光学膜的制造方法技术

本发明专利技术的目的在于制造局部膜厚变化了的缺陷少的光学膜。在本发明专利技术的光学膜的制造方法中，从挠性基材的卷绕体(2)将具备制膜面(11)和背面(12)的长状的基材(1)退卷，向下游侧连续地运送，将基材(1)的背面(12)清洗后，在基材(1)的制膜面(11)上涂布液晶材料。在基材的背面与清洗辊(41)之间供给清洗液，利用清洗辊将清洗液涂布展开在基材上，由此清洗基材背面。由此清洗基材背面。由此清洗基材背面。

【技术实现步骤摘要】
光学膜的制造方法
[0001]本申请是申请人提交的申请号为201610076537.5、专利技术名称为“光学膜的制造方法”的申请的分案申请。母案申请日为2016年2月3日，优先权日为2015年2月16日。


[0002]本专利技术涉及一种使用了液晶材料的光学膜的制造方法。

技术介绍

[0003]液晶材料的光学各向异性比通常的树脂材料大，因此在将其用于相位差膜、偏振片等光学膜的情况下，能够减小膜厚，并且对器件的薄型化、轻量化有利。通过在膜基材上涂布液晶材料(液晶单体和/或液晶聚合物)，并根据需要进行液晶单体的聚合、液晶材料的取向处理、溶剂除去(干燥)等，形成液晶层，由此来制造液晶光学膜。
[0004]在光学膜的制造中发现了下述问题：附着于基材上的异物等混入涂布层与基材的界面、涂布层中，成为光学缺陷。另外，在利用液晶材料的光学膜的制造中还存在下述问题：若在基材上存在异物，则在涂布于其上的液晶产生取向缺陷、突起缺陷。
[0005]因此，提出了在对基材的涂布面进行清洗而除去异物后再涂布液晶材料的方法。作为除去附着于基材的异物的方法，已知：使用超声波空气的方法(例如专利文献1)、喷吹清洗气体的方法(例如专利文献2)、水洗基材的方法(例如专利文献3)、与粘合辊接触的方法(例如专利文献4)等。
[0006]在使用为了使液晶分子沿规定方向取向而实施了摩擦处理的基材的情况下，由于在基材表面附着大量异物，因此为了除去附着异物而在液晶材料的涂布前进行清洗处理。由于对实施过摩擦等取向处理的基材的表面无法进行擦洗，因此通常采用非接触的清洗方法。例如在专利文献5中公开了对实施过取向处理的基材的表面照射紫外线而除去附着异物的方法。
[0007]现有技术文献
[0008]专利文献
[0009]专利文献1：日本特开平10
‑
309553号公报
[0010]专利文献2：日本特开2009
‑
66982号公报
[0011]专利文献3：日本特开2007
‑
105662号公报
[0012]专利文献4：日本特开平9
‑
304621号公报
[0013]专利文献5：日本特开2003
‑
4948号公报

技术实现思路

[0014]专利技术要解决的课题
[0015]在像液晶光学膜那样形成于基材的涂布层的膜厚小的光学膜上有时产生点状的干涉不均之类的缺点(以下，有时称作“点状不均”)。根据本专利技术人等的研究，通过对基材的表面(液晶层的形成面)进行清洗，可以降低源自液晶层、或者液晶层与基材的界面的各种
缺陷，但是点状不均的发生数几乎看不到变化。
[0016]进一步进行了研究，结果：在发生点状不均的部分，膜的膜厚会局部变小，有时会周期性地体现在基材的运送方向(MD)上，推定为由附着于涂布辊的异物所致的影响。为此，本专利技术人等通过使异物除去用刀片(刮刀)与在基材上涂布液晶材料时的涂布辊接触来进行辊表面的清扫，尝试了点状不均的减少。但是，在清扫辊表面的方法中，无法明确地确认点状不均的降低效果。
[0017]鉴于上述情况，本专利技术的目的在于：在基材上形成液晶层的光学膜的制造中，减少局部膜厚变小的“点状不均”缺陷的发生，得到高品质的光学膜。
[0018]用于解决课题的手段
[0019]鉴于上述情况进行研究，结果发现：在将基材抽出后直至涂布液晶材料的期间，对基材的制膜面和相反侧的面(背面)进行在线清洗，由此点状不均减少。进一步研究的结果发现通过利用清洗液使基材的背面与辊接触同时进行湿式清洗，由此使点状不均大幅减少，从而完成了本专利技术。
[0020]本专利技术涉及使用了液晶材料的光学膜的制造方法。在本专利技术的光学膜的制造方法中，从挠性基材的卷绕体将长状的基材退卷，向下游侧连续地运送(抽出工序)。基材具有作为制膜面的第一主面和作为制膜面的背面的第二主面。在本专利技术的制造方法中，将基材的第二主面清洗(清洗工序)，其后，在基材的第一主面上涂布液晶材料(制膜工序)。
[0021]在清洗工序中，在基材的背面与清洗辊之间供给清洗液，利用清洗辊将清洗液涂布展开在基材上，由此进行清洗。清洗辊优选在表面具有凹凸图案，其中，优选使用凹凸图案的凸部与辊的圆周方向非平行地延伸存在的清洗辊。认为：像这样，在本专利技术中，通过隔着清洗液使清洗辊与基材的背面接触来进行湿式清洗，由此附着于基材的背面的异物被除去，点状不均减少。
[0022]作为在本专利技术中使用的清洗辊的例子，可举出凹版辊、线棒辊等。另外，作为清洗液，优选使用沸点比水低的高挥发性液体。
[0023]专利技术效果
[0024]根据本专利技术的制造方法，能够得到膜厚局部变小的“点状不均”缺陷的发生被抑制的高品质的光学膜。
附图说明
[0025]图1是表示光学膜制膜装置的一个实施方式的示意图。
[0026]图2是用于说明凹版辊的表面形状的示意俯视图。
[0027]图3A是用于说明线棒辊的表面形状的示意俯视图。
[0028]图3B是图3A的线棒辊的B1
‑
B2线的剖视图。
具体实施方式
[0029]图1是表示本专利技术的光学膜的制造中使用的制膜装置的一个实施方式的示意图。在图1所示的制膜装置100中，长状的基材的卷绕体2设置于抽出部10。从卷绕体2退卷的基材1从抽出部10向制膜装置的下游侧连续地运送，经过导辊51、52，向设置于导辊52的下游侧的清洗部40运送(抽出工序)。在清洗部40，清洗基材1的背面(清洗工序)。将清洗后的基
材1进一步向下游侧运送，经过导辊54，向制膜部60运送，进行在基材上的液晶材料的涂布(制膜工序)。
[0030][基材][0031]基材1只要具有挠性即可，优选使用机械强度、热稳定性、阻水性等优异的基材。基材具有第一主面和第二主面，在第一主面上形成液晶层。以下，在本说明书中，将第一主面称为“制膜面”，将作为其相反侧的面的第二主面称为“背面”。
[0032]作为基材，使用例如树脂膜、金属箔、纸、布和它们的层叠体等。其中，由于表面平滑性优异且来自基材本身的异物的产生少，因此优选使用树脂膜。
[0033]作为构成基材膜的树脂材料，可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯类；二乙酰纤维素、三乙酰纤维素等纤维素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物；聚苯乙烯、丙烯腈
‑
苯乙烯共聚物等苯乙烯系聚合物；聚乙烯、聚丙烯、乙烯
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丙烯共聚物等聚烯烃；聚降冰片烯等环状聚烯烃；尼龙、芳香族聚酰胺等酰胺系聚合物；聚碳酸酯；氯乙烯；酰亚胺系聚合物；砜系聚合物；聚醚砜；聚醚醚酮；聚苯硫醚；乙烯醇系聚合物；氯乙烯；环氧系聚合物等。其中，优选使用在涂布液晶材料时不溶解于溶剂的树脂材料。
[0034]基材可以为无色透明，也可以为有色或不透明。在基材上形成液晶层后，将基材与液晶层的层叠体作为光学膜供于实用的情况下，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学膜的制造方法，其具有：抽出工序，从挠性基材的卷绕体将具备第一主面和第二主面的长状的基材退卷，并向下游侧连续地运送；清洗工序，仅对所述基材的第二主面进行清洗；和制膜工序，在所述基材的第一主面上涂布液晶材料，在所述清洗工序中，使清洗液附着于清洗辊的表面、在所述基材的第二主面与清洗辊之间供给清洗液，利用所述清洗辊将所述清洗液在基材的第二主面上涂布展开，由此进行所述基材的第二主面的清洗，所述清洗辊为在表面具有凹凸图案、所述凹凸图案的凸部与辊的圆周方向非平行地延伸存在的凹版辊或线棒辊，所述光学膜包含液晶层，所述液晶层的膜厚为0.1μm～20μm。...

【专利技术属性】
技术研发人员：铃木畅，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：