本发明专利技术的负离子生成装置是生成负离子并照射到对象物的负离子生成装置，其具备：腔室，在内部进行负离子的生成；负离子生成部，通过在腔室内生成等离子体来生成负离子；以及电压施加部，能够对对象物施加偏压，电压施加部具有能够施加高频的电压信号的电源。有能够施加高频的电压信号的电源。有能够施加高频的电压信号的电源。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】负离子生成装置及负离子生成方法
[0001]本专利技术涉及一种负离子生成装置及负离子生成方法。
技术介绍
[0002]以往，作为负离子生成装置，已知有专利文献1中记载的负离子生成装置。该负离子生成装置具备：气体供给部，向腔室内供给成为负离子的原料的气体；以及负离子生成部，在腔室内通过生成等离子体来生成负离子。负离子生成部通过等离子体在腔室内生成负离子，由此将该负离子照射到对象物。
[0003]以往技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2017
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025407号公报
技术实现思路
[0006]专利技术要解决的技术课题
[0007]在此，在如上述那样的负离子生成装置中，有时将绝缘物作为对象物照射负离子。此时，存在负离子生成装置不能够对绝缘物充分地照射负离子的问题。因此，要求即使在对象物为绝缘物的情况下，也不依赖于对象物而良好地照射负离子。
[0008]因此，本专利技术的一方式的目的在于，提供一种能够不依赖于对象物而良好地照射负离子的负离子生成装置及负离子生成方法。
[0009]用于解决技术课题的手段
[0010]为了解决上述课题，本专利技术的一方式的负离子生成装置是生成负离子并照射到对象物的负离子生成装置，其具备：腔室，在内部进行负离子的生成；负离子生成部，通过在腔室内生成等离子体来生成负离子；以及电压施加部，能够对对象物施加偏压，电压施加部具有能够施加高频的电压信号的电源。
[0011]本专利技术的一方式所涉及的负离子生成装置具备能够对对象物施加偏压的电压施加部。因此，在负离子生成部生成负离子的时刻，电压施加部对对象物施加偏压，由此负离子照射到对象物。其中，电压施加部具有能够施加高频的电压信号的电源。因此，电压施加部通过施加高频的电压信号，也使电流持续地流过绝缘物，从而能够照射负离子。由此，能够不依赖于对象物而良好地照射负离子。
[0012]电源可以叠加高频的电压信号和直流的电压信号。此时，电压施加部能够仅将负离子照射到对象物。
[0013]电源可以具有调整直流的电压信号的调整机构。由此，电压施加部例如在照射正离子和负离子这两者时等，叠加基于调整机构的直流的电压信号，能够调整正离子的量。
[0014]本专利技术的一方式所涉及的负离子生成装置是生成负离子并照射到对象物的负离子生成装置，其具备：腔室，在内部进行负离子的生成；负离子生成部，通过在腔室内生成等离子体来生成负离子；以及电压施加部，能够对对象物施加偏压，电压施加部具有配置部，
该配置部用于配置能够施加高频的电压信号的电源。
[0015]本专利技术的一方式所涉及的负离子生成方法是生成负离子并照射到对象物的负离子生成方法，其包括：负离子生成步骤，通过在腔室内生成等离子体来生成负离子；以及电压施加步骤，对对象物施加偏压，在电压施加步骤中，将高频的电压信号施加到对象物。
[0016]根据这些负离子生成装置及负离子生成方法，能够得到与上述负离子生成装置相同的作用/效果。
[0017]专利技术效果
[0018]根据本专利技术的一方式，能够提供一种能够不依赖于对象物而良好地照射负离子的负离子生成装置及负离子生成方法。
附图说明
[0019]图1是表示本实施方式所涉及的负离子生成装置的结构的概略剖视图。
[0020]图2是表示等离子体P的接通(ON)/断开(OFF)的时刻和正离子及负离子向对象物的飞来状况的曲线图。
[0021]图3是表示负离子生成装置的电压施加部的详细的结构的图。
[0022]图4是表示本实施方式所涉及的负离子生成装置的电压施加部施加偏压时的电压及电流的波形的曲线图。
[0023]图5是表示比较例所涉及的负离子生成装置的电压施加部施加偏压时的电压及电流的波形的曲线图。
具体实施方式
[0024]以下，参考附图对本专利技术的一实施方式所涉及的负离子生成装置进行说明。另外，在附图的说明中对相同的要件标注相同的符号，并省略重复说明。
[0025]首先，参考图1对本专利技术的实施方式所涉及的负离子生成装置的结构进行说明。图1是表示本实施方式所涉及的负离子生成装置的结构的概略剖视图。另外，为了方便说明，图1中示出XYZ坐标系。X轴方向为作为对象物的基板的厚度方向。Y轴方向及Z轴方向为与X轴方向正交的同时彼此正交的方向。
[0026]如图1所示，本实施方式的负离子生成装置1具备腔室2、对象物配置部3、负离子生成部4、气体供给部6、电路部7、电压施加部8及控制部50。
[0027]腔室2为用于容纳基板11(对象物)并进行负离子的照射处理的部件。腔室2是在内部进行负离子的生成的部件。腔室2由导电性的材料构成，并且与接地电位连接。
[0028]腔室2具备与X轴方向对置的一对壁部2a、2b、与Y轴方向对置的一对壁部2c、2d及与Z轴方向对置的一对壁部(未图示)。另外，在X轴方向的负侧配置有壁部2a，在正侧配置有壁部2b。在Y轴方向的负侧配置有壁部2c，在正侧配置有壁部2d。
[0029]对象物配置部3配置成为负离子的照射对象物的基板11。对象物配置部3设置于腔室2的壁部2a。对象物配置部3具备载置部件12和连接部件13。载置部件12及连接部件13由导电性的材料构成。载置部件12为用于在载置面12a上载置基板11的部件。载置部件12安装于壁部2a，且配置于腔室2的内部空间内。载置面12a为以与X轴方向正交的方式扩展的平面。由此，基板11以与X轴方向正交的方式，以与ZY平面平行的方式，载置于载置面12a上。连
接部件13为将载置部件12与电压施加部8电连接的部件。连接部件13贯穿壁部2a延伸至腔室2外。载置部件12及连接部件13与腔室2绝缘。
[0030]在本实施方式中，作为成为负离子照射的对象的基板11，采用绝缘物的材料。作为绝缘物的基板11，例如可举出玻璃基板、SiO2、SiON、AlN、Al2O3、Si3N4等精细陶瓷、加入了酚醛树脂、环氧树脂、聚酰亚胺树脂、特氟龙(Teflon)(注册商标)/氟树脂等树脂的基板、聚酰亚胺、PET等挠性基板的材料。
[0031]接着，对负离子生成部4的结构进行详细说明。负离子生成部4在腔室2内生成等离子体及电子，由此生成负离子及自由基等。负离子生成部4具有等离子枪14和阳极16。
[0032]等离子枪14例如为压力梯度型等离子枪，其主体部分设置于腔室2的壁部2c，与腔室2的内部空间连接。等离子枪14具有气体供给部(未图示)，供给Ar或He等稀有气体，生成等离子体。等离子枪14在腔室2内生成等离子体P。在等离子枪14中生成的等离子体P从等离子体口向腔室2的内部空间以射束状射出。由此，在腔室2的内部空间生成等离子体P。
[0033]阳极16为将来自等离子枪的等离子体P引导至所期望的位置的机构。阳极16为具有用于诱导等离子体P的电磁体的机构。阳极16设置于腔室的壁部2d，配置于与等离子枪14在Y轴方向本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种负离子生成装置，生成负离子并照射到对象物，其具备：腔室，在内部进行所述负离子的生成；负离子生成部，通过在所述腔室内生成等离子体来生成所述负离子；以及电压施加部，能够对所述对象物施加偏压，所述电压施加部具有能够施加高频的电压信号的电源。2.根据权利要求1所述的负离子生成装置，其中，所述电源叠加所述高频的电压信号和直流的电压信号。3.根据权利要求2所述的负离子生成装置，其中，所述电源具有调整所述直流的电压信号的调整机构。4.一种负离子生成装置，生成负离...
【专利技术属性】
技术研发人员：北见尚久，前原诚，木下公男，
申请(专利权)人：住友重机械工业株式会社，
类型：发明
国别省市：
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