基于图像处理的面料染色质量评估方法技术

技术编号:34496768 阅读:14 留言:0更新日期:2022-08-10 09:16
本发明专利技术涉及图像处理领域,具体涉及一种基于图像处理的面料染色质量评估方法,包括:获取面料表面HSV图及图中各像素点的饱和度;通过设计的统计核遍历HSV图,获取每次滑窗后的统计核;根据每次滑窗后的统计核内饱和度分布情况得到统计核中分布最均匀的饱和度范围;根据饱和度范围内各像素点的饱和度及各像素点在统计核内的位置,得到统计核内饱和度均值、临近差均值及临近差方差这三种特征;根据三种特征得到的三特征图构建HSV图的三维染色均匀共生矩阵;对三维染色均匀共生矩阵进行均匀熵计算,完成对面料染色质量的评估。上述方法用于评估面料染色质量,通过上述方法可有效降低色点缺陷对面料染色质量评估的干扰。色点缺陷对面料染色质量评估的干扰。色点缺陷对面料染色质量评估的干扰。

【技术实现步骤摘要】
基于图像处理的面料染色质量评估方法


[0001]本专利技术涉及图像处理领域,具体涉及一种基于图像处理的面料染色质量评估方法。

技术介绍

[0002]在面料染色的过程中,由于操作不当等原因可能会使得面料表面出现多种缺陷,影响面料的染色质量。其中,色点缺陷为主要缺陷之一,是由于在面料染色前进行的前处理工艺导致面料表面出现毛球等瑕疵,进一步在染色过程中将毛球也染上颜色而使面料表面出现色点,整体表现为面料表面颜色深浅不一,造成面料染色质量的下降。因此降低色点对面料染色质量评估造成的干扰尤为重要。
[0003]为了消除色点对面料染色质量评估的干扰,目前采用的技术主要是对面料的颜色饱和度进行阈值分割,分离出色点后再对面料进行质量评估。
[0004]然而现有的阈值分割方法依赖人工经验,同时由于色点的深浅颜色不一致,导致阈值的准确性下降,使得一些非色点区域被当作色点区域分离出去,从而影响对面料染色质量的准确评估。因此,亟需一种方法用于降低色点对面料染色质量评估的干扰,并提高染色质量评估的准确性。

技术实现思路

[0005]本专利技术提供了一种基于图像处理的面料染色质量评估方法,包括:获取面料表面HSV图及图中各像素点的饱和度;通过设计的统计核遍历HSV图,获取每次滑窗后的统计核;根据每次滑窗后的统计核内饱和度分布情况得到统计核中分布最均匀的饱和度范围;根据饱和度范围内各像素点的饱和度及各像素点在统计核内的位置,得到统计核内饱和度均值、临近差均值及临近差方差这三种特征;根据三种特征得到的三特征图构建HSV图的三维染色均匀共生矩阵;对三维染色均匀共生矩阵进行均匀熵计算,完成对面料染色质量的评估,相比于现有技术,结合计算机视觉与图像处理,利用设计的统计核对面料表面HSV图进行滑窗检测,得到每次滑窗的统计核,通过对每次滑窗的统计核进行饱和度分析,得到各滑窗统计核的染色三特征,进而得到面料表面HSV图的染色三特征图,根据染色三特征图构建了面料表面的三维染色均匀共生矩阵,本专利技术通过滑窗的方式进行小范围的面料表面染色特征提取,有效降低了色点缺陷对面料染色质量评估的干扰。
[0006]进一步的,本专利技术对得到的面料表面的三维染色均匀共生矩阵进行均匀熵计算,根据均匀熵对面料染色质量进行评估,有效提高了面料染色质量评估的准确性。
[0007]为达到上述目的,本专利技术采用以下技术方案,一种基于图像处理的面料染色质量评估方法,包括:获取待评估的面料表面HSV图及图中各像素点的颜色饱和度。
[0008]利用设计的统计核遍历面料表面HSV图中的S通道图进行滑窗检测。
[0009]对每次滑窗后的统计核内各像素点的饱和度进行一维分布统计,得到每次滑窗后
的统计核的饱和度一维分布图。
[0010]对饱和度一维分布图中的像素点进行多尺度滑窗检测,得到不同滑窗尺度下的分布聚集中心。
[0011]对各分布聚集中心进行一维密度聚类,得到每次滑窗后的统计核中分布最均匀的饱和度范围。
[0012]计算饱和度范围内各像素点的饱和度均值,得到每次滑窗后的统计核内饱和度均值。
[0013]利用饱和度范围内各像素点与其在统计核内的邻近像素点的饱和度的差值,得到每次滑窗后的统计核内临近差均值及临近差方差。
[0014]将每次滑窗后的统计核内饱和度均值、核内临近差均值和临近差方差的三个特征作为统计核的中心位置像素值,利用每一个像素点对应的饱和度均值、核内临近差均值和临近差方差的特征得到S通道图的饱和度均值特征图、临近差均值特征图和临近差方差特征图。
[0015]根据S通道图的饱和度均值特征图、临近差均值特征图和临近差方差特征图构建面料表面HSV图的三维染色均匀共生矩阵。
[0016]对三维染色均匀共生矩阵进行均匀熵计算,得到三维染色均匀共生矩阵的均匀熵。
[0017]设置阈值,判断均匀熵与阈值的大小关系:当均匀熵不大于阈值时,面料染色质量合格,当均匀熵大于阈值时,面料染色质量不合格。
[0018]进一步的,所述一种基于图像处理的面料染色质量评估方法,所述待评估的面料表面HSV图及图中各像素点的颜色饱和度是按照如下方式获取:获取待评估的面料表面RGB图像。
[0019]将面料表面RGB图像转化为HSV图像,得到HSV三通道图像。
[0020]保留HSV三通道图像中的S通道,得到面料表面的S通道图像及各像素点的饱和度。
[0021]进一步的,所述一种基于图像处理的面料染色质量评估方法,所述不同滑窗尺度下的分布聚集中心是按照如下方式得到:对饱和度一维分布图中的像素点进行多尺度滑窗检测。
[0022]分别计算各尺度下对应的窗口内像素点的饱和度方差,得到不同滑窗尺度下的一系列方差。
[0023]选取不同滑窗尺度下的饱和度方差最小的窗口。
[0024]计算各饱和度方差最小的窗口内所有像素点的饱和度均值,得到不同滑窗尺度下的饱和度均值。
[0025]记录不同尺度下的饱和度均值位置,将各位置作为其对应的滑窗尺度下的分布聚集中心,得到不同滑窗尺度下的分布聚集中心。
[0026]进一步的,所述一种基于图像处理的面料染色质量评估方法,所述每次滑窗后的统计核中分布最均匀的饱和度范围是按照如下方式得到:将不同滑窗尺度下的分布聚集中心标记在饱和度轴上,得到分布聚集中心轴。
[0027]对分布聚集中心轴上的分布聚集中心进行一维密度聚类,得到多个类别。
[0028]选取包含最多分布聚集中心的类别,将该类别中尺度最大的分布聚集中心作
为范围中心,离该范围中心最近的前个统计核内像素点的饱和度作为每次滑窗后的统计核中分布最均匀的饱和度范围。
[0029]进一步的,所述一种基于图像处理的面料染色质量评估方法,所述每次滑窗后的统计核内临近差均值及临近差方差是按照如下方式得到:将分布最均匀的饱和度范围内所有的像素点在统计核内标记出来。
[0030]选取被标记的像素点中的一个,计算该像素点与离其距离最近的被标记像素点的饱和度差值的绝对值,得到所有被标记的像素点的临近差值。
[0031]计算所有被标记的像素点的临近差值的均值,得到统计核内临近差均值。
[0032]根据所有被标记的像素点的临近差值和统计核内临近差均值,得到每次滑窗后的统计核内临近差均值及临近差方差。
[0033]进一步的,所述一种基于图像处理的面料染色质量评估方法,所述面料表面HSV图的三维染色均匀共生矩阵是按照如下方式构建:选取面料表面HSV图中任一像素位置,该像素位置在S通道图的饱和度均值特征图、临近差均值特征图和临近差方差特征图中的相应位置各对应一个特征值,获取面料表面HSV图中各像素位置在三个特征图中的特征值。
[0034]对各像素位置在三个特征图中的特征值进行分级,得到面料表面HSV图中各像素位置的三个特征级别,分别记为。
[0035]根据面料表面HSV图中各像素位置的三个特征级别得到矩阵,该矩阵即为面料表面HSV图的三维本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于图像处理的面料染色质量评估方法,其特征在于,包括:获取待评估的面料表面HSV图及图中各像素点的颜色饱和度;利用设计的统计核遍历面料表面HSV图中的S通道图进行滑窗检测;对每次滑窗后的统计核内各像素点的饱和度进行一维分布统计,得到每次滑窗后的统计核的饱和度一维分布图;对饱和度一维分布图中的像素点进行多尺度滑窗检测,得到不同滑窗尺度下的分布聚集中心;对各分布聚集中心进行一维密度聚类,得到每次滑窗后的统计核中分布最均匀的饱和度范围;计算饱和度范围内各像素点的饱和度均值,得到每次滑窗后的统计核内饱和度均值;利用饱和度范围内各像素点与其在统计核内的邻近像素点的饱和度的差值,得到每次滑窗后的统计核内临近差均值及临近差方差;将每次滑窗后的统计核内饱和度均值、核内临近差均值和临近差方差的三个特征作为统计核的中心位置像素值,利用每一个像素点对应的饱和度均值、核内临近差均值和临近差方差的特征得到S通道图的饱和度均值特征图、临近差均值特征图和临近差方差特征图;根据S通道图的饱和度均值特征图、临近差均值特征图和临近差方差特征图构建面料表面HSV图的三维染色均匀共生矩阵;对三维染色均匀共生矩阵进行均匀熵计算,得到三维染色均匀共生矩阵的均匀熵;设置阈值,判断均匀熵与阈值的大小关系:当均匀熵不大于阈值时,面料染色质量合格,当均匀熵大于阈值时,面料染色质量不合格。2.根据权利要求1所述的一种基于图像处理的面料染色质量评估方法,其特征在于,所述待评估的面料表面HSV图及图中各像素点的颜色饱和度是按照如下方式获取:获取待评估的面料表面RGB图像;将面料表面RGB图像转化为HSV图像,得到HSV三通道图像;保留HSV三通道图像中的S通道,得到面料表面的S通道图像及各像素点的饱和度。3.根据权利要求1所述的一种基于图像处理的面料染色质量评估方法,其特征在于,所述不同滑窗尺度下的分布聚集中心是按照如下方式得到:对饱和度一维分布图中的像素点进行多尺度滑窗检测;分别计算各尺度下对应的窗口内像素点的饱和度方差,得到不同滑窗尺度下的一系列方差;选取不同滑窗尺度下的饱和度方差最小的窗口;计算各饱和度方差最小的窗口内所有像素点的饱和度均值,得到不同滑窗尺度下的饱和...

【专利技术属性】
技术研发人员:邵海军杨家俊
申请(专利权)人:南通世森布业有限公司
类型:发明
国别省市:

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