【技术实现步骤摘要】
一种含有三个硅氢键的季碳偕二硅基化合物及其合成方法和应用
[0001]本方法涉及一种含有三个硅氢键的季碳偕二硅基化合物及其合成方法和应用。
技术介绍
[0002]有机烷基硅化合物在有机合成[(a)Fleming,I.;Barbero,A.;Walter,D.Chem.Rev.1997,97,2063.(b)Denmark,S.E.;Regens,C.S.Acc.Chem.Res.2008,41,1486.(c)Nakao,Y.;Hiyama,T.Chem.Soc.Rev.2011,40,4893.(d)Jensen,K.L.;Dickmeiss,G.;Jiang,H.;Albrecht,K.A.Acc.Chem.Res.2012,45,248.(e)Zhang,H.
‑
J.;Priebbenow,D.L.;Bolm,C.Chem.Soc.Rev.2013,42,8540.]、材料化学[Silicon in Organic,Organometallic,and Polymer Chemistry;Brook,M.A.,Ed.;Wiley:New York,1999.]、以及药物化学[(a)Pooni,P.K.;Showell,G.A.Mini
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Rev.Med.Chem.2006,6,1169.(b)Gately,S.;West,R.DrugDev.Res.2007,68,156.(c)Franz,A.K.;Wilson,S.O.J.Med.Chem.2013,56,388.(d)M
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种含有三个硅氢键的季碳偕二硅化合物,其特征在于所述化合物如式V所示:式V中,R1任选自H、未取代或含有取代基A的以下基团:C6~C20的芳基A、C4~C20的杂环芳基A;所述的取代基A为下列中的一种或两种以上:C1~C16的烷基、C1~C16的烷氧基、C1
‑
C16的硅氧基、C1~C3的烷硫基、卤素、三氟甲基、羟基、C1~C3的醛基、C1~C3的羧基、氨基、C1~C3的酯基、苯基、酰胺基、甲氧羰基、硝基、羟基、苄氧基、乙酰氧甲基;式V中,R2、R3任选自未取代或含有取代基B的C1
‑
C16的烷基,未取代或含有取代基C的C6~C20的芳基B或未取代或含有取代基D的C4~C20的杂环芳基B,所述的取代基B为苯基或取代苯基,所述取代苯基上的取代基为下列中的一种或多种:卤素、C1
‑
C16的烷基、C1
‑
C16的烷氧基、C1
‑
C16的烷硫基、苯基、三氟甲基、甲氧羰基、硝基、羟基、C1~C3的醛基、C1~C3的羧基、氨基、C1~C16的酯基、C1
‑
C16的硅烷基、C1
‑
C16的硅氧基、苄氧基、酰胺基、乙酰氧甲基、2
‑
亚甲基
‑
1,3
‑
二氧环戊基;所述的取代基C或取代基D为下列中的一种或两种以上:C1~C16的烷基、C1~C16的烷氧基、C1
‑
C16的硅氧基、C1~C3的烷硫基、卤素、三氟甲基、羟基、C1~C3的醛基、C1~C3的羧基、氨基、C1~C3的酯基、苯基、酰胺基、甲氧羰基、硝基、羟基、苄氧基、乙酰氧甲基。2.如权利要求1所述的含有三个硅氢键的季碳偕二硅化合物,其特征在于所述R1任选自未取代或含有取代基A的以下基团:C6~C20的芳基A、C4~C20的杂环芳基A;所述C6~C20的芳基A为苯基、3
’
,4
’‑
(2
‑
亚甲基
‑
1,3
‑
二氧环)
‑
苯基或萘基;所述C4~C20的杂环芳基A为吲哚基、噻吩基、苯并噻吩基、吡啶基、哌啶基、喹啉基、咔唑基或1,8
‑
萘啶基;所述取代基A为下列中的一种或两种以上:C1~C6的烷基、C1~C3的烷氧基、C1~C3的烷硫基、卤素、三氟甲基、羟基、C1~C3的醛基、C1~C3的羧基、氨基、C1~C3的酯基、苯基或酰胺基。3.如权利要求1所述的含有三个硅氢键的季碳偕二硅化合物,其特征在于所述R2、R3任选自未取代或含有取代基B的C1
‑
C16的烷基,未取代或含有取代基C的C6~C20的芳基B、C4~C20的杂环芳基B;所述C6~C20的芳基B为苯基或萘基;所述C4~C20的杂环芳基B为吲哚基、噻吩基、吡啶基、哌啶基、咔唑基或喹啉基。4.如权利要求1所述的含有三个硅氢键的季碳偕二硅化合物,其特征在于所述R2苯基或取代苯基,R3为
‑
K1‑
取代基B、苯基或取代苯基;所述K1为C1~C6的亚烷基,所述取代基B为苯基或取代苯基,所述取代苯基上的取代基为下列中的一种或两种以上:C1~C6的烷基、C1~C3的烷氧基、C1~C3的烷硫基、卤素、三氟甲基、羟基、C1~C3的醛基、C1~C3的羧基、氨基、C1~C3的酯基、苯基或酰胺基。5.如权利要求1所述的含有三个硅氢键的季碳偕二硅化合物的合成方法,其特征在于所述方法为:惰性气体下,式I所示的炔烃、式II所示的二氢硅烷在CoX2‑
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