【技术实现步骤摘要】
一种应用于eGaN HEMT的开通过电压建模方法
[0001]本专利技术属于电力电子器件建模
,涉及一种应用于eGaN HEMT的开通过电压建模方法。
技术介绍
[0002]功率半桥电路中的器件在开关瞬态过程中造成的漏源电压过电压问题已经严重影响到功率开关器件的正常运行,并且随着开关速度的增加,过电压峰值会进一步的增大;一旦电压超调量接近功率器件的击穿电压,不仅开关速度无法进一步提高,器件甚至电力电子变换器的稳定性也会受到影响。以往的研究主要是基于传统Si基功率半桥电路中,并且主要关注关断瞬态期间的过电压,由于Si基功率器件的开通速度不够快,没有出现明显的开通过电压。然而,在由eGaN HEMT(增强型氮化镓高电子迁移率晶体管)器件组成功率半桥电路中,器件快速开通导致的开通过压却比较严重,在一定的开关条件下开通过电压甚至比关断过电压更加严重,在不同的工作电流和不同的栅极电阻下,开启瞬态过程中的电压峰值甚至高于关断瞬态过程中的电压超调量,所以eGaN HEMT器件在功率半桥电路中的开通过电压问题逐渐引起国内外研究的重视。
技术实现思路
[0003]本专利技术针对现有技术的不足,提出一种应用于eGaN HEMT的开通过电压建模方法,通过对半桥电路进行等效变换,得到开通过程分解的等效电路,在等效电路的基础上推导其开通过电压解析模型。包括以下步骤:
[0004]S10,搭建功率半桥双脉冲测试电路;
[0005]S20,得到开通过程分解的等效电路;
[0006]S30,求解出过电压 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种应用于eGaN HEMT的开通过电压建模方法,其特征在于,包括以下步骤:S10,搭建功率半桥双脉冲测试电路;S20,得到开通过程分解的等效电路;S30,求解出过电压解析模型;S40,提取寄生参数。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述S10搭建的功率半桥双脉冲测试电路中,Q2和Q1分别为测试电路顶部与底部开关器件eGaN HEMT;V
DC
为电路母线电压,V
g
为驱动电源,C
DC
为电路缓冲电容,L为负载电感,C
gs
为栅源极寄生电容,C
ds
为漏源极寄生电容,C
gd
为栅漏极寄生电容,Q2和Q1均具有一组C
gs
、C
ds
和C
gd
;L
loop
为功率回路总杂散电感,L
g
为驱动寄生电感,R
g
为驱动电阻,Q1和Q2的栅极均各与一组串联的R
g
和L
g
连接,R
stray
为环路杂散电阻,Q2的漏极与R
stray
的一端连接,R
stray
的另一端与L的一端连接,L的另一端与Q2的源极连接;Q1的源极与的L
loop
一端连接,L
loop
的另一端与C
DC
的一端连接,C
DC
的另一端与L的另一端连接,eGaN HEMT在开通过程中参数包括底部开关Q1的漏极电流i
d_B
、漏源极电压v
ds_B
,栅源极电压v
g_B
以及顶部开关Q2的漏源极电压v
ds_T
。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述S20中令t1到t2时段称为di/dt瞬态,并推导该时段的等效电路,在该时段内顶部开关Q2处于反向导通状态,V
r
表示Q2的反向导通压降,同时v
ds_T
保持不变,等于
‑
V
r
;Q1的漏极电流i
d_B
快速上升,Q1的漏源极电压v
ds_B
在L
loop
的作用下,在初始电压V
DC
+V
r
上产生一个电压降ΔV,即在t3时刻...
【专利技术属性】
技术研发人员:闫东,杭丽君,何远彬,曾平良,何震,
申请(专利权)人:杭州电子科技大学,
类型:发明
国别省市:
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