速更换磨损的检测触头7，避免整个装置更换掉，降低成本，保证检测的精度，控制箱体1的顶部中间设置有刻蚀设备3，四个导向柱6相互远离的一端均贯穿相邻承载侧板2，导向柱6滑动在承载侧板2的内部，弹簧55固定连接在限位框51与拉块54之间，检测触头7与刻蚀设备3的一侧相接触，控制箱体1的前端固定设置有控制面板8，通过丝杆4、限位框组件5以及限位框51之间的相互配合，可以灵活调节两个检测触头7之间的距
离，便于对不同长度的刻蚀设备3进行电极检测，适用范围更广。
[0023]同时本说明书中未作详细描述的内容均属于本领域技术人员公知的现有技术。
[0024]工作时，将刻蚀设备3先放置在控制箱体1的顶部中间位置，然后转动丝杆4，会推动限位框组件5向靠近刻蚀设备3的一侧移动，过程中导向柱6沿着承载侧板2的内部滑动，使限位框组件5水平移动，将检测触头7向刻蚀设备3的侧边推动，当两个检测触头7分别与刻蚀设备3的左右两侧位置接触时，即可操作控制面板8对刻蚀设备3进行电极检测，当检测触头7经常被使用，与刻蚀设备3出现磨损后，可将拉块54向远离限位框51的一端拉动，使两个压接块53相互远离，解除对检测触头7的锁定，将其更换掉，换成新的检测触头7再次放置在两个压接块53之间进行夹固即可。
[0025]需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种刻蚀设备用电极检测装置，包括控制箱体(1)，其特征在于：所述控制箱体(1)的顶部左右两侧均固定设置有承载侧板(2)，每个所述承载侧板(2)的内部均螺纹贯穿有丝杆(4)，两个所述丝杆(4)相互靠近的一端均转动设置有限位框组件(5)，两个所述限位框组件(5)相互远离的一端上下部均转动设置有导向柱(6)，所述限位框组件(5)包括限位框(51)，所述限位框(51)的上下端均贯穿连接有衔接顶杆(52)，两个所述衔接顶杆(52)相互靠近的一端均固定设置有压接块(53)，两个所述衔接顶杆(52)相互远离的一端均固定设置有拉块(54)，所述衔接顶杆(52)的外部套设有弹簧(55)，两个所述压接块(53)之间设置有检测触头(7)。2.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员：盛宏，
申请(专利权)人：苏州利尔威半导体技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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