本发明专利技术提供了一种印章防伪识别方法及装置。该方法包括：分别对待检测印章和模板印章进行特征点提取，得到多个第一特征点和多个第二特征点；分别在第一特征点的预设切片范围内和第二特征点的预设切片范围内进行主成分分析，得到第一特征点对应的第一特征向量和第二特征点对应的第二特征向量；基于第一特征向量和第二特征向量进行特征点匹配，确定第一目标特征点对；基于第一目标特征点对，对待检测印章进行矩阵变换处理，得到目标印章；计算目标印章与模板印章之间的相似度数值，得到待检测印章和模板印章的相似度结果。这样，目标印章和模板印章的尺寸和角度相同，以此避免了印章失真带来的干扰，提高了防伪识别结果的准确性。性。性。
【技术实现步骤摘要】
印章防伪识别方法及装置
[0001]本专利技术涉及印章处理
，特别是涉及一种印章防伪识别方法及装置。
技术介绍
[0002]在印章处理
，可以通过计算待检测印章与模板印章之间的相似度，以此实现对待检测印章的防伪检测。上述计算相似度的方式可以是使用直方图匹配方法计算相似度，或者基于印章之间的欧式距离计算相似度。
[0003]然而，在上述方式中，待检测印章可能存在噪声干扰或失真，这降低了防伪识别结果的准确性。
技术实现思路
[0004]本专利技术实施例的目的在于提供一种印章防伪识别方法及装置，解决现有的待检测印章可能存在噪声干扰或失真，降低了防伪识别结果的准确性的技术问题。
[0005]为了解决上述技术问题，本专利技术实施例提供了一种印章防伪识别方法，所述方法包括：
[0006]在得到待检测印章和模板印章的情况下，分别对所述待检测印章和所述模板印章进行特征点提取，得到所述待检测印章对应的多个第一特征点和所述模板印章对应的多个第二特征点；
[0007]分别在所述第一特征点的预设切片范围内和所述第二特征点的预设切片范围内进行主成分分析，得到所述第一特征点对应的第一特征向量和所述第二特征点对应的第二特征向量；
[0008]基于所述第一特征向量和所述第二特征向量进行特征点匹配，确定第一目标特征点对；所述第一目标特征点对包括所述多个第一特征点中的至少部分特征点和所述多个第二特征点中的至少部分特征点；
[0009]基于所述第一目标特征点对，对所述待检测印章进行矩阵变换处理，得到目标印章；
[0010]计算所述目标印章与所述模板印章之间的相似度数值，得到所述待检测印章和所述模板印章的相似度结果。
[0011]可选地，所述分别对所述待检测印章和所述模板印章进行特征点提取之前，所述方法包括：
[0012]获取原始待检测印章和原始模板印章；
[0013]分别对所述原始待检测印章和所述原始模板印章进行感兴趣区域提取，得到所述待检测印章和所述模板印章。
[0014]可选地，所述计算所述目标印章与所述模板印章之间的相似度数值包括：
[0015]在第一背景区域叠加预设的第一背景图像，得到加噪处理后的目标印章；所述第一背景区域为所述目标印章中的至少部分区域；
[0016]在第二背景区域叠加预设的第二背景图像，得到加噪处理后的模板印章；所述第二背景区域为所述模板印章中的至少部分区域；
[0017]计算所述加噪处理后的目标印章和所述加噪处理后的模板印章之间的相似度数值。
[0018]可选地，所述基于所述第一特征向量和所述第二特征向量进行特征点匹配，确定第一目标特征点对包括：
[0019]基于每个第二特征向量，使用最邻近搜索算法确定所述第二特征向量对应的多个第一特征向量；
[0020]计算所述第二特征向量与每个所述第一特征向量之间的欧式距离，确定目标欧式距离，所述目标欧式距离为小于第一预设阈值且数值最小的欧式距离；
[0021]将所述第二特征向量对应的第二特征点和所述目标欧式距离对应的第一特征点，确定为所述第一目标特征点对。
[0022]可选地，所述分别在所述第一特征点的预设切片范围内和所述第二特征点的预设切片范围内进行主成分分析，得到所述第一特征点对应的第一特征向量和所述第二特征点对应的第二特征向量包括：
[0023]将所述第一特征点的预设切片范围内对应的主成分以及梯度确定为所述第一特征向量；
[0024]将所述第二特征点在预设切片范围内对应的主成分以及梯度确定为所述第二特征向量。
[0025]可选地，所述基于所述第一目标特征点对，对所述待检测印章进行矩阵变换处理，得到目标印章包括：
[0026]在所述第一目标特征点对的数量大于或等于第二预设阈值的情况下，对所述第一目标特征点对进行筛选，得到第二目标特征点对；
[0027]计算所述第二目标特征点对对应的透视变换矩阵；
[0028]使用所述透视变换矩阵对所述待检测印章进行透视变换，得到目标印章。
[0029]可选地，所述使用所述透视变换矩阵对所述待检测印章进行透视变换，得到目标印章包括：
[0030]读取所述透视变换矩阵中的第一分量和第二分量；所述第一分量和所述第二分量为变换后的待检测印章的透视变换分量；
[0031]在所述第一分量小于或等于第三预设阈值，且所述第二分量小于或等于第四预设阈值的情况下，使用所述透视变换矩阵对所述待检测印章进行透视变换。
[0032]可选地，所述计算所述目标印章与所述模板印章之间的相似度数值，得到所述待检测印章和所述模板印章的相似度结果包括：
[0033]计算所述目标印章与所述模板印章之间的相似度数值；
[0034]在所述相似度数值大于第五预设阈值的情况下，确定所述目标印章与所述模板印章相似；
[0035]在所述相似度数值小于或等于第五预设阈值的情况下，确定所述目标印章与所述模板印章不相似。
[0036]可选地，所述计算所述目标印章与所述模板印章之间的相似度数值包括：
[0037]计算所述目标印章与所述模板印章之间的均值、方差和协方差；
[0038]将所述均值、方差和协方差进行加权计算，确定为所述相似度数值。
[0039]本专利技术实施例还提供了一种印章防伪识别装置，所述装置包括：
[0040]第一处理模块，用于在得到待检测印章和模板印章的情况下，分别对所述待检测印章和所述模板印章进行特征点提取，得到所述待检测印章对应的多个第一特征点和所述模板印章对应的多个第二特征点；
[0041]分析模块，用于分别在所述第一特征点的预设切片范围内和所述第二特征点的预设切片范围内进行主成分分析，得到所述第一特征点对应的第一特征向量和所述第二特征点对应的第二特征向量；
[0042]匹配模块，用于基于所述第一特征向量和所述第二特征向量进行特征点匹配，确定第一目标特征点对；所述第一目标特征点对包括所述多个第一特征点中的至少部分特征点和所述多个第二特征点中的至少部分特征点；
[0043]第二处理模块，用于基于所述第一目标特征点对，对所述待检测印章进行矩阵变换处理，得到目标印章；
[0044]计算模块，用于计算所述目标印章与所述模板印章之间的相似度数值，得到所述待检测印章和所述模板印章的相似度结果。
[0045]可选地，所述装置还包括：
[0046]获取模块，用于获取原始待检测印章和原始模板印章；
[0047]提取模块，用于分别对所述原始待检测印章和所述原始模板印章进行感兴趣区域提取，得到所述待检测印章和所述模板印章。
[0048]可选地，所述计算模块，具体用于：
[0049]在第一背景区域叠加预设的第一背景图像，得到加噪处理后的目标印章；所述第一背景区域为所述目标印章中的至少部分区域；
[0050]在第二背景区域叠加预设的第二背景图像，得到加噪处理后的本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种印章防伪识别方法，其特征在于，包括：在得到待检测印章和模板印章的情况下，分别对所述待检测印章和所述模板印章进行特征点提取，得到所述待检测印章对应的多个第一特征点和所述模板印章对应的多个第二特征点；分别在所述第一特征点的预设切片范围内和所述第二特征点的预设切片范围内进行主成分分析，得到所述第一特征点对应的第一特征向量和所述第二特征点对应的第二特征向量；基于所述第一特征向量和所述第二特征向量进行特征点匹配，确定第一目标特征点对；所述第一目标特征点对包括所述多个第一特征点中的至少部分特征点和所述多个第二特征点中的至少部分特征点；基于所述第一目标特征点对，对所述待检测印章进行矩阵变换处理，得到目标印章；计算所述目标印章与所述模板印章之间的相似度数值，得到所述待检测印章和所述模板印章的相似度结果。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述第一特征向量和所述第二特征向量进行特征点匹配，确定第一目标特征点对包括：基于每个第二特征向量，使用最邻近搜索算法确定所述第二特征向量对应的多个第一特征向量；计算所述第二特征向量与每个所述第一特征向量之间的欧式距离，确定目标欧式距离，所述目标欧式距离为小于第一预设阈值且数值最小的欧式距离；将所述第二特征向量对应的第二特征点和所述目标欧式距离对应的第一特征点，确定为所述第一目标特征点对。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述分别在所述第一特征点的预设切片范围内和所述第二特征点的预设切片范围内进行主成分分析，得到所述第一特征点对应的第一特征向量和所述第二特征点对应的第二特征向量包括：将所述第一特征点的预设切片范围内对应的主成分以及梯度确定为所述第一特征向量；将所述第二特征点在预设切片范围内对应的主成分以及梯度确定为所述第二特征向量。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述第一目标特征点对，对所述待检测印章进行矩阵变换处理，得到目标印章包括：在所述第一目标特征点对的数量大于或等于第二预设阈值的情况下，对所述第一目标特征点对进行筛选，得到第二目标特征点对；计算所述第二目标特征点对对应的透视变换矩阵；使用所述透视变换矩阵对所述待检测印章进行透视变换，得到目标印章。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述计算所述目标印章与所述模板印章之间的相似度数值，得到所述待检测印章和所述模板印章的相似度结果包括：计算所述目标印章与所述模板印章之间的相似度数值；在所述相似度...
【专利技术属性】
技术研发人员：方磊，徐敏，严京旗，周审章，
申请(专利权)人：北京九章云极科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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