一种提高工艺稳定性和水质的超纯水的制备工艺制造技术

技术编号:34170180 阅读:105 留言:0更新日期:2022-07-17 10:34
本发明专利技术公开了一种提高工艺稳定性和水质的超纯水的制备工艺,包括1级反渗透系统中电动比例阀和泵均由PLC系统控制;PLC系统监控UF超滤系统中超滤的出水SDI值和产水压差,当SDI升高到一定值,进行反冲洗,当产水压差达到一定值进行化学清洗;监控进入MB再生混床的原水的Ph值,调节进水Ph值;监控TOC的进出口电阻值,动态调节抛光树脂罐体数量;监控系统的水温温差变化小于5℃;本发明专利技术提供的超纯水工艺可以提高超纯水系统的产水稳定性、减少工艺废水的排放,提高系统的产水率,此外智能超纯水工艺使超纯水系统更加完善,满足半导体行业对超纯水系统更稳定,更可靠,水质更严苛的要求。水质更严苛的要求。水质更严苛的要求。

A preparation process of ultra pure water to improve process stability and water quality

【技术实现步骤摘要】
一种提高工艺稳定性和水质的超纯水的制备工艺


[0001]本专利技术涉及超纯水制备
,具体是一种提高工艺稳定性和水质的超纯水的制备 工艺。

技术介绍

[0002]随着电子工业的发展,在芯片的生产加工过程中,对于水质的要求也越来越高。为了 保证生产出超大规模的集成电路,除高纯原材料、高纯气体、高纯化学药品外,高纯水也 是其中最关键的因素之一。现有提高工艺稳定性和水质的超纯水的制备工艺设备流程图如 图1所示,包括原水箱、自清洗叠片滤器、UF超滤系统、过滤水箱、热交换、2B3T去离 子、去离子水箱、UV杀菌、1级RO、RO水箱、TOC

UV、MDG脱气膜、MB再生混床、 后端过滤器、超纯水箱、冷水板换、MDG

2脱气膜,TOC去除器、脱硼抛光混床、2级抛 光混床、终端UF和RO浓水回收系统;按照功能性系统分类,整个超纯水制备系统如图2 所示,包括加药系统、自清洗过滤器、热交换系统、UF超滤系统、2B3T系统、UV系统、 RO系统、脱气膜系统、CEDI系统、TOC

UV系统、唾沫抛光混床、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种提高工艺稳定性和水质的超纯水的制备工艺,其特征在于,所述制备工艺包括如下步骤:步骤一、1级反渗透系统的背压阀门采用可以根据温度和产水水质进行动态调整的电动比例阀;电动比例阀和泵均由PLC系统控制;步骤二、PLC系统监控UF超滤系统中超滤的出水SDI值和产水压差,当SDI升高到一定值,进行反冲洗,当产水压差达到一定值进行化学清洗;步骤三、监控进入MB再生混床的原水的Ph值,调节进水Ph值;步骤四、监控TOC的进出口电阻值,动态调节抛光树脂罐体数量;步骤五、监控系统监控水温变化并且保持水温温差变化小于5℃。2.根据权利要求1所述的一种提高工艺稳定性和水质的超纯水的制备工艺,其特征在于,所述步骤一中当水温为25℃时,背压阀背压为8Bar。3.根据权利要求1所述的一种提高工艺稳定性和水质的超纯水的制备工艺,其特征在于,所述步骤一中当水温降低时,PLC系统提高泵的频率。4.根据权利要求1所述的一种提高工艺稳定性和水质的超纯水的制备工艺,其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员:张银良黄香夏江华季胜杰郁春
申请(专利权)人:上海源众环保科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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