一种铯铅卤纳米晶弥散玻璃及其热处理方法技术

本发明专利技术涉及一种铯铅卤纳米晶弥散玻璃及其热处理方法，包括如下步骤：提供能够析出铯铅卤纳米晶的前驱体玻璃，对所述前驱体玻璃进行初始热处理；将初始热处理后的前驱体玻璃降温至室温，再升温至T2进行二次热处理，时间为t2，然后在T2至T4温度区间以冷却速度V降温，再从T4降温至室温；或者将初始热处理后的前驱体玻璃先降温至T3，然后在T3至T4温度区间以冷却速度V降温，再从T4降温至室温。本发明专利技术的热处理方法中，玻璃均历经低温段的缓慢冷却过程，从而使得玻璃中CsPbX3纳米晶的晶相质量稳定，所制得的CsPbX3纳米晶弥散玻璃发光效率及其稳定性得以改善。定性得以改善。定性得以改善。

Cesium lead halide nanocrystalline dispersion glass and its heat treatment method

【技术实现步骤摘要】
一种铯铅卤纳米晶弥散玻璃及其热处理方法


[0001]本专利技术属于发光材料领域，特别涉及一种铯铅卤纳米晶弥散玻璃及其热处理方法。

技术介绍

[0002]铯铅卤钙钛矿CsPbX3(X＝Cl,Br,I)纳米晶具有优异的光电性能，在信息显示、照明、成像等领域具有重要的应用价值。但由于CsPbX3纳米晶的化学稳定性与热学稳定较差，通常需要将这类纳米晶分散在一定的介质中，以提高其稳定性。玻璃材料具有较好的稳定性，并在信息显示、照明、成像等领域应用广泛。将CsPbX3纳米晶与玻璃结合，形成CsPbX3纳米晶弥散玻璃，能够改善CsPbX3纳米晶稳定性，拓展CsPbX3纳米晶弥散玻璃的应用领域。
[0003]在玻璃中制备半导体纳米晶或者其它功能性能纳米晶，通常在玻璃转变点附近或者玻璃转变点以上的温度区间对玻璃进行热处理；玻璃热处理温度与时间等是纳米晶性能的关键影响因素。在玻璃中制备CsPbX3纳米晶，同样采用热处理方法。但实际操作中，在既定组成的玻璃中制备CsPbX3纳米晶，采用相同热处理温度与时间热处理所制备的CsPbX3纳米晶弥散玻璃的发光量子效率本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种铯铅卤纳米晶弥散玻璃的热处理方法，其特征在于，包括如下步骤：提供能够析出铯铅卤纳米晶的前驱体玻璃，对所述前驱体玻璃进行初始热处理；将初始热处理后的前驱体玻璃降温至室温，再升温至T2进行二次热处理，时间为t2，然后在T2至T4温度区间以冷却速度V降温，再从T4降温至室温；或者将初始热处理后的前驱体玻璃先降温至T3，然后在T3至T4温度区间以冷却速度V降温，再从T4降温至室温。2.如权利要求1所述的铯铅卤纳米晶弥散玻璃的热处理方法，其特征在于，所述室温≤T4＜180℃。3.如权利要求1所述的铯铅卤纳米晶弥散玻璃的热处理方法，其特征在于，所述初始热处理的温度T1>Tg
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50，其中Tg为所述前驱体玻璃的玻璃转变温度；所述初始热处理的时间t1≥30min。4.如权...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘超，郭云岚，
申请(专利权)人：武汉理工大学，
类型：发明
国别省市：