一种多晶硅还原炉底盘激光清洗设备制造技术

本实用新型专利技术涉及多晶硅生产设备技术领域，尤其涉及一种多晶硅还原炉底盘激光清洗设备，其包括:车架，其上设有行走轮；回转机构包括：回转支架和回转驱动组件；回转支架能够枢转地设在车架上；回转驱动组件设在车架上，与回转支架传动连接；直线移动机构设在回转支架上，能够沿回转支架直线移动；自转机构包括：自转支架和自转驱动组件；自转支架能够枢转地设在直线移动机构上；自转驱动组件设在直线移动机构上，与自转支架传动连接；智能识别系统设在回转支架上；激光清洗头设在自转支架上；自转支架上固定地设有防护罩；防护罩的顶部设有吸尘口；防护罩的顶部设置有气体入口。采用本实用新型专利技术能够改善清洗效果，提升清洗效率。提升清洗效率。提升清洗效率。

A laser cleaning equipment for polysilicon reduction furnace chassis

【技术实现步骤摘要】
一种多晶硅还原炉底盘激光清洗设备


[0001]本技术涉及多晶硅生产设备
，尤其涉及一种多晶硅还原炉底盘激光清洗设备。

技术介绍

[0002]在生产多晶硅的生产技术中，改良西门子法为主要的生产方法。多晶硅还原炉是多晶硅生产中产出最终产品的核心设备，也是决定系统产能、能耗的关键环节。多晶硅还原炉在生成多晶硅硅棒的过程中，会在电极和底盘上不断形成坚硬的垢层；垢层的存在会对还原炉的绝缘性能产生严重影响；同时，还原炉反射面的反射效率降低，影响其能耗指标，而且会对产品质量产生严重影响；所以对垢层必须及时清理。
[0003]目前主要依靠操作人员采取清理工具进行清理；一般通过铲刀刮、榔头敲、砂纸磨等进行清理作业；这种清理方式不仅会对还原炉的底盘造成损伤，而且，作业时还原炉底盘上会有各种有毒气体溢出或残留，给清理人员带来健康和安全风险。这种清理方式清理效率低，效果也不好，甚至会导致还原炉底盘上的管路堵死；并且，清理后的粉尘又有污染十万级洁净车间的风险。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本技术提供一种多晶硅还原炉底盘激光清洗设备，主要本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多晶硅还原炉底盘激光清洗设备，其特征在于，包括:车架、回转机构、直线移动机构、智能识别系统、自转机构、激光清洗头和控制系统；所述车架为龙门结构；所述车架上设置有行走轮，以支撑所述车架移动；所述回转机构包括：回转支架和回转驱动组件；所述回转支架能够枢转地设置在所述车架上；所述回转驱动组件固定地设置在所述车架上，与所述回转支架传动连接，用于驱动所述回转支架转动；所述直线移动机构设置在所述回转支架上，能够沿所述回转支架直线移动；所述自转机构包括：自转支架和自转驱动组件；所述自转支架能够枢转地设置在所述直线移动机构上；所述自转驱动组件设置在所述直线移动机构上，与所述自转支架传动连接，用于驱动所述自转支架转动；所述智能识别系统设置在所述回转支架上，用于采集还原炉底盘的图像信息；所述激光清洗头设置在所述自转支架上；所述自转支架上固定地设置有防护罩；所述防护罩为上端封闭，下端具有开口的圆筒状结构；所述防护罩包围地设置在所述激光清洗头的外侧；所述防护罩的顶部设置有吸尘口；所述吸尘口通过吸尘管与负压吸尘机构连通；所述防护罩的顶部设置有气体入口；所述气体入口通过气管与氮气源连通；所述控制系统与所述智能识别系统连接，以接收所述智能识别系统采集的信息，并进行计算分析；所述控制系统与所述回转机构、所述直线移动机构、所述自转机构分别连接，以进行控制。2.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉底盘激光清洗设备，其特征在于，所述直线移动机构包括：移动驱动组件和移动支架；所述移动驱动组件包括：滚珠丝杠副和移动电机；所述滚珠丝杠副的丝杠能够转动地设置在所述回转支架上；所述移动电机固定设置在所述回转支架上，与所述滚珠丝杠副的丝杠传动连接；所述移动支架能够滑动地设置在所述回转支架上，用于支撑所述自转支架；所...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁建，谭忠芳，杨涛，莫可璋，
申请(专利权)人：新疆大全新能源股份有限公司，
类型：新型
国别省市：