一种点源蒸镀装置及共蒸镀膜层点源蒸镀结构制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种点源蒸镀装置及共蒸镀膜层点源蒸镀结构，其包括点源系统和晶振系统，点源系统包括第一点源滑轨，所述第一点源滑轨上滑动连接有至少两个点源；所述晶振系统包括第一晶振滑轨，所述第一晶振滑轨上滑动连接有至少两个晶振；所述第一点源滑轨上的工作位和第一晶振滑轨上的工作位对应设置；进行蒸镀时，将其中一个点源推送至第一点源滑轨的工作位上，同时将配套的晶振推送至第一晶振滑轨的工作位上。本实用新型专利技术采用轮替式点源蒸镀的设计，保持蒸镀角不变，膜厚均匀的部分可完好地叠加到一起，降低精细金属掩膜板的蒸镀补充调整难度，同一个器件或面板中的光电性能分布均匀，降低器件或面板的损害风险，提高器件或面板的寿命。面板的寿命。面板的寿命。

A point source evaporation device and a point source evaporation structure for CO evaporation coating

【技术实现步骤摘要】
一种点源蒸镀装置及共蒸镀膜层点源蒸镀结构


[0001]本技术涉及蒸镀领域，尤其涉及一种点源蒸镀装置及共蒸镀膜层点源蒸镀结构。

技术介绍

[0002]在有机发光二极管OLED 显示器具备低功耗，宽视角，广色域，响应速度快，超轻期薄等特点，在高性能的显示区域，作为自主发光的器件发展越来越迅速。
[0003]目前采用蒸镀方式制备OLED器件成为目前主流的OLED器件制备方式，蒸镀设备根据蒸镀源的种类又分为线源和点源，其中线源广泛应用于大型蒸镀机，点源用于中小型蒸镀机，但由于点源蒸镀角变化的局限性，使得其在蒸镀发光层时会在子像素内产生严重的膜厚不均，最后导致器件或面板产生显色不均的现象，导致蒸镀良率降低。
[0004]在子像素大小接近于（子像素的长或宽小于3倍的掩膜厚度时）掩膜厚度的时候,由于点源蒸镀过程中，蒸镀角的变化，导致子像素内的膜厚分布不均，而来自各个方向上的蒸镀源膜厚不均，膜厚均匀的部分无法地完好地叠加到一起，使得精细金属掩膜板的蒸镀补偿调整难度增加，同一个器件或面板中的光电性能分布不均，增加器件或面板的损害风险，导致器件或面本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种点源蒸镀装置，其特征在于：其包括点源系统和晶振系统，点源系统包括第一点源滑轨，所述第一点源滑轨上形成工作位和等待位，所述第一点源滑轨上滑动连接有至少两个点源；所述晶振系统包括第一晶振滑轨，所述第一晶振滑轨上形成工作位和等待位，所述第一晶振滑轨上滑动连接有至少两个晶振；所述第一点源滑轨上的工作位和第一晶振滑轨上的工作位对应设置；进行蒸镀时，将其中一个点源推送至第一点源滑轨的工作位上，同时...

【专利技术属性】
技术研发人员：庄丹丹，孙玉俊，
申请(专利权)人：福建华佳彩有限公司，
类型：新型
国别省市：