一种磁控溅射专用的屏蔽罩结构制造技术

本实用新型专利技术提供一种磁控溅射专用的屏蔽罩结构，包括：罩体；第一螺纹环，所述第一螺纹环固定连接于所述罩体的外表面；第二螺纹环，所述第二螺纹环螺纹连接于第一螺纹环的外表面的顶部；遮挡板，遮挡板固定连接于第二螺纹环的内表面的顶部。本实用新型专利技术提供的磁控溅射专用的屏蔽罩结构，通过在罩体外部设置第一螺纹环，第二螺纹环沿着第一螺纹环向上，同时通过第一环形槽内部的连接件，便可与连接杆连接在一起，第二螺纹环、遮挡板和第一螺纹环之间配合，可将连接杆下方的第一连接槽遮挡起来，从而对溅射出来的带电粒子进行遮挡，避免其之间溅射出来同时连接件对托盘等进行支撑，随着第二螺纹环的转动进行位置调整，位置调整方便。便。便。

【技术实现步骤摘要】
一种磁控溅射专用的屏蔽罩结构


[0001]本技术涉及磁控溅射领域，尤其涉及一种磁控溅射专用的屏蔽罩结构。

技术介绍

[0002]磁控溅射是物理气相沉积的一种，一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。
[0003]在磁场溅射的过程中，有一部分带电粒子与器壁发生碰撞，发生复合，这部分与器壁发生复合的粒子，对磁控室腔体的污染很严重，再次溅射实验时，会对溅射基体和靶材造成二次污染，且由于磁控室的结构比较复杂，清洗比较麻烦，因而需要对溅射靶进行保护，将带电粒子屏蔽，避免或降低溅射过程带电离子对磁控室的影响。
[0004]现有的磁控溅射专用的屏蔽罩在使用的过程中，托盘在罩体的槽中移动，从而改变位置，但在使用过程中，带电粒子可能通过罩体的槽中溅射出来。
[0005]因此，有必要提供一种磁控溅射专用的屏蔽罩结构解决上述技术问题。

技术实现思路

[0006]本技术提供一种磁控溅射专用的屏蔽罩结构，解决了现有的带电粒子可能从罩体上的槽中溅射出来的问题。
[0007]为解决上述技术问题，本技术提供的磁控溅射专用的屏蔽罩结构，包括：罩体；
[0008]第一螺纹环，所述第一螺纹环固定连接于所述罩体的外表面；
[0009]第二螺纹环，所述第二螺纹环螺纹连接于所述第一螺纹环的外表面的顶部；
[0010]遮挡板，所述遮挡板固定连接于所述第二螺纹环的内表面的顶部；
[0011]第一环形槽，所述第一环形槽开设于所述第二螺纹环的顶部的中间；
[0012]连接件，所述连接件滑动连接于所述第一环形槽的内部，所述连接件的顶端延伸至所述第二螺纹环的顶部。
[0013]通过在罩体外部设置第一螺纹环，第二螺纹环沿着第一螺纹环向上，同时通过第一环形槽内部的连接件，便可与连接杆连接在一起，第二螺纹环、遮挡板和第一螺纹环之间配合，可将连接杆下方的第一连接槽遮挡起来，从而对溅射出来的带电粒子进行遮挡，避免其之间溅射出来同时连接件对托盘等进行支撑，随着第二螺纹环的转动进行位置调整，位置调整方便。
[0014]优选的，所述罩体的顶部均匀开设有第一连接槽，所述罩体的底部均匀开设有连通口，所述罩体外表面的底部且位于所述连通口的一侧固定连接有固定安装件。
[0015]优选的，所述罩体内部的中间设置有托盘，所述托盘的侧面均匀固定连接有连接杆，所述连接杆的一端通过所述第一连接槽延伸至所述罩体的外部。
[0016]优选的，所述连接件包括滑动杆，所述滑动杆的顶端延伸至所述第一环形槽的内部，所述滑动杆的顶部开设有凹槽，所述滑动杆一侧的顶部螺纹连接有螺栓，所述螺栓的一
端贯穿所述连接杆且与所述滑动杆的顶部螺纹连接。
[0017]优选的，所述第一连接槽和所述连通口上下之间的位置相对应，所述连接杆可在第一连接槽内部上下移动。
[0018]优选的，所述罩体的外表面且位于所述第一螺纹环的顶部开设有螺纹槽，所述罩体的外表面螺纹连接有遮挡组件。
[0019]优选的，所述遮挡组件包括第三螺纹环，所述第三螺纹环的顶部固定连接有弹性罩，所述弹性罩外表面的顶部固定连接有连接环，所述连接环的外表面均匀固定连接有滑块。
[0020]优选的，所述第二螺纹环内表面的顶部均匀开设有第二连接槽，所述第二连接槽内表面的底部连通有第二环形槽，所述滑块的一端延伸至所述第二环形槽的内部。
[0021]通过在罩体表面开设螺纹槽，在第二螺纹环上开设第二连接槽和第二环形槽，遮挡组件与罩体螺纹连接，顶部在第二环形槽中转动，可随着第二螺纹环向上移动的同时，固定其底部的位置，从而将连接杆下方暴露出来的第一连接槽遮挡起来，内部溅射出来的带电粒子直接溅射在弹性罩内，同时遮挡组件也方便从罩体和第二螺纹环上取下，方便后期进行清洗。
[0022]与相关技术相比较，本技术提供的磁控溅射专用的屏蔽罩结构具有如下有益效果：
[0023]本技术提供一种磁控溅射专用的屏蔽罩结构，通过在罩体外部设置第一螺纹环，第二螺纹环沿着第一螺纹环向上，同时通过第一环形槽内部的连接件，便可与连接杆连接在一起，第二螺纹环、遮挡板和第一螺纹环之间配合，可将连接杆下方的第一连接槽遮挡起来，从而对溅射出来的带电粒子进行遮挡，避免其之间溅射出来同时连接件对托盘等进行支撑，随着第二螺纹环的转动进行位置调整，位置调整方便。
附图说明
[0024]图1为本技术提供的磁控溅射专用的屏蔽罩结构的第一实施例的结构示意图；
[0025]图2为图1所示的第二螺纹环的结构示意图；
[0026]图3为图1所示的罩体的结构示意图；
[0027]图4为本技术提供的磁控溅射专用的屏蔽罩结构的第二实施例的结构示意图；
[0028]图5为图4所示的遮挡组件的结构示意图；
[0029]图6为图4所示的罩体的外部结构示意图；
[0030]图7为图4所示的第二螺纹环的结构示意图。
[0031]图中标号：1、罩体，2、第一螺纹环，3、第二螺纹环，4、遮挡板，5、第一环形槽，
[0032]6、连接件，61、滑动杆，62、凹槽，63、螺栓，
[0033]7、第一连接槽，8、连通口，9、固定安装件，10、托盘，11、连接杆，
[0034]12、螺纹槽，
[0035]13、遮挡组件，131、第三螺纹环，132、弹性罩，133、连接环，134、滑块，
[0036]14、第二连接槽，15、第二环形槽。
具体实施方式
[0037]下面结合附图和实施方式对本技术作进一步说明。
[0038]第一实施例
[0039]请结合参阅图1、图2和图3，其中，图1为本技术提供的磁控溅射专用的屏蔽罩结构的第一实施例的结构示意图；图2为图1所示的第二螺纹环的结构示意图；图3为图1所示的罩体的结构示意图。磁控溅射专用的屏蔽罩结构包括：罩体1；
[0040]第一螺纹环2，所述第一螺纹环2固定连接于所述罩体1的外表面；
[0041]第二螺纹环3，所述第二螺纹环3螺纹连接于所述第一螺纹环2的外表面的顶部；
[0042]遮挡板4，所述遮挡板4固定连接于所述第二螺纹环3的内表面的顶部；
[0043]第一环形槽5，所述第一环形槽5开设于所述第二螺纹环3的顶部的中间；
[0044]连接件6，所述连接件6滑动连接于所述第一环形槽5的内部，所述连接件6的顶端延伸至所述第二螺纹环3的顶部。
[0045]罩体1即为屏蔽罩，第一螺纹环2与罩体1外部固定在一起，第二螺纹环3沿着第一螺纹环2上下转动，遮挡板4的内部与罩体1之间缝隙较小，第一环形槽5与连接件6大小适配，连接件6有三个。
[0046]所述罩体1的顶部均匀开设有第一连接槽7，所述罩体1的底部均匀开设有连通口8，所述罩体1外表面的底部且位于所述连通口8的一侧固定连接有固定安装件9。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射专用的屏蔽罩结构，其特征在于，包括：罩体；第一螺纹环，所述第一螺纹环固定连接于所述罩体的外表面；第二螺纹环，所述第二螺纹环螺纹连接于所述第一螺纹环的外表面的顶部；遮挡板，所述遮挡板固定连接于所述第二螺纹环的内表面的顶部；第一环形槽，所述第一环形槽开设于所述第二螺纹环的顶部的中间；连接件，所述连接件滑动连接于所述第一环形槽的内部，所述连接件的顶端延伸至所述第二螺纹环的顶部。2.根据权利要求1所述的磁控溅射专用的屏蔽罩结构，其特征在于，所述罩体的顶部均匀开设有第一连接槽，所述罩体的底部均匀开设有连通口，所述罩体外表面的底部且位于所述连通口的一侧固定连接有固定安装件。3.根据权利要求2所述的磁控溅射专用的屏蔽罩结构，其特征在于，所述罩体内部的中间设置有托盘，所述托盘的侧面均匀固定连接有连接杆，所述连接杆的一端通过所述第一连接槽延伸至所述罩体的外部。4.根据权利要求3所述的磁控溅射专用的屏蔽罩结构，其特征在于，所述连接件包括滑动杆，所述滑动杆的顶端...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗晴，
申请(专利权)人：厦门大学，
类型：新型
国别省市：