面板行业CVD设备尾气处理保护装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了面板行业CVD设备尾气处理保护装置，包括：终端阀门分配箱、工艺设备接收特气盘面、设备腔室、尾气处理泵、尾气处理器、CVD排气装置；所述终端阀门分配箱通过工艺设备接收特气盘面连接设备腔室，且设备腔室通过尾气处理泵与尾气处理器连接；所述尾气处理泵与尾气处理器通过管道连接，且CVD排气装置与尾气处理器连接；本实用新型专利技术通过对面板行业CVD设备尾气处理保护装置的改进，具有结构设计合理，尾气处理效果好、处理效率高，实用性强的优点，从而有效的解决了现有装置中出现的问题和不足。题和不足。题和不足。

【技术实现步骤摘要】
面板行业CVD设备尾气处理保护装置


[0001]本技术涉及面板行业
，更具体的说，尤其涉及一种面板行业CVD设备尾气处理保护装置。

技术介绍

[0002]集成电路制造中工艺废气，最难处理、排放最多的就是化学气相沉积，简称CVD。随着技术的进步，电路芯片的集成化会越来越高，相对应的CVD产生的废气会越来越多，这些气体如果未经尾气处理设备净化达标，就直接排放，便会对环境和周边人员生命安全造成很大的危害。
[0003]常见的尾气处理工艺有水洗式、氧化式、吸附式及等离子燃烧式等，其中吸附式是通过吸附材(活性炭、硅胶和各种分子筛)吸附治理废气中需处理的气体部分，再通过变色球上的指示剂来检验废气的排放是否合格。吸附式可处理废气种类多样，处理过程中无废水无明火等，是泛半导体行业中一种常用的尾气处理设备，但尾气处理效果一般，且效率较低，在使用时存在诸多局限性。
[0004]有鉴于此，针对现有的问题予以研究改良，提供一种面板行业CVD设备尾气处理保护装置，旨在通过该技术，达到解决问题与提高实用价值性的目的。
技术内容
[00本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.面板行业CVD设备尾气处理保护装置，包括：终端阀门分配箱(1)、工艺设备接收特气盘面(2)、设备腔室(3)、尾气处理泵(4)、尾气处理器(5)、CVD排气装置(6)；其特征在于：所述终端阀门分配箱(1)通过工艺设备接收特气盘面(2)连接设备腔室(3)，且设备腔室(3)通过尾气处理泵(4)与尾气处理器(5)连接；所述尾气处理泵(4)与尾气处理器(5)通过管道连接，且CVD排气装置(6)与尾气处理器(5)连接。2.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁振山，吴时传，杜塞培，
申请(专利权)人：河南省华锐光电产业有限公司，
类型：新型
国别省市：