一种点源蒸镀装置及共蒸镀膜层点源蒸镀结构制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种点源蒸镀装置及共蒸镀膜层点源蒸镀结构，其包括点源系统和晶振系统，点源系统包括第一点源滑轨，所述第一点源滑轨上滑动连接有至少两个点源；所述晶振系统包括第一晶振滑轨，所述第一晶振滑轨上滑动连接有至少两个晶振；所述第一点源滑轨上的工作位和第一晶振滑轨上的工作位对应设置；进行蒸镀时，将其中一个点源推送至第一点源滑轨的工作位上，同时将配套的晶振推送至第一晶振滑轨的工作位上。本实用新型专利技术采用轮替式点源蒸镀的设计，保持蒸镀角不变，膜厚均匀的部分可完好地叠加到一起，降低精细金属掩膜板的蒸镀补充调整难度，同一个器件或面板中的光电性能分布均匀，降低器件或面板的损害风险，提高器件或面板的寿命。面板的寿命。面板的寿命。

A point source evaporation device and a point source evaporation structure for CO evaporation coating

【技术实现步骤摘要】
一种点源蒸镀装置及共蒸镀膜层点源蒸镀结构


[0001]本技术涉及蒸镀领域，尤其涉及一种点源蒸镀装置及共蒸镀膜层点源蒸镀结构。

技术介绍

[0002]在有机发光二极管OLED 显示器具备低功耗，宽视角，广色域，响应速度快，超轻期薄等特点，在高性能的显示区域，作为自主发光的器件发展越来越迅速。
[0003]目前采用蒸镀方式制备OLED器件成为目前主流的OLED器件制备方式，蒸镀设备根据蒸镀源的种类又分为线源和点源，其中线源广泛应用于大型蒸镀机，点源用于中小型蒸镀机，但由于点源蒸镀角变化的局限性，使得其在蒸镀发光层时会在子像素内产生严重的膜厚不均，最后导致器件或面板产生显色不均的现象，导致蒸镀良率降低。
[0004]在子像素大小接近于（子像素的长或宽小于3倍的掩膜厚度时）掩膜厚度的时候,由于点源蒸镀过程中，蒸镀角的变化，导致子像素内的膜厚分布不均，而来自各个方向上的蒸镀源膜厚不均，膜厚均匀的部分无法地完好地叠加到一起，使得精细金属掩膜板的蒸镀补偿调整难度增加，同一个器件或面板中的光电性能分布不均，增加器件或面板的损害风险，导致器件或面板的寿命降低。

技术实现思路

[0005]为克服现有技术中的不足，本技术的目的在于提供一种点源蒸镀装置及共蒸镀膜层点源蒸镀结构，可降低膜厚不均叠加导致的器件或面板产生显色不均的风险，提高产品良率。
[0006]为实现上述目的，本技术采用以下技术方案：
[0007]一种点源蒸镀装置，其包括点源系统和晶振系统，点源系统包括第一点源滑轨，所述第一点源滑轨上形成工作位和等待位，所述第一点源滑轨上滑动连接有至少两个点源；所述晶振系统包括第一晶振滑轨，所述第一晶振滑轨上形成工作位和等待位，所述第一晶振滑轨上滑动连接有至少两个晶振；所述第一点源滑轨上的工作位和第一晶振滑轨上的工作位对应设置；进行蒸镀时，将其中一个点源推送至第一点源滑轨的工作位上，同时将配套的晶振推送至第一晶振滑轨的工作位上。
[0008]进一步的，本技术还包括设于第一点源滑轨工作位两侧的蒸镀间隔板，两侧的蒸镀间隔板由升降驱动器驱动升降。
[0009]一种共蒸镀膜层点源蒸镀结构，其包括至少两个上述的点源蒸镀装置，各点源蒸镀装置的点源系统分别滑动连接于第二点源滑轨上，各点源蒸镀装置的晶振系统分别滑动连接于第二晶振滑轨上。
[0010]本技术采用以上技术方案，具有以下有益技术效果：采用轮替式点源蒸镀的设计，蒸镀时可在同一位置切换不同的蒸镀源，在蒸镀不同的材料或膜层的时候，保持蒸镀角不变，膜厚均匀的部分可完好地叠加到一起，降低精细金属掩膜板的蒸镀补充调整难度，
同一个器件或面板中的光电性能分布均匀，降低器件或面板的损害风险，提高器件或面板的寿命。
附图说明
[0011]以下结合附图和具体实施方式对本技术做进一步详细说明；
[0012]图1为本技术一种点源蒸镀装置的示意图；
[0013]图2为本技术一种共蒸镀膜层点源蒸镀结构的示意图。
具体实施方式
[0014]请参照图1和图2，本技术一种点源蒸镀装置，其包括点源系统1和晶振系统2，点源系统1包括第一点源滑轨11，所述第一点源滑轨11上形成工作位和等待位，所述第一点源滑轨11上滑动连接有至少两个点源12；所述晶振系统2包括第一晶振滑轨21，所述第一晶振滑轨21上形成工作位和等待位，所述第一晶振滑轨21上滑动连接有至少两个晶振22；所述第一点源滑轨11上的工作位和第一晶振滑轨21上的工作位对应设置，均位于中间位置；进行蒸镀时，将其中一个点源12推送至第一点源滑轨11的工作位上，同时将配套的晶振22推送至第一晶振滑轨21的工作位上。
[0015]本技术还包括设于第一点源滑轨11工作位两侧的蒸镀间隔板3，两侧的蒸镀间隔板3由升降驱动器（可以是气缸）驱动升降，蒸镀时，再将蒸镀间隔板3放下即可进行蒸镀，避免蒸镀过程中受外部环境干扰，有助于保持一个固定的蒸镀角和稳定的蒸镀材料浓度。
[0016]本技术中涉及到的点源或晶振在滑轨上的移送均可以采用人工推送或设备推送，比如采用气缸、马达等实现。
[0017]如图2所示，对于共蒸镀的膜层材料需要多个点源蒸镀装置的配合，故在点源蒸镀装置的基础上进行拓展，即可分为至少两个点源蒸镀装置、第二点源滑轨4和第二晶振滑轨5的组合，工位分为工作位、等待位和空位，各点源蒸镀装置的点源系统1分别滑动连接于第二点源滑轨4上，各点源蒸镀装置的晶振系统2分别滑动连接于第二晶振滑轨5上。蒸镀时直接将点源蒸镀装置整体移动至工作位即可。另外，等待位也可当作正常蒸镀的点源使用。
[0018]上面结合附图对本技术的实施加以描述，但是本技术不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式是示意性而不是加以局限本技术，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本技术各实施例技术方案的范围，其均应涵盖在本技术的权利要求和说明书的范围当中。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种点源蒸镀装置，其特征在于：其包括点源系统和晶振系统，点源系统包括第一点源滑轨，所述第一点源滑轨上形成工作位和等待位，所述第一点源滑轨上滑动连接有至少两个点源；所述晶振系统包括第一晶振滑轨，所述第一晶振滑轨上形成工作位和等待位，所述第一晶振滑轨上滑动连接有至少两个晶振；所述第一点源滑轨上的工作位和第一晶振滑轨上的工作位对应设置；进行蒸镀时，将其中一个点源推送至第一点源滑轨的工作位上，同时...

【专利技术属性】
技术研发人员：庄丹丹，孙玉俊，
申请(专利权)人：福建华佳彩有限公司，
类型：新型
国别省市：