一种抛光机的底座制造技术

本实用新型专利技术属于抛光机技术领域，具体是一种抛光机的底座，包括底座本体、支撑架、车轮、减震垫、抛光机限位机构，底座本体上设有凹槽，凹槽底部设有缓震垫，底座本体沿凹槽的外边缘设有抛光机限位机构，底座本体下部设有支撑架，支撑架下部设有减震垫，车轮与支撑架的折叠支架连接，支撑架包括支撑底板、翻转轴、固定套筒，翻转轴穿过支撑底板，翻转轴与支撑底板连接，固定套筒套设在翻转轴两侧，固定套筒的一端设置在支撑底板内。同现有技术相比，采用翻转轴与车轮移动抛光机，需要工作时将车轮折叠翻起，使减震垫与底面接触，降低抛光机工作中产生的震动，保证了生产的可靠性。保证了生产的可靠性。保证了生产的可靠性。

A base of polishing machine

【技术实现步骤摘要】
一种抛光机的底座


[0001]本技术属于抛光机
，具体是一种抛光机的底座。

技术介绍

[0002]现有的小型抛光机常直接通过在底座设置车轮来实现抛光机的移动，抛光磨轮需要高速的旋转且与待抛光机件的接触，所以抛光机会产生震动，虽然震动微小，但产生了对被抛光固件表面组织损坏的风险，而小型抛光机的车轮通常会增加抛光机的震动幅度。
[0003]因此，需要设计一种抛光机底座，可以满足抛光机在工作过程中可沿工作线移动的需求并降低工作中产生的震动。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是克服现有技术的不足，提供了一种抛光机的底座，可以满足抛光机在工作过程中可沿工作线移动的需求并降低工作中产生的震动。
[0005]为达到上述目的，本技术是一种抛光机的底座，包括底座本体、支撑架、车轮、减震垫、抛光机限位机构，底座本体上设有凹槽，凹槽底部设有缓震垫，底座本体沿凹槽的外边缘设有抛光机限位机构，底座本体下部设有支撑架，支撑架下部设有减震垫，车轮与支撑架的折叠支架连接，支撑架包括支撑底板、翻转轴、固定套筒，翻转轴穿过支撑底板，翻转本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抛光机的底座，包括底座本体（1）、支撑架（2）、车轮（3）、减震垫（4）、抛光机限位机构（5），其特征在于：底座本体（1）上设有凹槽，凹槽底部设有缓震垫（1
‑
1），底座本体（1）沿凹槽的外边缘设有抛光机限位机构（5），底座本体（1）下部设有支撑架（2），支撑架（2）下部设有减震垫（4），车轮（3）与支撑架（2）的翻转轴（2
‑
2）连接，支撑架（2）包括支撑底板（2
‑
1）、翻转轴（2
‑
2）、固定套筒（2
‑
3），翻转轴（2
‑
2）穿过支撑底板（2
‑
1），翻转轴（2
‑
2）与支撑底板（2
‑
1）连接，固定套筒（2
‑<...

【专利技术属性】
技术研发人员：马军，
申请(专利权)人：上海新朋涂装有限公司，
类型：新型
国别省市：