一种晶圆自动覆硼装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于晶圆生产技术领域，尤其是一种晶圆自动覆硼装置，针对现有的掺杂元素与反应气体提前反应，导致晶圆表面覆盖的不够均匀的问题，现提出如下方案，其包括反应箱，所述反应箱的底部固定连接有三个支架，所述支架的外壁固定连接有支撑板，支撑板的外壁固定连接有第一电机，所述第一电机输出轴的顶部固定连接有竖杆，所述竖杆的外壁开设有矩形槽，矩形槽的内壁滑动连接有矩形块，所述矩形块的外壁固定连接有圆杆，所述圆杆的顶部固定连接有承托台，本实用新型专利技术通过设置第二电机、转动筒、弧形板、过滤筒、L型管、旋转接头、出气管与透气孔，使掺杂元素缓慢进入，并且带动掺杂元素进行搅动。行搅动。行搅动。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆自动覆硼装置


[0001]本技术涉及晶圆生产
，尤其涉及一种晶圆自动覆硼装置。

技术介绍

[0002]晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，其原始材料是硅。在电子集成电路和太阳能电池的发展过程中，半导体生产依赖于以下技术：主要基于通过掺杂对硅材料进行固有改性。材料的掺杂包括将另一材料引入其基质原子。这些原子将被一些原始原子替代，因此将引入更多的电子或产生空穴。电子不足元素插入硅网中可导致被认为带正电的材料，因此有术语“P型掺杂”，硼元素产生这种掺杂类型，将掺杂元素以呈汽态的形式引入，掺杂元素与一种或多种反应气体反应以产生待沉积的掺杂化合物本身。
[0003]在现有技术中，掺杂元素与反应气体提前反应，导致晶圆表面覆盖的不够均匀，因此我们提出一种晶圆自动覆硼装置，用于解决上述问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是为了解决掺杂元素与反应气体提前反应，导致晶圆表面覆盖的不够均匀的缺点，而提出的一种晶圆自动覆硼装置。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0006]一种晶圆自动覆硼装置，包括反应箱，所述反应箱的底部固定连接有三个支架，所述支架的外壁固定连接有支撑板，支撑板的外壁固定连接有第一电机，所述第一电机输出轴的顶部固定连接有竖杆，所述竖杆的外壁开设有矩形槽，矩形槽的内壁滑动连接有矩形块，所述矩形块的外壁固定连接有圆杆，所述圆杆的顶部固定连接有承托台，所述承托台的外壁均匀开设有多个限位槽，限位槽的内壁滑动连接有限位块，所述限位块的顶部固定连接有支撑杆，所述支撑杆的顶部固定连接有放置盘，所述反应箱的内壁固定连接有隔热棉，所述反应箱的外壁固定连接有固定板，固定板的外壁固定连接有第二电机，所述第二电机输出轴的一端固定连接有转动筒，所述反应箱的内壁固定连接有弧形板，所述弧形板的外壁与转动筒的外壁相接触，所述反应箱的外壁设有进气机构。
[0007]优选的，所述进气机构包括过滤筒，所述反应箱的顶部与过滤筒的外壁固定连接，所述过滤筒的内部固定连接有过滤板，所述过滤筒的外壁固定互通有进料管与L型管，所述L型管的外壁固定套设有电子阀门，所述L型管的一端固定互通有旋转接头，所述反应箱的内壁固定连接有出气管，所述出气管的一端与旋转接头互通，所述出气管的外壁均匀开设有多个出气孔，所述转动筒的外壁均匀开设有多个透气孔，通过设置转动筒方便掺杂元素缓慢进入。
[0008]优选的，所述反应箱的底部开设有圆孔，圆孔的内壁与第一电机输出轴的外壁转动连接，通过设置第一电机使转动筒进行转动。
[0009]优选的，所述竖杆的外壁开设有螺纹孔，螺纹孔的内壁螺纹连接有耐高温螺栓。
[0010]优选的，所述反应箱的外壁开设有通孔，通孔的内壁与第二电机输出轴的外壁转
动连接。
[0011]优选的，所述反应箱的外壁固定连接有挡板，挡板的外壁固定连接有真空泵，通过真空泵将反应箱内空气排出。
[0012]优选的，所述真空泵的一端与反应箱的外壁固定互通。
[0013]与现有技术相比，本技术的优点在于：
[0014]本方案真空泵运转，将反应箱内空气排出，减少杂质，一定量的反应气体进入反应箱内，等待一段时间后，晶圆表面附着反应气体，通过设置第二电机、转动筒、弧形板、过滤筒、L型管、旋转接头、出气管与透气孔，使掺杂元素缓慢进入，并且带动掺杂元素进行搅动，第一电机转动使承托台转动，与晶圆上的反应气体进行均匀反应。
附图说明
[0015]图1为本技术提出的一种晶圆自动覆硼装置的立体结构示意图；
[0016]图2为本技术提出的一种晶圆自动覆硼装置的剖面结构示意图；
[0017]图3为本技术提出的一种晶圆自动覆硼装置的图2中的A部分放大结构示意图。
[0018]图中：1、反应箱；2、支架；3、第一电机；4、竖杆；5、矩形块；6、圆杆；7、承托台；8、限位块；9、支撑杆；10、放置盘；11、隔热棉；12、第二电机；13、转动筒；14、弧形板；15、过滤筒；16、L型管；17、旋转接头；18、出气管；19、透气孔；20、真空泵。
具体实施方式
[0019]由图1
‑
3所示，涉及一种晶圆自动覆硼装置，包括反应箱1，反应箱1的底部固定连接有三个支架2，支架2的外壁固定连接有支撑板，支撑板的外壁固定连接有第一电机3，反应箱1的底部开设有圆孔，圆孔的内壁与第一电机3输出轴的外壁转动连接，第一电机3输出轴的顶部固定连接有竖杆4，竖杆4的外壁开设有螺纹孔，螺纹孔的内壁螺纹连接有耐高温螺栓，耐高温螺栓对圆杆进行位置固定，竖杆4的外壁开设有矩形槽，矩形槽的内壁滑动连接有矩形块5，矩形块5的外壁固定连接有圆杆6，圆杆6的顶部固定连接有承托台7，可通过矩形块5与圆杆6对承托台7进行上下调节作用，方便晶圆进行覆硼，承托台7的外壁均匀开设有多个限位槽，限位槽的内壁滑动连接有限位块8，限位块8的顶部固定连接有支撑杆9，支撑杆9的顶部固定连接有放置盘10，反应箱1的内壁固定连接有隔热棉11，反应箱1的外壁固定连接有固定板，固定板的外壁固定连接有第二电机12，反应箱1的外壁开设有通孔，通孔的内壁与第二电机12输出轴的外壁转动连接，第二电机12输出轴的一端固定连接有转动筒13，反应箱1的内壁固定连接有弧形板14，第二电机12运转通过弧形板14，使掺杂元素缓慢进入，并且带动掺杂元素进行搅动，弧形板14的外壁与转动筒13的外壁相接触，反应箱1的外壁设有进气机构。
[0020]由图2所示，进气机构包括过滤筒15，反应箱1的顶部与过滤筒15的外壁固定连接，过滤筒15的内部固定连接有过滤板，过滤筒15的外壁固定互通有进料管与L型管16，反应箱1的外壁固定连接有挡板，挡板的外壁固定连接有真空泵20，L型管16的外壁固定套设有电子阀门，L型管16的一端固定互通有旋转接头17，反应箱1的内壁固定连接有出气管18，真空泵20的一端与反应箱1的外壁固定互通，真空泵20运转，将反应箱1内空气排出，减少杂质，
出气管18的一端与旋转接头17互通，出气管18的外壁均匀开设有多个出气孔，转动筒13的外壁均匀开设有多个透气孔19。
[0021]工作原理：将晶圆放置到放置盘10上，可通过矩形块5与圆杆6对承托台7进行上下调节作用，通过耐高温螺栓进行位置固定，从而使后续的反应气体在反应箱1内扩散范围变小，使反应效果加快，同时真空泵20运转，将反应箱1内空气排出，减少杂质，将一定量的反应气体通过过滤筒15进入，并且通过旋转接头17与L型管16进入出气管18内，第二电机12运转，使转动筒13转动，将透气孔19通过弧形板14旋转出来，将反应气体排出到反应箱1内，等待一段时间后，晶圆表面附着反应气体，掺杂元素后一步通过过滤筒15进入出气管18内，通过透气孔19排出，第二电机12运转通过弧形板14，使掺杂元素缓慢进入，并且带动掺杂元素进行搅动，第一电机3转动使承托台7转动，反应箱1内加热一定温度，掺杂元素与晶圆上的反应气本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆自动覆硼装置，包括反应箱（1），其特征在于，所述反应箱（1）的底部固定连接有三个支架（2），所述支架（2）的外壁固定连接有支撑板，支撑板的外壁固定连接有第一电机（3），所述第一电机（3）输出轴的顶部固定连接有竖杆（4），所述竖杆（4）的外壁开设有矩形槽，矩形槽的内壁滑动连接有矩形块（5），所述矩形块（5）的外壁固定连接有圆杆（6），所述圆杆（6）的顶部固定连接有承托台（7），所述承托台（7）的外壁均匀开设有多个限位槽，限位槽的内壁滑动连接有限位块（8），所述限位块（8）的顶部固定连接有支撑杆（9），所述支撑杆（9）的顶部固定连接有放置盘（10），所述反应箱（1）的内壁固定连接有隔热棉（11），所述反应箱（1）的外壁固定连接有固定板，固定板的外壁固定连接有第二电机（12），所述第二电机（12）输出轴的一端固定连接有转动筒（13），所述反应箱（1）的内壁固定连接有弧形板（14），所述弧形板（14）的外壁与转动筒（13）的外壁相接触，所述反应箱（1）的外壁设有进气机构。2.根据权利要求1所述的一种晶圆自动覆硼装置，其特征在于，所述进气机构包括过滤筒（15），所述反应箱（1）的顶部与过滤筒（15）的外壁固定连接，所述过滤筒（...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭城，吕明，李充，王永超，弭帅，潘炜，
申请(专利权)人：山东科芯电子有限公司，
类型：新型
国别省市：