一种高解析度的5T2CLTPO内部补偿电路及其控制方法技术

技术编号:34141794 阅读:13 留言:0更新日期:2022-07-14 18:00
本发明专利技术公开一种高解析度的5T2C LTPO内部补偿电路及其控制方法,其包括晶体管T1、晶体管T2、晶体管T3、晶体管T4、晶体管T5、电容C1、电容C2和发光二极管OLED,晶体管T2和晶体管T3均为多晶硅薄膜晶体管且均设置于基板与介质层之间,晶体管T1、晶体管T4和晶体管T5均为氧化物薄膜晶体管且均设置于介质层上方;本发明专利技术的补偿电路消除V

A high resolution 5t2cltpo internal compensation circuit and its control method

【技术实现步骤摘要】
一种高解析度的5T2C LTPO内部补偿电路及其控制方法


[0001]本专利技术涉及面板显示
,尤其涉及一种高解析度的5T2C LTPO内部补偿电路及其控制方法。

技术介绍

[0002]随着科技的发展以及人生活水平的提升,人们对显示器的面板有了更高的要求,OLED面板也因此诞生,由于OLED电路是通过控制电流的大小来控制面板的显示亮度,因此补偿Vth成了OLED电路设计中的一个重要课题;同时像素的大小也会影响显示屏的解析度,因此为了拥有更高的面板清晰度,需要减少像素的大小,减少TFT所占面积是减少像素大小的关键。
[0003]传统的5T2C补偿电路如图1所示,此电路不能让像素有足够小的占据面积,导致其解析度不够高。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种高解析度的5T2C LTPO内部补偿电路及其控制方法。
[0005]本专利技术采用的技术方案是:一种高解析度的5T2C LTPO内部补偿电路,其包括晶体管T1、晶体管T2、晶体管T3、晶体管T4、晶体管T5、电容C1、电容C2和发光二极管OLED,晶体管T2和晶体管T3均为多晶硅薄膜晶体管且均设置于基板与介质层之间,晶体管T1、晶体管T4和晶体管T5均为氧化物薄膜晶体管且均设置于介质层上方;晶体管T1的栅极接第一扫描信号,晶体管T1的源极接数据信号,晶体管T1的漏极分别与电容C1的一端、晶体管T2的栅极和晶体管T5的源极点连接,电容C1的另一端分别连接晶体管T4的源极、电容C2的一端和发光二极管OLED的阳极;晶体管T4的栅极连接重置信号Reset,晶体管T4的源极连接电压Vsus;晶体管T5的栅极接第二扫描信号,晶体管T5的源极连接基准电压Vref;电容C2的另一端连接发光二极管OLED的阴极;晶体管T2的漏极连接晶体管T3的源极,晶体管T3的漏极连接电源正极OVDD,晶体管T3的栅极连接使能信号EM;晶体管T2的源极连接发光二极管OLED的阳极,光二极管OLED的阴极接电源负极OVSS。
[0006]进一步地,晶体管T1、晶体管T2、晶体管T3、晶体管T4和晶体管T5均为薄膜晶体管。
[0007]进一步地,第一扫描信号和第二扫描信号由 GPIO电路产生。
[0008]进一步地,补偿电路包括IC芯片,IC芯片产生第一扫描信号(Scan1)和第二扫描信号(Scan2);IC芯片通过扫第一扫描信号控制晶体管T1通断;IC芯片通过第二扫描信号控制晶体管T5通断。
[0009]进一步地,所述电容C1设置于介质层上方,电容C2设置于基板与介质层之间。
[0010]进一步地,还包括穿透介质层的第一连接线、第二连接线和第三连接线,晶体管T1的漏极与晶体管T2的栅极之间通过第一连接线连接,电容C2的一端通过第二连接线连接发
光二极管OLED的阳极,电容C2的另一端通过第三连接线连接发光二极管OLED的阴极。
[0011]一种高解析度的5T2C LTPO内部补偿电路的控制方法,包括以下步骤:步骤S1、在第一阶段重置阶段,控制晶体管T1的栅极和晶体管T3的栅极输入高电平,控制晶体管T2的栅极、晶体管T4的栅极和晶体管T5的栅极均输入低电平;步骤S2、在第二阶段补偿阶段,控制晶体管T1的栅极和晶体管T4的栅极输入高电平,控制晶体管T2的栅极、晶体管T3的栅极和晶体管T5的栅极均输入低电平;步骤S3、在第三阶段数据写入阶段,控制晶体管T1的栅极和晶体管T2的栅极输入低电平,控制晶体管T3的栅极、晶体管T4的栅极和晶体管T5的栅极均输入高电平;步骤S4、在第四阶段发光阶段,控制晶体管T1的栅极、晶体管T4的栅极和晶体管T5的栅极均输入高电平,控制晶体管T2的栅极和晶体管T3的栅极输入低电平;进一步地,步骤S1中在第一阶段重置阶段,第二扫描信号和重置信号Reset输入低电压,晶体管T2、 T4和T5打开,晶体管T4输入电压Vsus,晶体管T5输入基准电压Vref,V
G
=Vref, V
S
=Vsus;进一步地,步骤S2中第二阶段补偿阶段,重置信号Reset、第一扫描信号和使能信号EM输入高电压,第二扫描信号输入低电压,晶体管T2、T3和T5打开,晶体管T5输入Vref,V
G
=Vref,S点电压V
S
由Vsus上升到Vref

V
TH
时晶体管T2关闭,即V
S
=Vref

V
TH
,这样就补到一个V
TH

[0012]进一步地,步骤S3中在第三阶段数据写入阶段,重置信号 Reset和第二扫描信号输入高电压,第一扫描信号和使能信号EM输入低电压,晶体管T1和T2打开,晶体管T1输入数据信号V
DATA
,V
G
=V
DATA

[0013]进一步地,步骤S3中由于电容的耦合作用,S点电压被耦合到Vref

V
TH
+[C1/(C1+C2)](V
DATA

Vref),即V
S
= Vref

V
TH
+[C1/(C1+C2)](V
DATA

Vref)。
[0014]进一步地,步骤S3中在第四阶段发光阶段,第一扫描信号、第二扫描信号、使能信号EM和重置信号Reset均输入高电压,晶体管T2和T3打开。
[0015]进一步地,步骤S4中S点电压因为OLED发光导致从Vref

V
TH
+[C1/(C1+C2)](V
DATA

Vref)变为V
OLED
+OVSS,即V
S
=V
OLED
+OVSS。
[0016]进一步地,第一阶段重置阶段、第二阶段补偿阶段、第三阶段数据写入阶段和第四阶段发光阶段为依次连续的时间段。
[0017]本专利技术采用以上技术方案,相较于现有技术具有如下优点:1)可补偿Driving TFT(T6)的V
TH
,改善了由V
TH
漂移引发的不良问题。(2)OLED发光电流只与V
DATA
和Vref有关,排除了VDD,VSS,V
OLED
等不良因子对电流的影响,大大增加了OLED发光电流的稳定性。(3)此LTPO架构可减少Pixel所占面积,增加解析度,提高PPI,改善显示效果。
附图说明
[0018]以下结合附图和具体实施方式对本专利技术做进一步详细说明;图1为传统的5T2C补偿电路的结构示意图;图2为本专利技术一种高解析度的5T2C LTPO内部补偿电路及其控制方法的结构示意图;图3为本专利技术Top

Gate Oxide与Top

Gate LTPS结构分层示意图;<本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高解析度的5T2C LTPO内部补偿电路,其特征在于:其包括晶体管T1、晶体管T2、晶体管T3、晶体管T4、晶体管T5、电容C1、电容C2和发光二极管OLED,晶体管T2和晶体管T3均为多晶硅薄膜晶体管且均设置于基板与介质层之间,晶体管T1、晶体管T4和晶体管T5均为氧化物薄膜晶体管且均设置于介质层上方;晶体管T1的栅极接第一扫描信号,晶体管T1的源极接数据信号,晶体管T1的漏极分别与电容C1的一端、晶体管T2的栅极和晶体管T5的源极点连接,电容C1的另一端分别连接晶体管T4的源极、电容C2的一端和发光二极管OLED的阳极;晶体管T4的栅极连接重置信号Reset,晶体管T4的源极连接电压Vsus;晶体管T5的栅极接第二扫描信号,晶体管T5的源极连接基准电压Vref;电容C2的另一端连接发光二极管OLED的阴极;晶体管T2的漏极连接晶体管T3的源极,晶体管T3的漏极连接电源正极OVDD,晶体管T3的栅极连接使能信号EM;晶体管T2的源极连接发光二极管OLED的阳极,光二极管OLED的阴极接电源负极OVSS。2. 根据权利要求1所述的一种高解析度的5T2C LTPO内部补偿电路,其特征在于:晶体管T1、晶体管T2、晶体管T3、晶体管T4和晶体管T5均为薄膜晶体管,电容C1设置于介质层上方,电容C2设置于基板与介质层之间。3. 根据权利要求1所述的一种高解析度的5T2C LTPO内部补偿电路,其特征在于:第一扫描信号和第二扫描信号由 GPIO电路产生;或者补偿电路包括IC芯片,IC芯片产生第一扫描信号和第二扫描信号;IC芯片通过扫第一扫描信号控制晶体管T1通断;IC芯片通过第二扫描信号控制晶体管T5通断。4. 根据权利要求1所述的一种高解析度的5T2C LTPO内部补偿电路,其特征在于:还包括穿透介质层的第一连接线、第二连接线和第三连接线,晶体管T1的漏极与晶体管T2的栅极之间通过第一连接线连接,电容C2的一端通过第二连接线连接发光二极管OLED的阳极,电容C2的另一端通过第三连接线连接发光二极管OLED的阴极。5. 一种高解析度的5T2C LTPO内部补偿电路的控制方法,采用根据权利要求1至4任一项所述的一种高解析度的5T2C LTPO内部补偿电路,其特征在于:方法包括以下步骤:步骤S1、在第一阶段重置阶段,控制晶体管T1的栅极和晶体管T3的栅极输入高电平,控制晶体管T2的栅极、晶体管T4的栅极和晶体管T5的栅极均输入低电平;步骤S2、在第二阶段补偿阶段,控制晶体管T1的栅极和晶体管T4的栅极输入高电平,控制晶体管T2...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘焱鑫贾浩罗敬凯
申请(专利权)人:福建华佳彩有限公司
类型:发明
国别省市:

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